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公开(公告)号：CN1768161A
公开(公告)日：2006-05-03
申请号：CN200480008610.0
申请日：2004-02-23
Applicant: 柯尼卡美能达控股株式会社
IPC: C23C16/509 , C23C16/54
Abstract: 一种薄膜形成装置。其具有：第一电极和第二电极，其相互的放电面相对形成放电空间，在上述放电空间内发生高频电场；气体供给部，其向上述放电空间供给含有薄膜形成气的气体，通过高频电场把该气体激活，把基板暴露于上述被激活的气体，以在上述基板上形成薄膜。该薄膜形成装置还具有：膜运送机构，其把用于防止上述第一电极和上述第二电极的至少一方暴露于上述激活的气体中的净化膜，与上述第一电极和上述第二电极的至少一方的放电面及接连于上述放电面的上述放电面以外的表面的至少一部分贴紧运送。
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