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公开(公告)号：CN102629475A
公开(公告)日：2012-08-08
申请号：CN201210015408.7
申请日：2012-01-18
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: G11B5/84
CPC classification number: G11B5/855
Abstract: 本发明提供一种能够切实且以高速进行掩模层的除去的磁记录介质的制造方法。本发明是一种具有磁分离了的磁记录图案(2a)的磁记录介质的制造方法，其包括：在非磁性基板(1)之上形成磁性层(2)的工序；在磁性层(2)之上形成溶解层(3)的工序；在溶解层(3)之上形成掩模层(4)的工序；将溶解层(3)和掩模层(4)图案化成为与磁记录图案(2a)对应的形状的工序；将磁性层(2)的没有被掩模层(4)和溶解层(3)覆盖的地方部分性地改性或除去的工序；和利用药剂将溶解层(3)湿式溶解，与其上的掩模层(4)一同从磁性层(2)之上除去的工序，在形成溶解层(3)的工序中，通过在磁性层(2)之上涂布了将有机硅化合物溶解于有机溶剂中的涂液后，固化该涂液，从而形成溶解层(3)。
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公开(公告)号：CN102473422A
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：CN201080030040.0
申请日：2010-07-01
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: G11B5/84
CPC classification number: G11B5/855
Abstract: 可以简便的工序制造具有鲜明磁记录图形的磁记录介质的磁记录介质制造方法，包含：在非磁性基板(1)上形成磁性层(2)的工序；形成覆盖磁性层(2)的面的掩模层(3)的工序；在掩模层(3)上形成抗蚀剂层的工序；用压型器(5)使抗蚀剂层图形化的工序；用抗蚀剂层使掩模层(3)图形化的工序；通过部分地除去磁性层(2)的未被掩模层(3)覆盖的地方而形成凹部(6)的工序；形成覆盖形成了凹部(6)的面的非磁性层(7)的工序G；使非磁性层(7)的表面平坦化直到掩模层(3)露出的工序H；除去露出的掩模层(3)的工序I；除去非磁性层(7)的突起部分(7a)的工序J；形成覆盖除去了突起部分(7a)的面的保护层(8)的工序K。
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公开(公告)号：CN102473422B
公开(公告)日：2014-10-29
申请号：CN201080030040.0
申请日：2010-07-01
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: G11B5/84
CPC classification number: G11B5/855
Abstract: 可以简便的工序制造具有鲜明磁记录图形的磁记录介质的磁记录介质制造方法，包含：在非磁性基板(1)上形成磁性层(2)的工序；形成覆盖磁性层(2)的面的掩模层(3)的工序；在掩模层(3)上形成抗蚀剂层的工序；用压型器(5)使抗蚀剂层图形化的工序；用抗蚀剂层使掩模层(3)图形化的工序；通过部分地除去磁性层(2)的未被掩模层(3)覆盖的地方而形成凹部(6)的工序；形成覆盖形成了凹部(6)的面的非磁性层(7)的工序G；使非磁性层(7)的表面平坦化直到掩模层(3)露出的工序H；除去露出的掩模层(3)的工序I；除去非磁性层(7)的突起部分(7a)的工序J；形成覆盖除去了突起部分(7a)的面的保护层(8)的工序K。
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公开(公告)号：CN102349103A
公开(公告)日：2012-02-08
申请号：CN201080011288.2
申请日：2010-03-08
Applicant: 昭和电工株式会社
CPC classification number: G11B5/855
Abstract: 本发明提供不使磁性层的表面氧化或卤化并且表面不被粉尘污染、制造工序不复杂的形成有磁性分离了的磁记录图案的磁记录介质的制造方法。这样的磁记录介质的制造方法，其特征在于，依次具有：在非磁性基板上(1)形成磁性层(2)的工序；在磁性层(2)之上形成用于形成磁记录图案的掩模层(3)的工序；以及对磁性层(2)的未被掩模层(3)覆盖的部位照射离子束(10)，除去该部位(7)的磁性层(2)的上层部并且对下层部(8)的磁特性进行改性的工序，离子束(10)使用质量不同的两种以上的正离子，形成离子束的离子枪具有向基板侧推出来自离子源的正离子的正电极和使正离子向基板侧加速的负电极。
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公开(公告)号：CN102349103B
公开(公告)日：2014-09-17
申请号：CN201080011288.2
申请日：2010-03-08
Applicant: 昭和电工株式会社
CPC classification number: G11B5/855
Abstract: 本发明提供不使磁性层的表面氧化或卤化并且表面不被粉尘污染、制造工序不复杂的形成有磁性分离了的磁记录图案的磁记录介质的制造方法。这样的磁记录介质的制造方法，其特征在于，依次具有：在非磁性基板上(1)形成磁性层(2)的工序；在磁性层(2)之上形成用于形成磁记录图案的掩模层(3)的工序；以及对磁性层(2)的未被掩模层(3)覆盖的部位照射离子束(10)，除去该部位(7)的磁性层(2)的上层部并且对下层部(8)的磁特性进行改性的工序，离子束(10)使用质量不同的两种以上的正离子，形成离子束的离子枪具有向基板侧推出来自离子源的正离子的正电极和使正离子向基板侧加速的负电极。
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