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公开(公告)号：CN100462223C
公开(公告)日：2009-02-18
申请号：CN02822422.1
申请日：2002-09-24
IPC: B32B27/00 , C08J7/04 , C09D183/02
CPC classification number: C08J7/047 , C08J2483/00 , Y10T428/31612 , Y10T428/31663
Abstract: 提供一种覆有防污薄膜的制品，该制品不管落在其上的雨水量在持续很长时间内具有提供良好的防污性能的能力。该涂覆制品包含在基体上形成的有机硅树脂材料的薄膜。水在薄膜表面上的接触角在5-30°范围内，薄膜的平均表面糙度为5nm或以下。优选的是，有机硅树脂材料是含有胶态二氧化硅和有机硅树脂的组合物，所述有机硅树脂选自4-官能性可水解的有机硅烷的部分水解产物和全部水解产物中的至少一种。该组合物可进一步含有有机锆和/或光学半导体材料。
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公开(公告)号：CN1671798A
公开(公告)日：2005-09-21
申请号：CN03817836.2
申请日：2003-07-24
IPC: C08L83/02 , C09D183/02 , B01J35/02
CPC classification number: C09D183/04 , B01J35/004
Abstract: 本发明提供一种含光催化剂的有机硅树脂组合物，其可在较低的温度(例如，约100℃)下形成具有高透明度、耐用性和光催化性能的膜。该组合物包括TiO2、含锆化合物、可水解的有机硅树脂和含SiO2颗粒的含硅化合物。相对于1重量份TiO2，含锆化合物的含量以其氧化物计为0.005－0.1重量份；相对于1重量份TiO2，含硅化合物的含量以其氧化物计为0.5－6.0重量份；以及相对于1重量份的以可水解的有机硅树脂的氧化物计，SiO2颗粒的含量为0.1－3重量份。
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公开(公告)号：CN100535052C
公开(公告)日：2009-09-02
申请号：CN03817836.2
申请日：2003-07-24
IPC: C08L83/02 , C09D183/02 , B01J35/02
CPC classification number: C09D183/04 , B01J35/004
Abstract: 本发明提供一种含光催化剂的有机硅树脂组合物，其可在较低的温度(例如，约100℃)下形成具有高透明度、耐用性和光催化性能的膜。该组合物包括TiO2、含锆化合物、可水解的有机硅树脂和含SiO2颗粒的含硅化合物。相对于1重量份TiO2，含锆化合物的含量以其氧化物计为0.005-0.1重量份；相对于1重量份TiO2，含硅化合物的含量以其氧化物计为0.5-6.0重量份；以及相对于1重量份的以可水解的有机硅树脂的氧化物计，SiO2颗粒的含量为0.1-3重量份。
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公开(公告)号：CN1732134A
公开(公告)日：2006-02-08
申请号：CN200380108086.X
申请日：2003-10-30
CPC classification number: C03C17/007 , C03C17/002 , C03C17/25 , C03C17/256 , C03C2217/21 , C03C2217/213 , C03C2217/23 , C03C2217/45 , C03C2217/477 , C03C2217/478 , C03C2217/71 , C03C2218/112 , C03C2218/113 , C03C2218/36
Abstract: 本发明提供在建筑用途等的大尺寸玻璃基板表面均匀形成功能性薄膜的方法以及由该方法形成的薄膜被覆玻璃基板。上述大型玻璃基板采用由熔融玻璃流出到Sn浴上并慢慢硬化、形成玻璃平板的浮法工艺制造的大尺寸板状玻璃，在该板状玻璃与Sn浴接触形成的底面上喷涂以醇为溶剂且含有5％质量～15％质量的水的涂布液，一边控制涂布液与该玻璃基板的润湿性一边涂布，形成金属氧化物薄膜。
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公开(公告)号：CN1585697A
公开(公告)日：2005-02-23
申请号：CN02822422.1
申请日：2002-09-24
IPC: B32B27/00 , C08J7/04 , C09D183/02
CPC classification number: C08J7/047 , C08J2483/00 , Y10T428/31612 , Y10T428/31663
Abstract: 提供一种覆有防污薄膜的制品，该制品不管落在其上的雨水量在持续很长时间内具有提供良好的防污性能的能力。该涂覆制品包含在基体上形成的有机硅树脂材料的薄膜。水在薄膜表面上的接触角在5－30°范围内，薄膜的平均表面糙度为5nm或以下。优选的是，有机硅树脂材料是含有胶态二氧化硅和有机硅树脂的组合物，所述有机硅树脂选自4－官能性可水解的有机硅烷的部分水解产物和全部水解产物中的至少一种。该组合物可进一步含有有机锆和/或光学半导体材料。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1171961C
