制造单晶硅的设备
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1048900A

    公开(公告)日:1991-01-30

    申请号:CN90102475.9

    申请日:1990-03-30

    CPC classification number: C30B15/12 C30B15/14

    Abstract: 在本发明的单晶硅制造设备中,有一热辐射屏在单晶生长区上方,以屏蔽和调节来自单晶生长区中熔融硅表面的热辐射,而降低坩埚温度从而降低单晶中的氧浓度以减少熔融硅中的氧量。该热辐射屏包括一用金属板覆盖的耐火纤维材料,一多层金属薄板组合件或一电阻加热元件。此外,坩埚内部还被一加工成许多小孔在隔离部件隔开,或一石英管沿该隔离件的圆周方向延伸安装在其内侧,使熔融硅从物料熔化区流畅地流向单晶生长区并从而提供有效的措施。

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