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公开(公告)号:CN109715868A
公开(公告)日:2019-05-03
申请号:CN201780057604.1
申请日:2017-07-31
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: C30B29/36 , C01B32/956 , C30B23/06
Abstract: 一种SiC单晶生长用坩埚,是在内部具有单晶设置部和原料设置部、且用于采用升华法得到SiC单晶的坩埚,所述坩埚的第1壁的透气度低于所述坩埚的第2壁的透气度,所述坩埚的第1壁包围第1区域的至少一部分,所述坩埚的第2壁包围第2区域的至少一部分,所述第1区域是以所述单晶设置部为基准而位于所述原料设置部侧的区域,所述第2区域是以所述单晶设置部为基准而位于与所述原料设置部相反侧的区域。
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