等离子体产生用的天线、具有所述天线的等离子体处理装置以及天线构造

    公开(公告)号:CN110291847A

    公开(公告)日:2019-09-27

    申请号:CN201880011433.3

    申请日:2018-02-13

    Abstract: 本发明减小天线的阻抗,并且消除构成电容元件的电极及介电质之间产生的间隙。本发明的天线(3)用于产生感应耦合型等离子体P,且具备至少两个导体要素(31)、设于彼此相邻的导体要素(31)之间且将这些导体要素(31)绝缘的绝缘要素(32)、以及与彼此相邻的导体要素(31)电性串联的电容元件(33),电容元件(33)是由与彼此相邻的导体要素(21)中的一者电性连接的第一电极(33A)、与彼此相邻的导体要素(31)中的另一者电性连接的第二电极(33B)、以及将第一电极(33A)及第二电极(33B)之间的空间充满的液体介电质所构成。

    等离子体产生用的天线及具备该天线的等离子体处理装置

    公开(公告)号:CN105491780A

    公开(公告)日:2016-04-13

    申请号:CN201510627231.X

    申请日:2015-09-28

    CPC classification number: H01J37/3211 H01J37/32522

    Abstract: 本发明提供一种等离子体产生用的天线及具备该天线的等离子体处理装置,天线是配置在真空容器内以用于产生电感耦合型等离子体的天线,即使在加长天线的情况下,也能够抑制其阻抗的增大。天线(20)配置在真空容器(2)内,用于使高频电流流经以使真空容器(2)内产生电感耦合型等离子体(16),所述天线(20)具备:绝缘管(22);以及中空的天线本体(24),配置在绝缘管(22)中,且内部流经有冷却水,天线本体(24)采用使中空绝缘体(28)介隔在相邻的金属管(26)间而将多个金属管(26)串联连接的结构,各连接部具有相对于真空及所述冷却水的密封功能。本发明即使在加长天线的情况下,也能够抑制其阻抗的增大。

    电容元件及等离子体处理装置

    公开(公告)号:CN111656475A

    公开(公告)日:2020-09-11

    申请号:CN201980009942.7

    申请日:2019-01-25

    Abstract: 在使用液体物质来作为电介质的电容元件中,防止静电电容变化。电容元件包括:收纳容器,具有将作为电介质的液体导入的导入端口及将所述液体导出的导出端口,且由所述液体来装满;以及至少一对电极,设置于所述收纳容器内且彼此相向,并且在所述收纳容器的上壁形成有用以将此收纳容器内的气泡排出的开口部。

    管路保持连接结构以及具备所述结构的高频天线装置

    公开(公告)号:CN107208833B

    公开(公告)日:2019-01-11

    申请号:CN201680007653.X

    申请日:2016-01-22

    Abstract: 本发明提供一种管路保持连接结构及高频天线装置,所述管路保持连接结构能够减小结构整体的宽度,且能够减少零件数及装配作业步骤。所述管路保持连接结构(30a)包括:外壳(32),以气密地封闭真空容器(4)的开口部(6)的方式而固定;第1管路(50),端部附近贯穿开口部(6)及外壳(32);以及第2管路(60),具有与所述端部的公螺纹部(56)螺合的母螺纹部(64)。管路(50)具有卡止部(52)。两管路(50)、(60)内供流体(2)流动。在管路(50)与外壳(32)及管路(60)的端部之间,分别设置有衬垫(72)、(73)。所述管路保持连接结构(30a)能够用于所述高频天线装置。

    等离子体产生用的天线及具备该天线的等离子体处理装置

    公开(公告)号:CN105491780B

    公开(公告)日:2018-03-30

    申请号:CN201510627231.X

    申请日:2015-09-28

    CPC classification number: H01J37/3211 H01J37/32522

    Abstract: 本发明提供一种等离子体产生用的天线及具备该天线的等离子体处理装置,天线是配置在真空容器内以用于产生电感耦合型等离子体的天线,即使在加长天线的情况下,也能够抑制其阻抗的增大。天线(20)配置在真空容器(2)内,用于使高频电流流经以使真空容器(2)内产生电感耦合型等离子体(16),所述天线(20)具备:绝缘管(22);以及中空的天线本体(24),配置在绝缘管(22)中,且内部流经有冷却水,天线本体(24)采用使中空绝缘体(28)介隔在相邻的金属管(26)间而将多个金属管(26)串联连接的结构,各连接部具有相对于真空及所述冷却水的密封功能。本发明即使在加长天线的情况下,也能够抑制其阻抗的增大。

    电容元件及等离子体处理装置

    公开(公告)号:CN111656475B

    公开(公告)日:2022-07-05

    申请号:CN201980009942.7

    申请日:2019-01-25

    Abstract: 提供一种电容元件及等离子体处理装置。在使用液体物质来作为电介质的电容元件中,防止静电电容变化。电容元件包括:收纳容器,具有将作为电介质的液体导入的导入端口及将所述液体导出的导出端口,且由所述液体来装满;以及至少一对电极,设置于所述收纳容器内且彼此相向,并且在所述收纳容器的上壁形成有用以将此收纳容器内的气泡排出的开口部。

    掩模框架及真空处理装置

    公开(公告)号:CN109072403B

    公开(公告)日:2021-04-20

    申请号:CN201780019206.0

    申请日:2017-03-08

    Inventor: 李东伟

    Abstract: 本发明提供一种掩模框架及真空处理装置,设为以下构成:无需在相互邻接的框架元件上设置用以填埋间隙的特别构件,即使变更掩模框架的开口部的尺寸,也不会在各框架元件之间产生间隙。本发明的掩模框架是具有矩形的开口部的掩模框架,其包括具有与开口部的四边分别相对应的长度方向的4个框架元件,各框架元件中的长度方向一端侧的端边部及与所述端边部邻接的框架元件中的沿长度方向的开口部侧边部是在俯视时不空开间隙地相向而配置,4个框架元件是在俯视时相对于各自的长度方向倾斜的各自的滑动方向上可滑移地设置,通过使所述4个框架元件滑移而可变更所述开口部的开口尺寸地构成。

    掩模框架及真空处理装置

    公开(公告)号:CN109072403A

    公开(公告)日:2018-12-21

    申请号:CN201780019206.0

    申请日:2017-03-08

    Inventor: 李东伟

    Abstract: 本发明设为以下构成:无需在相互邻接的框架元件上设置用以填埋间隙的特别构件,即使变更掩模框架的开口部的尺寸,也不会在各框架元件之间产生间隙。本发明是具有矩形的开口部的掩模框架,其包括具有与开口部的四边分别相对应的长度方向的4个框架元件,各框架元件中的长度方向一端侧的端边部及与所述端边部邻接的框架元件中的沿长度方向的开口部侧边部是在俯视时不空开间隙地相向而配置,4个框架元件是在俯视时相对于各自的长度方向倾斜的各自的滑动方向上可滑移地设置,通过使所述4个框架元件滑移而可变更所述开口部的开口尺寸地构成。

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