-
公开(公告)号:CN102947781A
公开(公告)日:2013-02-27
申请号:CN201180030695.2
申请日:2011-06-20
Applicant: 日本写真印刷株式会社
IPC: G06F3/041
CPC classification number: G03F7/405 , G06F3/044 , G06F2203/04103
Abstract: 本发明提供一种适用于窄边框且透明导电膜图案为两层的静电容量式触摸传感器且防锈性也非常优良的窄边框触摸输入薄片的制造方法,本发明使用在透明衬底薄片两面上分别依次层压形成透明导电膜、遮光性导电膜、第一抗蚀剂层的导电性薄片,对两面同时曝光和显像第一抗蚀剂层,然后同时蚀刻透明导电膜和遮光性导电膜,剥离第一抗蚀剂层后在暴露的遮光性导电膜上层压形成添加防锈剂且被图案化的第二抗蚀剂层,通过仅蚀刻去除中央窗部和端子部的遮光性导电膜,使透明导电膜暴露,进一步在中央窗部和端子部的境界中侧面蚀刻遮光性导电膜的暴露的端面,由此使第二抗蚀剂层呈房檐结构,最后通过热处理软化房檐结构的第二抗蚀剂层,由此覆盖所残留的遮光性导电膜的暴露的端面,并以该状态不剥离第二抗蚀剂层而将其作为防锈层残留。
-
公开(公告)号:CN102947781B
公开(公告)日:2016-03-09
申请号:CN201180030695.2
申请日:2011-06-20
Applicant: 日本写真印刷株式会社
IPC: G06F3/041
CPC classification number: G03F7/405 , G06F3/044 , G06F2203/04103
Abstract: 本发明提供一种适用于窄边框且透明导电膜图案为两层的静电容量式触摸传感器且防锈性也非常优良的窄边框触摸输入薄片的制造方法,本发明使用在透明衬底薄片两面上分别依次层压形成透明导电膜、遮光性导电膜、第一抗蚀剂层的导电性薄片,对两面同时曝光和显像第一抗蚀剂层,然后同时蚀刻透明导电膜和遮光性导电膜,剥离第一抗蚀剂层后在暴露的遮光性导电膜上层压形成添加防锈剂且被图案化的第二抗蚀剂层,通过仅蚀刻去除中央窗部和端子部的遮光性导电膜,使透明导电膜暴露,进一步在中央窗部和端子部的境界中侧面蚀刻遮光性导电膜的暴露的端面,由此使第二抗蚀剂层呈房檐结构,最后通过热处理软化房檐结构的第二抗蚀剂层,由此覆盖所残留的遮光性导电膜的暴露的端面,并以该状态不剥离第二抗蚀剂层而将其作为防锈层残留。
-