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公开(公告)号：CN111799146A
公开(公告)日：2020-10-20
申请号：CN202010217975.5
申请日：2020-03-25
Applicant: 日本钨合金株式会社 , 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种等离子体处理装置用部件、具备该部件的等离子体处理装置及烧结体的使用方法。等离子体处理装置用部件具有碳化钨相及副相，该副相包含选自由相I、相II、相III、相IV及相V构成的组中的至少一种，相I为将除W以外的元素周期表的第四族、第五族及第六族元素中的至少一种作为构成元素的碳化物相，相II为将除W以外的元素周期表的第四族、第五族及第六族元素中的至少一种作为构成元素的氮化物相，相III为将除W以外的元素周期表的第四族、第五族及第六族元素中的至少一种作为构成元素的碳氮化物相，相IV为碳相，相V为由WxMyCz的式表示的复合碳化物相，碳化钨相的含有比例为99体积％以上，副相的含有比例为1体积％以下，孔隙率为2体积％以下。
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公开(公告)号：CN111799145A
公开(公告)日：2020-10-20
申请号：CN202010217971.7
申请日：2020-03-25
Applicant: 日本钨合金株式会社 , 东京毅力科创株式会社
IPC: H01J37/32 , H01L21/67 , C04B35/56 , C04B35/622
Abstract: 本发明提供一种等离子体处理装置用部件、具备该部件的等离子体处理装置及烧结体的使用方法。等离子体处理装置用部件仅由碳化钨相构成，并且包含选自由Fe原子、Co原子及Ni原子构成的组中的至少一种原子，这些原子的含量的合计为30～3300原子ppm。
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公开(公告)号：CN111799145B
公开(公告)日：2025-02-25
申请号：CN202010217971.7
申请日：2020-03-25
Applicant: 日本钨合金株式会社 , 东京毅力科创株式会社
IPC: H01J37/32 , H01L21/67 , C04B35/56 , C04B35/622
Abstract: 本发明提供一种等离子体处理装置用部件、具备该部件的等离子体处理装置及烧结体的使用方法。等离子体处理装置用部件仅由碳化钨相构成，并且包含选自由Fe原子、Co原子及Ni原子构成的组中的至少一种原子，这些原子的含量的合计为30～3300原子ppm。
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公开(公告)号：CN111799146B
公开(公告)日：2025-01-21
申请号：CN202010217975.5
申请日：2020-03-25
Applicant: 日本钨合金株式会社 , 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种等离子体处理装置用部件、具备该部件的等离子体处理装置及烧结体的使用方法。等离子体处理装置用部件具有碳化钨相及副相，该副相包含选自由相I、相II、相III、相IV及相V构成的组中的至少一种，相I为将除W以外的元素周期表的第四族、第五族及第六族元素中的至少一种作为构成元素的碳化物相，相II为将除W以外的元素周期表的第四族、第五族及第六族元素中的至少一种作为构成元素的氮化物相，相III为将除W以外的元素周期表的第四族、第五族及第六族元素中的至少一种作为构成元素的碳氮化物相，相IV为碳相，相V为由WxMyCz的式表示的复合碳化物相，碳化钨相的含有比例为99体积％以上，副相的含有比例为1体积％以下，孔隙率为2体积％以下。
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公开(公告)号：CN108389771A
公开(公告)日：2018-08-10
申请号：CN201810100701.0
申请日：2018-02-01
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01J37/32
Abstract: 本发明提供一种作为蒸发器的设置于被加工物的载置台的内部的制冷剂的流路，其能够实现制冷剂的压力的均匀性和高的热排出性。在一个实施方式中，冷却台包括第1部分第2部分、第1流路、第2流路和第3流路，静电吸盘设置在第1部分上，第1部分设置在第2部分上，第1流路设置于第1部分内，第2流路设置于第2部分内，第3流路与第1流路和第2流路连接，冷却单元与第1流路和第2流路连接，第1流路沿静电吸盘在第1部分内延伸，第2流路沿静电吸盘在第2部分内延伸，从冷却单元输出的制冷剂，依次过第1流路、第3流路、第2流路输入到冷却单元。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101424950A
公开(公告)日：2009-05-06
申请号：CN200810168367.9
申请日：2008-10-28
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G05D23/13 , G05D23/19 , H01L21/00 , H01L21/683
CPC classification number: G05D23/1934
