公开(公告)号：CN100587123C

公开(公告)日：2010-02-03

申请号：CN200710065860.3

申请日：2007-05-11

Applicant: 昆明理工大学

Inventor： 王飚 ,  王宇栋 ,  张自华 ,  李丽

IPC: C25D15/00

Abstract: 一种纳米碳化钨-镍复合涂层的制备方法和应用，属电镀与纳米材料交叉学科技术领域。本涂层由基质镍和牢固镶嵌于其中的纳米碳化钨颗粒组成。电镀液为：NiSO4·7H2O：130-200克/升，NiCl2：30～50克/升，纳米碳化钨：30-80克/升，CoSO4：2～10克/升，H3BO3：30-50克/升，糖精：3-5克/升，FK-370低泡润湿剂：2-5克/升，FK-287A主光剂：1-3克/升，FK-287B辅助剂：2-4克/升，FK-287C稳定剂：10-20克/升；电镀工艺条件为：CoSO4共沉淀促进剂加入2～10克/升；以60-90转/分的转速间断搅拌；电镀液温度为25-35℃；阴极电流密度为15-25安/dm2；电镀液的PH值为3～5；阴阳极面积比为2∶3。具有成本低，纳米粉利用率高，纳米碳化钨粉在制备中不衰变和纳米粉不需预先团聚加工等优点。

公开(公告)号：CN101429666A

公开(公告)日：2009-05-13

申请号：CN200810233649.2

申请日：2008-11-28

Applicant: 昆明理工大学

Inventor： 王飚 ,  戴永年 ,  马文会 ,  杨彬 ,  王宇栋 ,  张自华 ,  李丽

IPC: C25C3/12

Abstract: 一种熔盐电解铝涂层复材型惰性阳极，用复合电镀法与等离子火焰扫描重熔工艺方法制成，复材的基材为316L不锈钢，涂层成分为(WC－Ni)二相复合物。复合电镀液由NiSO4·6H2O。NiCl2·6H2O，H3BO3和WC粉末等成分组成。在阴阳极之间有机械搅拌机，当搅拌速度在100－150转/分时，阴极上发生Ni与WC颗粒共沉积，当不开动搅拌机时，只发生镍的电沉积。为了增加镀层与基材的结合，镀后再加等离子火焰扫描重熔。用该法做成的阳极，经过30小时以上的熔盐电解铝试验，阳极的腐蚀速率在36.9～38.4mm/年之间。生产出的电解铝达到国标的要求。与氧化物金属陶瓷阳极相比，虽抗腐蚀性略低，但该阳极确克服了氧化物金属陶瓷阳极所具有的导电性不佳，阳极与导电系统连接困难和阳极抗热冲击性能差，而产生热冲击断裂和阳极成分会污染电解铝产品，难以获得符合国标的电铝产品等缺点。

公开(公告)号：CN101429666B

公开(公告)日：2011-04-06

申请号：CN200810233649.2

申请日：2008-11-28

Applicant: 昆明理工大学

Inventor： 王飚 ,  戴永年 ,  马文会 ,  杨彬 ,  王宇栋 ,  张自华 ,  李丽

IPC: C25C3/12

Abstract: 一种熔盐电解铝涂层复材型惰性阳极，用复合电镀法与等离子火焰扫描重熔工艺方法制成，复材的基材为316L不锈钢，涂层成分为(WC—Ni)二相复合物。复合电镀液由NiSO4·6H2O。NiCl2·6H2O，H3BO3和WC粉末等成分组成。在阴阳极之间有机械搅拌机，当搅拌速度在100—150转/分时，阴极上发生Ni与WC颗粒共沉积，当不开动搅拌机时，只发生镍的电沉积。为了增加镀层与基材的结合，镀后再加等离子火焰扫描重熔。用该法做成的阳极，经过30小时以上的熔盐电解铝试验，阳极的腐蚀速率在36.9~38.4mm/年之间。生产出的电解铝达到国标的要求。与氧化物金属陶瓷阳极相比，虽抗腐蚀性略低，但该阳极确克服了氧化物金属陶瓷阳极所具有的导电性不佳，阳极与导电系统连接困难和阳极抗热冲击性能差，而产生热冲击断裂和阳极成分会污染电解铝产品，难以获得符合国标的电铝产品等缺点。

公开(公告)号：CN101122043A

公开(公告)日：2008-02-13

申请号：CN200710065860.3

申请日：2007-05-11

Applicant: 昆明理工大学

Inventor： 王飚 ,  王宇栋 ,  张自华 ,  李丽

IPC: C25D15/00

Abstract: 一种纳米碳化钨－镍复合涂层及其制备方法和应用，属电镀与纳米材料交叉学科技术领域。本涂层由基质镍和牢固镶嵌于其中的纳米碳化钨颗粒组成。电镀液为：NiSO4·7H2O：130－200克/升，NiCl2：30～50克/升，纳米碳化钨：30－80克/升，CoSO4：2～10克/升，H3BO3：30－50克/升，糖精：3－5克/升，FK－370低泡润湿剂：2－5克/升，FK－287A主光剂：1－3克/升，FK－287B辅助剂：2－4克/升，FK－287C稳定剂：10－20克/升；电镀工艺条件为：CoSO4共沉淀促进剂加入2～10克/升；以60－90转/分的转速间断搅拌；电镀液温度为25－35℃；阴极电流密度为15－25安/dm2；电镀液的pH值为3～5；阴阳极面积比为2∶3。具有成本低，纳米粉利用率高，纳米碳化钨粉在制备中不衰变和纳米粉不需预先团聚加工等优点。