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公开(公告)号:CN112543973B
公开(公告)日:2023-03-10
申请号:CN201980052193.6
申请日:2019-06-12
Applicant: 松下知识产权经营株式会社
IPC: G11B7/24038 , G11B7/24053 , G11B7/24067 , G11B7/2433 , G11B7/2578 , G11B7/26
Abstract: 本发明提供一种再生耐久性优异的信息记录介质及其制造方法。一种信息记录介质及其制造方法,所述信息记录介质含2个以上的信息层,通过激光的照射记录或再生信息,其中,将所述2个以上的信息层之中至少一个信息层作为第一信息层,所述第一信息层从距被所述激光照射的面的远侧朝向近侧,按顺序包含第一介电薄膜和记录膜,所述第一介电薄膜中,至少含Zr和氧,还含有从Zn和Sn中选择的至少一种元素D1,将Zr、氧、所述元素D1的原子数共计为100原子%时,含有Zr为3原子%以上且26原子%以下,含有所述元素D1为10原子%以上且43原子%以下,所述记录膜中至少含有W、Cu、Mn、氧,此外还含有从Zn、Nb、Mo、Ta和Ti中选择的至少一种元素M。
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公开(公告)号:CN119384463A
公开(公告)日:2025-01-28
申请号:CN202380046153.7
申请日:2023-06-05
Applicant: 松下知识产权经营株式会社
Abstract: 本公开的一个方案中的复合材料具备基材以及聚多巴胺。在通过傅里叶变换红外光谱得到的复合材料的红外吸收光谱中,将连接3070cm‑1处的测定点与3700cm‑1处的测定点的直线定义为基线时,满足0.66≤HB/HA≤1.1。在此,HA表示从前述红外吸收光谱的3380cm‑1处的测定点到前述基线的垂直距离,HB表示从前述红外吸收光谱的3630cm‑1处的测定点到前述基线的垂直距离。
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公开(公告)号:CN112543973A
公开(公告)日:2021-03-23
申请号:CN201980052193.6
申请日:2019-06-12
Applicant: 松下知识产权经营株式会社
IPC: G11B7/24038 , G11B7/24053 , G11B7/24067 , G11B7/2433 , G11B7/2578 , G11B7/26
Abstract: 本发明提供一种再生耐久性优异的信息记录介质及其制造方法。一种信息记录介质及其制造方法,所述信息记录介质含2个以上的信息层,通过激光的照射记录或再生信息,其中,将所述2个以上的信息层之中至少一个信息层作为第一信息层,所述第一信息层从距被所述激光照射的面的远侧朝向近侧,按顺序包含第一介电薄膜和记录膜,所述第一介电薄膜中,至少含Zr和氧,还含有从Zn和Sn中选择的至少一种元素D1,将Zr、氧、所述元素D1的原子数共计为100原子%时,含有Zr为3原子%以上且26原子%以下,含有所述元素D1为10原子%以上且43原子%以下,所述记录膜中至少含有W、Cu、Mn、氧,此外还含有从Zn、Nb、Mo、Ta和Ti中选择的至少一种元素M。
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公开(公告)号:CN110313032A
公开(公告)日:2019-10-08
申请号:CN201880013428.6
申请日:2018-01-26
Applicant: 松下知识产权经营株式会社
IPC: G11B7/243 , G11B7/26 , G11B7/24018 , G11B7/24038 , G11B7/2578
Abstract: 信息记录介质为通过激光照射来记录或再现信息的信息记录介质,其含有3个以上的信息层。作为3个以上的信息层中的至少一个信息层的第1信息层,从激光照射面观察时由远到近依次含有第1电介质膜、记录膜和第2电介质膜。第1电介质膜含有选自Nb、Mo、Ta、W、Ti、Bi和Ce中的至少一种元素D1的氧化物。记录膜至少含有W、Cu、Mn、氧、以及选自Nb、Mo、Ta和Ti中的至少一种元素M,在记录膜中,除了氧之外的W、Cu、Mn和M满足下述式(1):WxCuyMnzM100-x-y-z(原子%)(1)(式(1)中,15≤x≤60、y≤z、0<z≤40,且60≤x+y+z≤98)。
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公开(公告)号:CN119365415A
公开(公告)日:2025-01-24
申请号:CN202380046155.6
申请日:2023-06-05
Applicant: 松下知识产权经营株式会社
IPC: C01B21/064 , C08F8/42 , C08K9/04 , C08L9/00 , C08L25/10 , C08L65/00 , C08L87/00 , C08L101/00 , C08L101/10 , C08J5/10 , C08J5/24 , B32B15/08 , C08K3/38 , H05K1/03
Abstract: 本公开的一个方案中的氮化硼材料包含氮化硼、附着于氮化硼的聚多巴胺、以及含硅聚合物。含硅聚合物例如包含‑SiR3‑n(OX)n表示的官能团,n为1~3的整数,X表示氢原子、碳数1~10的烃基、与上述聚多巴胺键合的部分、或与除上述官能团的硅原子以外的硅原子键合的部分,X中的至少1个为与上述聚多巴胺键合的部分,R表示碳数1~10的烃基。
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公开(公告)号:CN119343315A
公开(公告)日:2025-01-21
申请号:CN202380046151.8
申请日:2023-06-05
Applicant: 松下知识产权经营株式会社
IPC: C01B21/064 , B32B9/00 , B32B15/08 , C08J5/10 , C08K3/38 , C08L39/04 , C08L65/00 , C08L71/12 , C08L101/00 , H05K1/03
Abstract: 本公开的氮化硼材料(10)具备:C轴方向的厚度为5nm以上的六方晶氮化硼、和附着于六方晶氮化硼的聚合物(2)。采用甲醇滴定法测定的氮化硼材料(10)的溶解度参数低于47.9MPa0.5。本公开的氮化硼材料(10)被使用于填料、树脂组合物、预浸料、带有树脂的膜、带有树脂的金属箔、覆金属层叠板、布线板等应用产品。
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