Abstract: 本发明提供一种将载置在载置台上的被处理基板分为多个区域，改变在各区域的载置台与基板间的热的传递量，针对每个区域调节基板的温度的被处理基板的温度调节装置。其设置有：载置台，其具备多个用于将基板按各区域调节到规定温度的各温度系统的温度调节部；循环流路，通过温度系统调节部在各温度系统中循环流通流体；加热流路，流通比在循环流路中流通的流体温度高的加热流体；冷却流路，流通比在循环流路中流通的流体温度低的冷却流体，并且具备合流部，其在载置台的附近，使循环流路和加热流路和冷却流路合流于各温度系统，并且包括调节来自输出到所述温度调节部的流体的各流路的流量比的流量调节单元。
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公开(公告)号：CN102191502B
公开(公告)日：2013-06-05
申请号：CN201110034760.0
申请日：2011-01-31
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: C23F4/00 , C23C16/455 , H01L21/00
CPC classification number: B05B1/18 , C23C16/00 , C23C16/455 , C23F1/08
Abstract: 本发明提供气体簇射用构造体和基板处理装置。该构造体将基座板层叠在顶板上而形成，用于呈簇射状向处理气氛供给气体，能不受组装误差的影响而将两板的压接力设定为适当的大小，且能防止固定两者的固定构件与顶板之间的摩擦。从顶板的下表面侧插入螺纹构件而将螺纹构件与基座板螺纹连接，在螺纹构件的头部与顶板之间夹装环状的弹性体，利用弹性体的复原力使顶板与基座板压接。此时，在上述头部和顶板之间形成有间隙。并且在上述头部的外缘侧夹装环状的弹性体的状态下，在该头部覆盖罩。作为另一例，使基座板比顶板的外缘突出，用螺纹构件固定位于顶板外缘部的外侧的环状的夹持构件和基座板的突出部分，且使弹性体介于夹持构件与顶板之间。
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公开(公告)号：CN101295186B
公开(公告)日：2013-08-28
申请号：CN200810089941.1
申请日：2008-04-11
Applicant: 东京毅力科创株式会社 , CKD株式会社
CPC classification number: G05D23/19
Abstract: 一种温度控制装置，通过在配置于被控对象附近的调温部(11)使流体循环来预期地控制被控对象的温度，其包括：加热流体并使流体在调温部(11)循环的加热通路(40)；冷却流体并使流体在调温部(11)循环的冷却通路(20)；使流体在调温部(11)循环而不通过加热通路(40)及冷却通路(20)的旁通路(30)；以及对来自加热通路(40)、冷却通路(20)、旁通路(30)通过对它们进行汇流的汇流部(12)向调温部(11)输出流体的流量比进行调节的调节装置(44，24，34)。调节装置(44，24，34)位于加热通路(40)，冷却通路(20)，旁通路(30)的各下游侧且设置在汇流部(12)的上游侧。
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公开(公告)号：CN101424950B
公开(公告)日：2011-06-22
申请号：CN200810168367.9
申请日：2008-10-28
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G05D23/13 , G05D23/19 , H01L21/00 , H01L21/683
CPC classification number: G05D23/1934
Abstract: 本发明提供一种将载置在载置台上的被处理基板分为多个区域，改变在各区域的载置台与基板间的热的传递量，针对每个区域调节基板的温度的被处理基板的温度调节装置。其设置有：载置台，其具备多个用于将基板按各区域调节到规定温度的各温度系统的温度调节部；循环流路，通过温度系统调节部在各温度系统中循环流通流体；加热流路，流通比在循环流路中流通的流体温度高的加热流体；冷却流路，流通比在循环流路中流通的流体温度低的冷却流体，并且具备合流部，其在载置台的附近，使循环流路和加热流路和冷却流路合流于各温度系统，并且包括调节来自输出到所述温度调节部的流体的各流路的流量比的流量调节单元。
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公开(公告)号：CN108389771B
公开(公告)日：2020-01-21
申请号：CN201810100701.0
申请日：2018-02-01
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01J37/32
Abstract: 本发明提供一种作为蒸发器的设置于被加工物的载置台的内部的制冷剂的流路，其能够实现制冷剂的压力的均匀性和高的热排出性。在一个实施方式中，冷却台包括第1部分第2部分、第1流路、第2流路和第3流路，静电吸盘设置在第1部分上，第1部分设置在第2部分上，第1流路设置于第1部分内，第2流路设置于第2部分内，第3流路与第1流路和第2流路连接，冷却单元与第1流路和第2流路连接，第1流路沿静电吸盘在第1部分内延伸，第2流路沿静电吸盘在第2部分内延伸，从冷却单元输出的制冷剂，依次过第1流路、第3流路、第2流路输入到冷却单元。
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