公开(公告)号：CN102958965B

公开(公告)日：2015-02-25

申请号：CN201180030305.1

申请日：2011-06-28

Applicant: 日本曹达株式会社

Inventor： 新谷武士 ,  三岛豪 ,  立石祐一 ,  冈户俊明

IPC: C08F297/02

CPC classification number: C08F293/005

Abstract: 本发明的目的在于提供一种适用于颜料分散剂等的新型共聚物的制造方法。本发明的制造方法是使用共聚物前体并对其进行加热来制造嵌段共聚物的方法，上述共聚物前体包含嵌段链（A）和嵌段链（B），上述嵌段链（A）包含选自含有叔氨基的重复单元和含有季铵盐基的重复单元中的至少1种重复单元，上述嵌段链（B）包含式（I）表示的含有被保护的酸性基团的重复单元和式（II）表示的重复单元，上述嵌段共聚物包含嵌段链（A）和嵌段链（B1），上述嵌段链（B1）包含式（III）表示的含有酸性基团的重复单元和式（II）表示的重复单元。

公开(公告)号：CN102958964B

公开(公告)日：2015-02-25

申请号：CN201180030285.8

申请日：2011-06-28

Applicant: 日本曹达株式会社 ,  JSR株式会社

Inventor： 新谷武士 ,  三岛豪 ,  立石祐一 ,  冈户俊明 ,  成濑秀则 ,  梶田彻

IPC: C08F297/02 ,  B01F17/16 ,  B01F17/18 ,  B01F17/52

CPC classification number: C08F265/06 ,  C08F297/026 ,  C09D11/106 ,  C09D11/107 ,  C09D11/326

Abstract: 本发明的目的在于提供一种作为颜料的分散剂等有用的新型共聚物。新型共聚物含有嵌段链（A）和嵌段链（B），上述嵌段链（A）含有选自具有叔氨基的重复单元和具有季铵盐基的重复单元中的至少1种重复单元，上述嵌段链（B）含有具有酸性基团的重复单元和下式（I）（式中，R1表示氢原子或C1～C3烷基，R2表示脂肪族烃基或脂环式烃基）表示的重复单元，式（I）表示的重复单元的共聚比例在嵌段链（B）中为90质量%以上。

公开(公告)号：CN101906195B

公开(公告)日：2014-01-08

申请号：CN201010250458.4

申请日：2007-07-11

Applicant: 日本曹达株式会社

Inventor： 新谷武士

IPC: C08F293/00

CPC classification number: C08F295/00 ,  C08F293/005

Abstract: 本发明提供分子结构受控的窄分散的星形聚合物以及能够简易地制造该星形聚合物的星形聚合物的制造方法。本发明涉及星形聚合物的制造方法，其具有：(A)使具有阴离子末端的聚合物的阴离子末端与核结合，形成臂(I)的工序；和(B)采用活性自由基聚合从核上延伸臂(II)的工序。此外，作为该星形聚合物的例子，可以例示以下星形聚合物，其特征在于：含有式(I-1)或(I-2)所示的结构。式(I-1)或(I-2)中，B、C1和C2各自独立地表示由聚合物形成的基团，m1和m2各自独立地表示1或2的整数，m1、m2为2时，C1之间和C2之间表示相同或不同的基团。

公开(公告)号：CN101400640B

公开(公告)日：2013-05-08

申请号：CN200780008771.3

申请日：2007-03-16

Applicant: 日本曹达株式会社

Inventor： 新谷武士

IPC: C07C67/343 ,  C07C69/773 ,  C07C61/00

CPC classification number: C07C67/293 ,  C07C67/343 ,  C07C69/78 ,  C07C69/76

Abstract: 本发明提供能够通过短时间的反应、以极高的收率来制造1，2-苯基乙烷系化合物的方法。一种1，2-苯基乙烷系化合物的制造方法，在过渡金属配合物的存在下，使式(I)所示的化合物(Ra表示氢原子或者取代或未取代的苯基，Rb表示氢原子或者取代基，n表示1～5的整数，n为2以上时，Rb可以相同也可以不同，可以相互连接而形成环，X表示卤原子)进行偶联反应，制造式(II)所示的化合物。

公开(公告)号：CN101494283B

公开(公告)日：2012-08-22

申请号：CN200810167748.5

申请日：2008-09-27

Applicant: 三洋电机株式会社 ,  日本曹达株式会社

Inventor： 鉾谷伸宏 ,  井町直希 ,  贝塚笃史 ,  新谷武士 ,  天池正登

IPC: H01M4/02 ,  H01M4/62 ,  H01M10/36 ,  H01M10/40 ,  C09D153/00

CPC classification number: H01M4/621 ,  H01M4/60 ,  H01M4/602 ,  H01M4/604 ,  H01M2008/1095

Abstract: 本发明提供具有正极活性物质层和高分子涂层的高温保存特性优良的非水电解质电池用正极及其非水电解质电池。所述高分子具有由含有重复单元(I)和重复单元(II)的无规共聚物构成的嵌段链A和含有重复单元(III)的嵌段链B。式中，R1～R3、R6、R8、R10～R12分别独立表示氢原子或碳原子数1～10的烃基，R1和R3、R6和R8可结合成环，R4a和R4b分别独立表示氢原子或甲基，R5表示氢原子、烃基、酰基或甲硅烷基，m表示1～100任一整数，m为2以上时R4a彼此和R4b彼此相同或不同，R7表示氢原子、碳原子数1～10的烃基、羟基、烃氧基、羧基、酸酐基、氨基、酯基或具有选自羟基、羧基、环氧基、酸酐基和氨基的至少一种官能基的有机基，R9表示具有选自羟基、羧基、环氧基、酸酐基和氨基的至少一种官能基的有机基，R13表示芳基或杂芳基。

