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1.

发明公开
离子注入装置失效

公开(公告)号：CN102683147A

公开(公告)日：2012-09-19

申请号：CN201110300414.2

申请日：2011-09-29

Applicant: 日新离子机器株式会社

Inventor： 内藤胜男 , 佐佐木彰

IPC: H01J37/317 , H01J37/02

Abstract: 本发明提供一种离子注入装置，以廉价且简单的装置结构，能够防止离子源产生的微粒混入基板。本发明的离子注入装置(IM)包括：离子源(1)，通过离子束引出口(14)朝向与重力方向(G)交差的方向引出离子束(2)；输送盘(7)，装载有基板(4)；掩模(5)，安装在输送盘(7)上，且至少具有一个开口部(6)；以及驱动机构，通过使输送盘(7)在与离子束(2)交差的方向上移动，使离子束(2)经过掩模(5)上形成的开口部(6)，对基板的规定区域进行照射。该离子注入装置还包括防尘板(11)，在沿重力方向(G)观察离子束引出口(14)时，该防尘板(11)覆盖离子束引出口(14)的下方，并且不妨碍离子束(2)照射基板(4)。

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