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公开(公告)号:CN101778967A
公开(公告)日:2010-07-14
申请号:CN200880102702.3
申请日:2008-08-06
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: C30B29/38 , C23C16/34 , H01L21/205 , H01L33/00
CPC classification number: C30B29/403 , C30B25/20 , H01L21/0242 , H01L21/02458 , H01L21/0254 , H01L21/02609 , H01L21/0262 , H01L33/16 , H01L33/32
Abstract: 本发明的目的是提供抑制裂纹和位错的发生、使晶体品质提高的III族氮化物半导体外延基板即AlxGa1-xN(0≤x≤1)外延基板。尤其是提供适用于紫外或深紫外区域的发光元件的AlxGa1-xN(0<x≤1)外延基板。本发明的III族氮化物半导体外延基板,其特征在于,包含基材和层叠于该基材上的AlxGa1-xN(0≤x≤1)层,在该AlxGa1-xN层的基材一侧存在具有-C极性的晶体和具有+C极性的晶体混杂的层。