公开(公告)日：2004-10-20
申请号：CN99800514.2
申请日：1999-04-12
Applicant: 松下电工株式会社
IPC: C09D183/00
CPC classification number: C09D183/02 , Y10T428/31663
Abstract: 本发明提供一种在基材表面形成亲水性无机涂膜的方法，它包含以下步骤：(1)得到以硅树脂为主要成分、总固含量在5重量%以下的无机涂料组合物的步骤，其中，所述硅树脂是仅将式Si(OR)4(式中，R表示碳原子数可达7个的烷基或芳基)表示的四官能烷氧基甲硅烷水解缩聚而得到的；(2)将上述无机涂料组合物涂布在基材表面形成涂层的步骤；(3)将上述涂层干燥和硬化，形成膜厚为0.01-0.5μm的硬化膜的步骤。用本发明方法形成的亲水性无机涂膜即使在膜刚制成后和在难以照射到紫外线的情况下其表面也具有很高的亲水性。
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公开(公告)号：CN101977688A
公开(公告)日：2011-02-16
申请号：CN200980110140.1
申请日：2009-03-19
Applicant: 国立大学法人东京大学 , 松下电工株式会社
CPC classification number: A61L9/18 , A61L9/205 , B01J23/72 , B01J23/888 , B01J35/004 , B01J37/0072 , B01J37/009 , B01J37/0211 , B01J37/0234 , B01J37/04
Abstract: 公开了一种光催化剂材料，其特征在于包含三氧化钨微粒和负载于所述微粒表面上的二价铜盐。其使得可以增加可见光照射下三氧化钨的氧化分解活性，其原因是二价铜盐可以用作氧的多电子还原催化剂。
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公开(公告)号：CN1263547A
公开(公告)日：2000-08-16
申请号：CN99800514.2
申请日：1999-04-12
Applicant: 松下电工株式会社
IPC: C09D183/00 , C09D1/00 , C09D5/00 , B05D7/24
CPC classification number: C09D183/02 , Y10T428/31663
Abstract: 本发明提供一种在基材表面形成亲水性无机涂膜的方法,它包含以下步骤:(1)得到以硅树脂为主要成分、总固含量在5重量%以下的无机涂料组合物的步骤,其中,所述硅树脂是仅将式Si(OR)4[式中,R表示碳原子数可达7个的烷基或芳基]表示的四官能烷氧基甲硅烷水解缩聚而得到的;(2)将上述无机涂料组合物涂布在基材表面形成涂层的步骤;(3)将上述涂层干燥和硬化,形成膜厚为0.01—0.5μm的硬化膜的步骤。用本发明方法形成的亲水性无机涂膜即使在膜刚制成后和在难以照射到紫外线的情况下其表面也具有很高的亲水性。
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公开(公告)号：CN1263544A
公开(公告)日：2000-08-16
申请号：CN99800525.8
申请日：1999-04-12
Applicant: 松下电工株式会社
IPC: C09D1/00 , C09D5/00 , C09D183/04 , B05D7/24
CPC classification number: C09D183/04 , C08L2666/54
Abstract: 本发明提供了含有作为主成分的具有光氧化性基团的光氧化性硅氧烷树脂和光半导体材料的无机涂料组合物。光氧化性基团包括碳原子数在3以上的烷基、环烷基、芳烷基、芳基、链烯基、卤代烃基、具有3级氢原子的基团(>CH－)、对应于碳－碳双键具有α位C－H键的基团、具有支链的基团等。由本发明的无机涂料组合物形成的亲水性无机涂膜对紫外线的灵敏度非常高,即使被较弱的紫外线照射也能够快速使表面亲水化。
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公开(公告)号：CN102202789A
公开(公告)日：2011-09-28
申请号：CN200980143495.0
申请日：2009-10-29
Applicant: 国立大学法人东京大学 , 松下电工株式会社
IPC: B01J35/02 , A61L9/00 , A61L9/01 , B01J23/72 , B01J23/745
CPC classification number: B01J35/004 , A61L9/205 , B01J21/063 , B01J23/72 , B01J23/745 , B01J23/83
Abstract: 通过用金属离子掺杂氧化钛以得到价带电位为3V以上(相比于SHE，pH＝0)、价带与自价带激发的电子的电位(包括导带下端电位和孤立电位)间的带隙为3V以下的金属离子掺杂氧化钛。然后将铜盐和/或铁盐沉积在所述金属离子掺杂氧化钛的表面上。所述铜盐或铁盐起到氧的多电子还原的催化剂的作用这一事实可以用来制得当受可见光照射时表现出强氧化分解活性的金属离子掺杂氧化钛。
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