公开(公告)号：CN101593852B

公开(公告)日：2011-03-02

申请号：CN200910146325.X

申请日：2005-08-11

Applicant: 日本曹达株式会社

Inventor： 新谷武士 ,  河村洁 ,  白井昭宏

IPC: H01M10/40 ,  C08F20/00 ,  C08F12/00 ,  C08F4/40 ,  C09J133/00 ,  C09J125/00 ,  H01M4/62

Abstract: 本发明涉及多分支聚合物及其制造方法。提供下述式(I)表示的多分支聚合物及该多分支聚合物的制造方法。式中，A表示具有3个以上分支链的有机基团，Xa表示含有周期表第14～16族的任一原子的连接基团，Y表示结构中可具有活性卤素原子的官能团，Q表示具有由聚合性不饱和键衍生的重复单元的臂部，m1表示从1至上述A所具有的分支链的个数中的任一整数，m2表示上述A所具有的分支链的个数，n1表示0或1以上的整数，Ra表示不参与聚合反应的有机基团。

公开(公告)号：CN101484488A

公开(公告)日：2009-07-15

申请号：CN200780025447.2

申请日：2007-07-11

Applicant: 日本曹达株式会社

Inventor： 新谷武士

IPC: C08F293/00 ,  C08G85/00

CPC classification number: C08F295/00 ,  C08F293/005

Abstract: 本发明提供分子结构受控的窄分散的星形聚合物以及能够简易地制造该星形聚合物的星形聚合物的制造方法。本发明涉及星形聚合物的制造方法，其具有：(A)使具有阴离子末端的聚合物的阴离子末端与核结合，形成臂(I)的工序；和(B)采用活性自由基聚合从核伸长臂(II)的工序。此外，作为该星形聚合物的例子，可以例示以下星形聚合物，其特征在于：含有式(I－1)或(I－2)所示的结构。式(I－1)或(I－2)中，B、C1和C2各自独立地表示由聚合物形成的基团，m1和m2各自独立地表示1或2的整数，m1、m2为2时，C1之间和C2之间表示相同或不同的基团。

公开(公告)号：CN103906777B

公开(公告)日：2016-09-14

申请号：CN201280050462.3

申请日：2012-10-15

Applicant: 日本曹达株式会社

Inventor： 新谷武士 ,  冈户俊明 ,  丹藤泉 ,  成濑秀则 ,  梶田彻

IPC: C08F297/02 ,  C09B67/20 ,  G02B5/20

CPC classification number: C08F299/04 ,  C08F290/062 ,  C08F297/026 ,  C09B67/0002 ,  C09B67/009 ,  G02B5/223 ,  C08F220/18 ,  C08F2220/285 ,  C08F2220/281

Abstract: 本发明的课题在于提供具有优异的颜料分散性能的共聚物，特别是提供可作为能够在滤色器中实现绿色像素的高亮度化和高对比度化的颜料分散剂使用的共聚物。本发明的共聚物含有嵌段链（A）和嵌段链（B），胺值为80mgKOH/g～250mgKOH/g，该嵌段链（A）包含具有叔氨基的重复单元，该嵌段链（B）包含下述式（I）表示的重复单元（式中，R1表示氢原子或C1～C3烷基，R2和R3各自独立地表示氢原子或C1～C6烷基，Q表示可具有烷基作为取代基的含氧饱和杂环基或C2～C20链烯基，n表示0～6中的任意整数）。

公开(公告)号：CN104822714A

公开(公告)日：2015-08-05

申请号：CN201380062849.5

申请日：2013-12-03

Applicant: 日本曹达株式会社

Inventor： 新谷武士 ,  府川直裕

IPC: C08F20/18

CPC classification number: C08F220/34 ,  C08F2/38 ,  C08F2220/346

Abstract: 本发明寻求具有高空间位阻性仲氨基或高空间位阻性卤代氨基的(甲基)丙烯酸酯系聚合物的新颖的制造方法，尤其是不需要通过保护基保护仲胺的简便的制造方法。具有空间位阻性仲氨基或高空间位阻性卤代氨基的特定的(甲基)丙烯酸酯单体可以在不保护该仲胺的情况下通过活性阴离子聚合法进行聚合，根据本发明的制造方法，能够得到分子量分布窄的(甲基)丙烯酸酯聚合物。

公开(公告)号：CN102869693A

公开(公告)日：2013-01-09

申请号：CN201180017591.8

申请日：2011-04-08

Applicant: 日本曹达株式会社 ,  JSR株式会社

Inventor： 新谷武士 ,  立石祐一 ,  冈户俊明 ,  成濑秀则 ,  梶田彻

IPC: C08F297/00

CPC classification number: C08F283/06 ,  C08F220/10

Abstract: 本发明提供作为颜料的分散剂等有用的新型共聚物。新型共聚物是以含有嵌段链（A）和嵌段链（B）为特征的共聚物，所述嵌段链（A）由包含选自具有叔氨基的重复单元和具有季铵盐基的重复单元中的至少1种重复单元的聚合物构成，所述嵌段链（B）由包含具有聚氧烷撑链的重复单元和具有酸性基团的重复单元的共聚物构成。作为选自具有叔氨基的重复单元和具有季铵盐基的重复单元中的至少1种重复单元，例如是下述式（Ⅱ）表示的重复单元，作为具有聚氧烷撑链的重复单元，例如是下述式（Ⅲ）表示的重复单元。