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公开(公告)号:CN100347559C
公开(公告)日:2007-11-07
申请号:CN200410049016.8
申请日:2004-06-11
Applicant: 松下电器产业株式会社 , 株式会社瑞萨科技
CPC classification number: G01R31/2884 , G01R31/2853
Abstract: 一种具有电容测量电路的半导体装置。在电容测量电路中,配置PMISFET(1、2、3)和NMISFET(4~9)。布线(W1、W2、W3),在分别通过PMISFET(1、2、3),经过充电用电压供给部,与电源端子盘(PST)连接的同时,还分别通过NMISFET(7、8、9),经过电流取出部,与电流监测用端子盘(41)连接。再使电流监测用端子盘(41)与电流表(45)的探头接触,从而能测量电流(I)。实现了所需的端子盘数量少,而且能将3个以上的导体部件之间的电容(寄生电容)分离开后测量的电容测量电路。
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公开(公告)号:CN1308697C
公开(公告)日:2007-04-04
申请号:CN200410003322.8
申请日:2004-01-20
Applicant: 株式会社瑞萨科技 , 松下电器产业株式会社
CPC classification number: G01R27/2605
Abstract: 本发明的电容值测定用电路中,PMOS晶体管(MP2)和NMOS晶体管(MN2)的漏极之间的端子(P2)与节点(N1)电连接,在节点(N1)和节点(N2)之间作为测定电容形成部形成了耦合电容(Cc)。节点(N2)经由端子(P2)与NOMS晶体管(MN3)连接到焊盘(58),在POMS晶体管(MP1)和NMOS晶体管(MN1)的漏极之间的端子(P3)与节点(N3)相连。在节点(N3)上设置基准电容(Cref)作为伪电容。通过电流计(61)与电流计(62)分别测定从电源分别供给节点(N3)与节点(N1)的电流(Ir)与电流(It),且通过电流计(63)测定从节点(N2)感应的流入接地电平的电流(Im)。从而,得到可将测定目标的电容成分分离后进行测定的CBCM用电路。
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公开(公告)号:CN1577843A
公开(公告)日:2005-02-09
申请号:CN200410049016.8
申请日:2004-06-11
Applicant: 松下电器产业株式会社 , 株式会社瑞萨科技
IPC: H01L27/00 , H01L29/78 , G01R31/30 , G01R31/316
CPC classification number: G01R31/2884 , G01R31/2853
Abstract: 本发明涉及半导体装置。在电容测量电路中,配置PMISFET(1、2、3)和NMISFET(4~9)。布线(W1、W2、W3),在分别通过PMISFET(1、2、3),经过充电用电压供给部,与电源端子盘(PST)连接的同时,还分别通过NMISFET(7、8、9),经过电流取出部,与电流监测用端子盘(41)连接。再使电流监测用端子盘(41)与电流表(45)的探头接触,从而能测量电流(I)。实现了所需的端子盘数量少,而且能将3个以上的导体部件之间的电容(寄生电容)分离开后测量的电容测量电路。
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公开(公告)号:CN1517716A
公开(公告)日:2004-08-04
申请号:CN200410003322.8
申请日:2004-01-20
Applicant: 株式会社瑞萨科技 , 松下电器产业株式会社
CPC classification number: G01R27/2605
Abstract: 本发明的电容值测定用电路中,PMOS晶体管(MP2)和NMOS晶体管(MN2)的漏极之间的端子(P2)与节点(N1)电连接,在节点(N1)和节点(N2)之间作为测定电容形成部形成了耦合电容(Cc)。节点(N2)经由端子(P2)与NOMS晶体管(MN3)连接到焊盘(58),在POMS晶体管(MP1)和NMOS晶体管(MN1)的漏极之间的端子(P3)与节点(N3)相连。在节点(N3)上设置基准电容(Cref)作为伪电容。通过电流计(61)与电流计(62)分别测定从电源分别供给节点(N3)与节点(N1)的电流(Ir)与电流(It),且通过电流计(63)测定从节点(N2)感应的流入接地电平的电流(Im)。从而,得到可将测定目标的电容成分分离后进行测定的CBCM用电路。
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公开(公告)号:CN1462068A
公开(公告)日:2003-12-17
申请号:CN03138118.9
申请日:2003-05-27
Applicant: 松下电器产业株式会社 , 三菱电机株式会社
CPC classification number: G01R31/275 , G01R31/312
Abstract: 一种半导体装置和电容测量方法,CBCM测量装置具有:PMIS晶体管(11)和(12)、NMIS晶体管(13)和(14)、与第一节点(N1)相连的参照用第一导体部(15)、在与参照用第一导体部之间构成虚设电容的参照用第二导体部(17)、与第二节点相连的测试用第一导体部、与测试用第一导体部之间构成测试电容的第二导体部(18)。通过控制电压(V1、V2),控制各晶体管的导通和截止,从流过第一、第二节点的电流测量测试电容器中的目标电容器的电容。通过增大虚设电容,使电容测量精度提高。提供电容的测量精度高的半导体装置或电容的测量方法。
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