高频线路
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN107710500A

    公开(公告)日:2018-02-16

    申请号:CN201680036151.X

    申请日:2016-06-24

    Abstract: 本发明提供一种具备抑制与光波导交叉的高频布线中的阻抗变化、电的过量损失发生的结构的高频线路。高频线路为微带线,其基本结构是在SI-InP基板(301)上依次层叠接地电极(302)、电介质层(304)、信号电极(305)而成。另外,如横向剖视图所示,在横切高频线路(305)的形态下,交叉着InP类半导体的光波导芯(303)。沿着高频线路的传输方向,在包含光波导交叉的固定区域内,使信号电极(305)的宽度局部扩大。在微带线中,信号电极(305)的宽度的局部从w1扩大至w2,相比宽度为均匀的w1,使特性阻抗降低。该宽度w2的第二信号电极部(325)的长度l2被设定为远短于所输入的高频电信号的波长的长度。

    半导体光调制器
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101133355B

    公开(公告)日:2011-02-02

    申请号:CN200680006437.X

    申请日:2006-03-08

    CPC classification number: G02F1/025 G02F2201/07 G02F2202/102

    Abstract: 提供一种具有n-i-n结构半导体光调制器的特点、又能稳定工作,而且对电场的耐压性优良的半导体光调制器。其包括依次层叠n型InP包层(11)、具有电光效应的半导体芯层(13)、p-InAlAs层(15)、以及n型InP包层(16)而形成的波导结构。p-InAlAs层(15)的电子亲和力小于n型InP包层(16)的电子亲和力。在如此构成的波导结构中,还可以分别在n型InP包层(11)和半导体芯层(13)之间设置未掺杂的InP包层(12),在半导体芯层(13)和p-InAlAs层(15)之间设置未掺杂的InP包层(14)。

    高频线路
    5.
    发明授权

    公开(公告)号:CN107710500B

    公开(公告)日:2021-02-09

    申请号:CN201680036151.X

    申请日:2016-06-24

    Abstract: 本发明提供一种具备抑制与光波导交叉的高频布线中的阻抗变化、电的过量损失发生的结构的高频线路。高频线路为微带线,其基本结构是在SI‑InP基板上依次层叠接地电极、电介质层、信号电极而成。另外,如横向剖视图所示,在横切高频线路的形态下,交叉着InP类半导体的光波导芯。沿着高频线路的传输方向,在包含光波导交叉的一定区域内,使信号电极的宽度局部扩大。在微带线中,信号电极的宽度的局部从w1扩大至w2,相比宽度为均匀的w1,使特性阻抗降低。

    半导体光调制器
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102033333A

    公开(公告)日:2011-04-27

    申请号:CN201010573435.7

    申请日:2006-03-08

    CPC classification number: G02F1/025 G02F2201/07 G02F2202/102

    Abstract: 提供一种具有n-i-n结构半导体光调制器的特点、又能稳定工作,而且对电场的耐压性优良的半导体光调制器。其包括依次层叠n型InP包层(11)、具有电光效应的半导体芯层(13)、p-InAlAs层(15)、以及n型InP包层(16)而形成的波导结构。p-InAlAs层(15)的电子亲和力小于n型InP包层(16)的电子亲和力。在如此构成的波导结构中,还可以分别在n型InP包层(11)和半导体芯层(13)之间设置未掺杂的InP包层(12),在半导体芯层(13)和p-InAlAs层(15)之间设置未掺杂的InP包层(14)。

    半导体光调制器
    8.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102033333B

    公开(公告)日:2012-09-05

    申请号:CN201010573435.7

    申请日:2006-03-08

    CPC classification number: G02F1/025 G02F2201/07 G02F2202/102

    Abstract: 提供一种具有n-i-n结构半导体光调制器的特点、又能稳定工作,而且对电场的耐压性优良的半导体光调制器。其包括依次层叠n型InP包层(11)、具有电光效应的半导体芯层(13)、p-InAlAs层(15)、以及n型InP包层(16)而形成的波导结构。p-InAlAs层(15)的电子亲和力小于n型InP包层(16)的电子亲和力。在如此构成的波导结构中,还可以分别在n型InP包层(11)和半导体芯层(13)之间设置未掺杂的InP包层(12),在半导体芯层(13)和p-InAlAs层(15)之间设置未掺杂的InP包层(14)。

    半导体光调制器
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101133355A

    公开(公告)日:2008-02-27

    申请号:CN200680006437.X

    申请日:2006-03-08

    CPC classification number: G02F1/025 G02F2201/07 G02F2202/102

    Abstract: 提供一种具有n-i-n结构半导体光调制器的特点、又能稳定工作,而且对电场的耐压性优良的半导体光调制器。其包括依次层叠n型InP包层(11)、具有电光效应的半导体芯层(13)、p-InAlAs层(15)、以及n型InP包层(16)而形成的波导结构。p-InAlAs层(15)的电子亲和力小于n型InP包层(16)的电子亲和力。在如此构成的波导结构中,还可以分别在n型InP包层(11)和半导体芯层(13)之间设置未掺杂的InP包层(12),在半导体芯层(13)和p-InAlAs层(15)之间设置未掺杂的InP包层(14)。

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