公开(公告)号：CN102262998A

公开(公告)日：2011-11-30

申请号：CN201110126157.5

申请日：2011-05-12

Applicant: 日新离子机器株式会社

Inventor： 奥手康弘 ,  立道润一

IPC: H01J37/317 ,  H01L21/68

Abstract: 本发明提供一种离子注入装置，能够大幅度提高单位时间可处理基板的张数和单位时间的离子注入量，此外，能够应对近年来基板的大型化，以防止装置整体过大。离子注入装置包括：运送机构(3)，具有相互分离且平行的一对轨道(31、32)，沿着各所述轨道(31、32)使同一形状的基板(2)的面板部与所述轨道(31、32)平行、且使各轨道上的各基板(2)保持相互平行的姿势，并且使各基板(2)分别向相反方向前进；以及一对离子束照射机构(5)，从与所述面板部垂直的方向观察，当各轨道上的基板(2)到达规定的重合位置时，各所述基板(2)基本重合，并且各离子束(B)避开位于所述重合位置的基板、且分别通过所述基板(2)的前进方向一侧和与前进方向相反一侧。

公开(公告)号：CN102262998B

公开(公告)日：2013-11-20

申请号：CN201110126157.5

申请日：2011-05-12

Applicant: 日新离子机器株式会社

Inventor： 奥手康弘 ,  立道润一

IPC: H01L21/68 ,  H01J37/317

Abstract: 本发明提供一种离子注入装置，能够大幅度提高单位时间可处理基板的张数和单位时间的离子注入量，此外，能够应对近年来基板的大型化，以防止装置整体过大。离子注入装置包括：运送机构(3)，具有相互分离且平行的一对轨道(31、32)，沿着各所述轨道(31、32)使同一形状的基板(2)的面板部与所述轨道(31、32)平行、且使各轨道上的各基板(2)保持相互平行的姿势，并且使各基板(2)分别向相反方向前进；以及一对离子束照射机构(5)，从与所述面板部垂直的方向观察，当各轨道上的基板(2)到达规定的重合位置时，各所述基板(2)基本重合，并且各离子束(B)避开位于所述重合位置的基板、且分别通过所述基板(2)的前进方向一侧和与前进方向相反一侧。