公开(公告)号：CN119896038A

公开(公告)日：2025-04-25

申请号：CN202280100164.4

申请日：2022-11-22

Applicant: 日新电机株式会社

Inventor： 松尾大辅 ,  中尻佳秀 ,  安东靖典

IPC: H05H1/46

Abstract: 本发明的等离子体处理装置使用等离子体对配置于处理室的被处理物进行真空处理，所述等离子体处理装置包括：真空容器，具有突出部分，所述突出部分是将形成所述处理室的壁以自大气侧朝向所述处理室侧成为凸形的方式弯曲而形成的部分，并形成有沿厚度方向贯穿的开口；天线，设于所述处理室的外部且设于由所述突出部分的大气侧的壁面形成的凹部内，与高频电源连接而产生高频磁场；介电板，以自大气侧封堵所述突出部分的开口的方式配置于所述凹部内，使自所述天线产生的高频磁场透射至所述处理室内；以及支撑构件，是安装于所述凹部的能弹性变形的构件，能选择性地配置于支撑位置及退避位置，所述支撑位置是与所述介电板接触，利用弹性力将所述介电板朝向所述凹部的壁面施力而予以支撑的位置，所述退避位置是自所述支撑位置退避的位置。

公开(公告)号：CN119698928A

公开(公告)日：2025-03-25

申请号：CN202380059547.6

申请日：2023-12-28

Applicant: 日新电机株式会社

Inventor： 长町学 ,  安藤瞭汰 ,  辰巳夏生 ,  中尻佳秀 ,  安东靖典

IPC: H05H1/46 ,  C23C16/509 ,  H01L21/3065

Abstract: 一种天线装置10，用于使高频电流流动而产生等离子体P，其包括：呈直线状的天线3；呈直管状的绝缘罩4，覆盖天线3的外侧周面3c；以及突出绝缘部5，设置在天线3的轴向两端部3a、3b之间，向比天线3的外侧周面3c更靠绝缘罩4的内侧周面4a侧突出，并且包含绝缘材料。