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公开(公告)号：CN105164838B
公开(公告)日：2018-01-26
申请号：CN201480022111.0
申请日：2014-06-16
Applicant: 日立金属株式会社
CPC classification number: H01M4/70 , H01M4/13 , H01M4/661 , H01M10/0525 , H01M2220/20
Abstract: 一种锂离子二次电池用集电体，用于锂离子二次电池且形成电极混合物层，其中，在将形成所述电极混合物层的集电体的至少一方的表面的三维中心面平均粗糙度SRa设为A，将所述集电体表面的实际表面积与几何面积的比(实际表面积)/(几何面积)设为B时，满足A≥0.10μm以及6≤(B/A)≤15。
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公开(公告)号：CN105531402A
公开(公告)日：2016-04-27
申请号：CN201580001876.0
申请日：2015-02-19
Applicant: 日立金属株式会社
CPC classification number: H01M4/661 , C25D1/00 , C25D1/04 , C25D1/20 , C25D3/44 , C25D3/665 , H01G11/68 , H01M10/0525 , H01M2004/028 , Y02E60/13
Abstract: 本发明的课题提供：厚度为20μm以下的薄的电解铝箔，其不会因箔的弯曲或扭曲而在卷取上产生障碍，具有优异的挠性。另外，提供使用该电解铝箔的蓄电设备用集电体、蓄电设备用电极、蓄电设备。作为其解决方案的本发明的电解铝箔是厚度为20μm以下的电解铝箔，其特征为，箔的厚度方向的两表面部的弹性模量比中央部小，且在利用纳米压痕法的测定中，箔的中央部和各表面部的弹性模量之差为8.0GPa以下。
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公开(公告)号：CN105531403B
公开(公告)日：2019-07-05
申请号：CN201580001877.5
申请日：2015-02-19
Applicant: 日立金属株式会社
CPC classification number: H01M4/661 , C25D1/04 , C25D3/44 , H01G9/045 , H01G9/055 , H01G11/68 , H01G11/70 , H01G11/84 , H01G11/86 , H01M10/0525 , Y02E60/13 , Y02T10/7022
Abstract: 本发明的课题提供一个面和另一个面在性状上没有太大差异的电解铝箔及其制造方法。另外，提供使用该电解铝箔的蓄电设备用集电体、蓄电设备用电极、蓄电设备。作为其解决手段的本发明的电解铝箔的特征在于，箔的表面的L＊a＊b＊表色系(SCI方式)的L＊值在两面都是86.00以上。本发明的电解铝箔例如可采用如下的电解铝箔的制造方法且通过将从阴极鼓剥离铝被膜而得到电解铝箔时的处理氛围气的露点控制在－50.0℃以下来制造；所述电解铝箔的制造方法：是在通过对一部分浸渍于镀敷液的阴极鼓和浸渍于镀敷液的阳极板之间施加电流而在阴极鼓的表面形成铝被膜之后，将通过使阴极鼓旋转而升离了液面的铝被膜从阴极鼓剥离。
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公开(公告)号：CN108368625A
公开(公告)日：2018-08-03
申请号：CN201680071631.X
申请日：2016-09-23
Applicant: 日立金属株式会社
Abstract: 提供一种能同时解决覆盖阳极表面的淤渣被膜的问题、和阳极与阴极的电极间距离增大的问题的新型电极装置，以及使用该装置的金属箔的制造方法。浸渍在导电性液体中而使用的电极装置，其具有：滚筒，具有具备多个贯通孔的外壁、能储存通电中相对于上述液体为可溶性的金属；轴，穿过上述滚筒的内部、具备能通电的周面；和金属送入部，用于将上述金属送入上述滚筒内部；上述滚筒自转。上述滚筒优选具备：自上述外壁向内部立起且相对于上述轴的上述周面具有间隙的多个隔壁，以及由上述多个隔壁相对于上述轴的周向被隔开的多个单室。
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公开(公告)号：CN102668199B
公开(公告)日：2016-01-20
申请号：CN201080057838.4
申请日：2010-11-11
Applicant: 日立金属株式会社
CPC classification number: H01G9/016 , C25D1/04 , C25D3/44 , C25D7/0614 , C25D15/00 , H01G9/04 , H01G11/68 , H01M4/13 , H01M4/661 , H01M4/663 , H01M4/665 , H01M4/666 , H01M10/0525 , Y02E60/122 , Y02E60/13 , Y02P70/54 , Y02T10/7011 , Y02T10/7022 , Y10T428/12431
Abstract: 本发明的课题是提供用于蓄电器件的小型化及高能量密度化的正极集电体的薄膜化可能的,且制造容易、表面电阻低的铝箔。作为解决手段的本发明的铝箔,是分散负载碳质粒子。本发明的分散负载碳质粒子的铝箔能够通过电解法来制造。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102471909B
