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公开(公告)号：CN101553927A
公开(公告)日：2009-10-07
申请号：CN200780038157.1
申请日：2007-08-28
Applicant: 普廷数码影像控股公司
Inventor： 萨曼·阿克拉姆
IPC: H01L27/146
CPC classification number: H01L27/14632 , H01L27/14621 , H01L27/14627 , H01L27/14636 , H01L27/14685 , H01L27/14687
Abstract: 本发明揭示一种使用经图案化金属作为蚀刻停止件的凹陷式滤色片阵列及一种形成所述阵列的方法。在一个实施例中，在形成一个或一个以上金属互连元件层的同时，在半导体介电层中形成至少一个金属蚀刻停止件，借此减少必需的工艺步骤的数目并降低成本。所述蚀刻停止件可形成于其中存在其它金属元件的任何层处。
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