公开(公告)号：CN1222974A

公开(公告)日：1999-07-14

申请号：CN98800447.X

申请日：1998-04-08

Applicant: 日本酸素株式会社

Inventor： 吴尚谦 ,  森下淳一 ,  石原良夫 ,  君岛哲也

IPC: G01N21/35 ,  G01N21/39

CPC classification number: G01N21/39 ,  G01N21/3504

Abstract: 一种分析气体中杂质的方法,包括以下步骤:将含有杂质的气体引入第一气室(2);将无杂质的气体引入第二气室(3);保持第一和第二气室中的气压相等;从光辐照装置(1)射出光束;利用分光装置(4)将光束分开,使第一光束透过第一气室,第二光束透过第二气室;利用第一测量装置(5)测量透过第一气室的光线强度,利用第二测量装置(6)测量透过第二气室的光线强度;根据第一测量装置和第二测量装置的测量数据之间的差异确定气体中杂质的吸收谱。

公开(公告)号：CN1258352A

公开(公告)日：2000-06-28

申请号：CN99800275.5

申请日：1999-03-05

Applicant: 日本酸素株式会社

Inventor： 森下淳一 ,  石原良夫 ,  吴尚谦

IPC: G01N21/39

CPC classification number: G01J3/4338

Abstract: 在通过使频率被调制的半导体激光透过减压状态的被测定气体来得到光吸收强度的2次微分谱来分析被测定气体中的微量杂质的气体的光谱分析装置中,设置根据半导体激光器(11)的特性控制激光的调制振幅用的调制振幅运算装置(1)、对由测定得到的2次微分谱中的峰的左右的极小值的波长间隔和峰的吸收强度进行运算的谱运算装置(2)和控制测定用气体单元(14)内的压力以使由谱运算装置(2)得到的吸收强度的值为最大用的压力调整装置(3)。设定激光的调制振幅的最佳值,使得2次微分谱中的峰的左右的极小值的波长宽度为0.0116nm。将调制振幅设定为最佳值,使测定压力最佳化。

公开(公告)号：CN1114826C

公开(公告)日：2003-07-16

申请号：CN99800275.5

申请日：1999-03-05

Applicant: 日本酸素株式会社

Inventor： 森下淳一 ,  石原良夫 ,  吴尚谦

IPC: G01N21/39 ,  G01J3/433

CPC classification number: G01J3/4338

Abstract: 在通过使频率被调制的半导体激光透过减压状态的被测定气体来得到光吸收强度的2次微分谱来分析被测定气体中的微量杂质的气体的光谱分析装置中，设置根据半导体激光器(11)的特性控制激光的调制振幅用的调制振幅运算装置(1)、对由测定得到的2次微分谱中的峰的左右的极小值的波长间隔和峰的吸收强度进行运算的谱运算装置(2)和控制测定用气体单元(14)内的压力以使由谱运算装置(2)得到的吸收强度的值为最大用的压力调整装置(3)。设定激光的调制振幅的最佳值，使得2次微分谱中的峰的左右的极小值的波长宽度为0.0116nm。将调制振幅设定为最佳值，使测定压力最佳化。