公开(公告)日：2015-09-02
申请号：CN201080029194.8
申请日：2010-06-28
Applicant: 日立金属株式会社
CPC classification number: H01M4/661 , C22B21/0038 , C22C21/00 , C25D1/04 , C25D3/44 , C25D3/665 , H01G9/016 , H01G11/02 , H01G11/04 , H01G11/28 , H01G11/68 , H01G11/84 , Y02E60/13 , Y10T428/266
Abstract: 本发明的课题是提供铝箔的制造方法，是通过采用氯浓度低的电镀液的电解法，以迅速的成膜速度制造富有延展性的高纯度铝箔。作为其解决手段的本发明的铝箔的制造方法，通过采用了电镀液的电解法在基材的表面形成铝被膜后，将该被膜从基材剥离；所述电解液至少含有(1)二烷基砜、(2)铝卤化物、以及(3)选自卤化铵、伯胺的卤化氢盐、仲胺的卤化氢盐、叔胺的卤化氢盐、通式：R1R2R3R4N·X(R1～R4为相同或相异的烷基、X为相对于季铵盐阳离子的抗衡阴离子)表示的季铵盐构成的组中的至少1种含氮化合物。
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公开(公告)号：CN108368625B
公开(公告)日：2020-04-28
申请号：CN201680071631.X
申请日：2016-09-23
Applicant: 日立金属株式会社
Abstract: 提供一种能同时解决覆盖阳极表面的淤渣被膜的问题、和阳极与阴极的电极间距离增大的问题的新型电极装置，以及使用该装置的金属箔的制造方法。浸渍在导电性液体中而使用的电极装置，其具有：滚筒，具有具备多个贯通孔的外壁、能储存通电中相对于上述液体为可溶性的金属；轴，穿过上述滚筒的内部、具备能通电的周面；和金属送入部，用于将上述金属送入上述滚筒内部；上述滚筒自转。上述滚筒优选具备：自上述外壁向内部立起且相对于上述轴的上述周面具有间隙的多个隔壁，以及由上述多个隔壁相对于上述轴的周向被隔开的多个单室。
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公开(公告)号：CN109715863A
公开(公告)日：2019-05-03
申请号：CN201780057856.4
申请日：2017-10-30
Applicant: 日立金属株式会社
Abstract: 本申请提供一种通过电解法在阴极的电沉积面上电沉积的金属膜的剥离容易，同时通过该金属膜的剥离而得到的金属箔的剥离面与自由面的表面粗糙度之差变小的、金属箔的制造方法以及金属箔制造用阴极。一种金属箔的制造方法，其是将通过电解法在阴极的电沉积面的表面上电沉积的金属膜剥离而形成金属箔的金属箔的制造方法，其中，使用如下电沉积面：对于钛制或钛合金制的平滑加工面通过喷射处理等被粗化处理后的粗化处理面，进行热氧化处理、阳极氧化处理(优选为一边使阳极氧化处理液移动一边进行的阳极氧化处理)、或者热氧化处理与阳极氧化处理的组合氧化处理中的任一种氧化处理，在最表层具有30nm～250nm厚度的氧化层，并具有4μm～10μm的表面粗糙度RZJIS。
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公开(公告)号：CN105531403A
公开(公告)日：2016-04-27
申请号：CN201580001877.5
申请日：2015-02-19
Applicant: 日立金属株式会社
CPC classification number: H01M4/661 , C25D1/04 , C25D3/44 , H01G9/045 , H01G9/055 , H01G11/68 , H01G11/70 , H01G11/84 , H01G11/86 , H01M10/0525 , Y02E60/13 , Y02T10/7022
Abstract: 本发明的课题提供一个面和另一个面在性状上没有太大差异的电解铝箔及其制造方法。另外，提供使用该电解铝箔的蓄电设备用集电体、蓄电设备用电极、蓄电设备。作为其解决手段的本发明的电解铝箔的特征在于，箔的表面的L＊a＊b＊表色系(SCI方式)的L＊值在两面都是86.00以上。本发明的电解铝箔例如可采用如下的电解铝箔的制造方法且通过将从阴极鼓剥离铝被膜而得到电解铝箔时的处理氛围气的露点控制在－50.0℃以下来制造；所述电解铝箔的制造方法：是在通过对一部分浸渍于镀敷液的阴极鼓和浸渍于镀敷液的阳极板之间施加电流而在阴极鼓的表面形成铝被膜之后，将通过使阴极鼓旋转而升离了液面的铝被膜从阴极鼓剥离。
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公开(公告)号：CN102216499B
公开(公告)日：2014-06-25
申请号：CN200980146014.1
申请日：2009-07-31
Applicant: 日立金属株式会社
IPC: C25D3/66
Abstract: 本发明的课题在于提供可以长时间稳定地进行电镀铝处理的可以实现长寿命的镀液以及使用该镀液的铝镀膜的形成方法。作为其解决办法的本发明的电镀铝液的特征在于，相对于10.0mol的二甲基砜含有1.5～4.0mol的卤化铝，并且相对于卤化铝含有以摩尔比计为1/15～1/4的氯化铵，或者含有以摩尔比计为1/15～1/2的四烷基氯化铵。由于导电性高，因此该镀液具有即使以滚筒方式进行镀敷处理也可以相对被镀物形成均匀的铝镀膜的优点。
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