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公开(公告)号：CN1258352A
公开(公告)日：2000-06-28
申请号：CN99800275.5
申请日：1999-03-05
Applicant: 日本酸素株式会社
IPC: G01N21/39
CPC classification number: G01J3/4338
Abstract: 在通过使频率被调制的半导体激光透过减压状态的被测定气体来得到光吸收强度的2次微分谱来分析被测定气体中的微量杂质的气体的光谱分析装置中,设置根据半导体激光器(11)的特性控制激光的调制振幅用的调制振幅运算装置(1)、对由测定得到的2次微分谱中的峰的左右的极小值的波长间隔和峰的吸收强度进行运算的谱运算装置(2)和控制测定用气体单元(14)内的压力以使由谱运算装置(2)得到的吸收强度的值为最大用的压力调整装置(3)。设定激光的调制振幅的最佳值,使得2次微分谱中的峰的左右的极小值的波长宽度为0.0116nm。将调制振幅设定为最佳值,使测定压力最佳化。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1379237A
公开(公告)日：2002-11-13
申请号：CN02103138.X
申请日：2002-01-31
Applicant: 日本酸素株式会社
IPC: G01N21/66
CPC classification number: G01N21/69
Abstract: 本发明提供一种可以连续地并且不废弃试样气体的高灵敏度地测定氮浓度的气体中的氮的测定方法及其装置。在将试样气体导入放电管内、将因放电产生的光聚焦、抽取出氮固有的波长并将其导入到检测器内,根据检测出来的光的强度连续地测定氮的浓度的方法中作为测定氮的浓度用的波长,使用下面所述的至少其中的一个波长,所述波长为215±2nm,226±2nm,238±2nm,242±2nm,246±1nm,256±2nm,260±2nm,266±2nm,271±1nm,276±4nm,285±2nm,294±1nm,300±2nm。
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公开(公告)号：CN1407328A
公开(公告)日：2003-04-02
申请号：CN02103141.X
申请日：2002-01-31
Applicant: 日本酸素株式会社
Abstract: 本发明提供一种流体成分浓度测定方法及装置，能够实时且连续的测定，也适于管内监测，并且能够适用于高压气体而能够对应种种的成分测定。在流体流路中，试料流体流经具有一定直径小通孔13的测定用配管14，此时由测定前述小通孔13的前后的压力差(P1－P2)与此小通孔13的下游侧的流量，以测定前述试料流体的成分浓度。
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公开(公告)号：CN1222974A
公开(公告)日：1999-07-14
申请号：CN98800447.X
申请日：1998-04-08
Applicant: 日本酸素株式会社
CPC classification number: G01N21/39 , G01N21/3504
Abstract: 一种分析气体中杂质的方法,包括以下步骤:将含有杂质的气体引入第一气室(2);将无杂质的气体引入第二气室(3);保持第一和第二气室中的气压相等;从光辐照装置(1)射出光束;利用分光装置(4)将光束分开,使第一光束透过第一气室,第二光束透过第二气室;利用第一测量装置(5)测量透过第一气室的光线强度,利用第二测量装置(6)测量透过第二气室的光线强度;根据第一测量装置和第二测量装置的测量数据之间的差异确定气体中杂质的吸收谱。
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公开(公告)号：CN1297814C
公开(公告)日：2007-01-31
申请号：CN02103138.X
申请日：2002-01-31
Applicant: 日本酸素株式会社
IPC: G01N21/66
CPC classification number: G01N21/69
Abstract: 本发明提供一种可以连续地并且不废弃试样气体的高灵敏度地测定氮浓度的气体中的氮的测定方法及其装置。在将试样气体导入放电管内、将因放电产生的光聚焦、抽取出氮固有的波长并将其导入到检测器内，根据检测出来的光的强度连续地测定氮的浓度的方法中作为测定氮的浓度用的波长，使用下面所述的至少其中的一个波长，所述波长为215±2nm，226±2nm，238±2nm，242±2nm，246±1nm，256±2nm，260±2nm，266±2nm，271±1nm，276±4nm，285±2nm，294±1nm，300±2nm。
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公开(公告)号：CN1114826C
公开(公告)日：2003-07-16
申请号：CN99800275.5
申请日：1999-03-05
Applicant: 日本酸素株式会社
CPC classification number: G01J3/4338
Abstract: 在通过使频率被调制的半导体激光透过减压状态的被测定气体来得到光吸收强度的2次微分谱来分析被测定气体中的微量杂质的气体的光谱分析装置中，设置根据半导体激光器(11)的特性控制激光的调制振幅用的调制振幅运算装置(1)、对由测定得到的2次微分谱中的峰的左右的极小值的波长间隔和峰的吸收强度进行运算的谱运算装置(2)和控制测定用气体单元(14)内的压力以使由谱运算装置(2)得到的吸收强度的值为最大用的压力调整装置(3)。设定激光的调制振幅的最佳值，使得2次微分谱中的峰的左右的极小值的波长宽度为0.0116nm。将调制振幅设定为最佳值，使测定压力最佳化。
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