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公开(公告)号:CN1242608A
公开(公告)日:2000-01-26
申请号:CN99110924.4
申请日:1999-06-16
Applicant: 日本电气株式会社
IPC: H01L29/812
CPC classification number: H01L29/812 , H01L27/095 , H01L29/402 , H01L29/7813
Abstract: 在栅电极5和漏电极8之间的沟道层2上的绝缘膜6上形成场控制电极9。氧化钽(Ta2O5)例如可以用做绝缘膜6的材料。