公开(公告)号：CN1735932A

公开(公告)日：2006-02-15

申请号：CN200480002118.2

申请日：2004-01-14

Applicant: 昭和电工株式会社 ,  株式会社东芝

Inventor： 清水谦治 ,  坂胁彰 ,  小林一雄 ,  N·T·董 ,  酒井浩志 ,  彦坂和志 ,  及川壮一 ,  前田知幸 ,  中村太

IPC: G11B5/64

CPC classification number: G11B5/667 ,  G11B5/65 ,  G11B5/656 ,  G11B5/7325 ,  G11B5/8404

Abstract: 一种磁记录介质，其在非磁性基片上提供软磁性底涂膜、第一底涂膜、第二底涂膜、垂直磁记录膜、以及保护膜，并且所述第一底涂膜由Pt、Pd或包括Pt和Pd中至少一种的合金构成，所述第二底涂膜由Ru或Ru合金构成。