公开(公告)号：CN117626193A

公开(公告)日：2024-03-01

申请号：CN202311108590.5

申请日：2023-08-30

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 松冈秀展 ,  高山侃也 ,  木畑充裕 ,  国方智

IPC: C23C14/34 ,  C23C14/08 ,  C23C14/02 ,  C23C14/54 ,  C23C14/10

Abstract: 提供一种防反射薄膜的制造方法，其能够得到在抑制制造时的薄膜基材的变形的同时、高温耐久性优异的防反射薄膜。防反射薄膜的制造方法具备工序Sa和工序Sb。在工序Sa中，使用稀有气体和氧气对薄膜基材(13)的一个主面(12a)进行轰击处理。在工序Sb中，在经过轰击处理的主面(12a)侧上成膜防反射层(19)。在工序Sb中成膜的防反射层(19)由多层膜形成，该多层膜包含氧化铌薄膜、以及与氧化铌薄膜折射率不同的无机薄膜。

公开(公告)号：CN110109211A

公开(公告)日：2019-08-09

申请号：CN201910103207.4

申请日：2019-02-01

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 新美健二郎 ,  中田美惠 ,  森永总司 ,  高山侃也

IPC: G02B5/30 ,  G02B1/14 ,  G02B1/16

Abstract: 本发明提供一种表面保护膜的高速剥离性优异、并且可显著地抑制气泡、外观优异的带表面保护膜的光学层叠体。本发明的带表面保护膜的光学层叠体具有光学层叠体和表面保护膜。表面保护膜具有基材及粘合剂层、且通过粘合剂层可剥离地贴合于光学层叠体。表面保护膜的粘合剂层的厚度为2μm以下，且粘合剂层的表面粗糙度Sa1为30nm以下。光学层叠体的与粘合剂层接触的面的表面粗糙度Sa2为30nm以下。

公开(公告)号：CN114545531A

公开(公告)日：2022-05-27

申请号：CN202210137602.6

申请日：2018-01-19

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 品川雅 ,  秦纪明 ,  高山侃也 ,  中田美惠

IPC: G02B1/16 ,  G02B1/14 ,  C08J7/044 ,  C09D5/24 ,  C09D165/00 ,  C09D125/18 ,  C08L33/04

Abstract: 本发明提供一种偏振器用保护膜、上述偏振器用保护膜的制造方法及上述偏振器用保护膜的制造装置，所述偏振器用保护膜通过使用基材和防静电层在未进行混合的情况下被熔融固定、且基材层和防静电层一起具有取向性、形成了具有特定的厚度的防静电层的偏振器用保护膜，由此，基材与防静电层的层间的凝聚力、粘附力优异、还在不降低光学特性的情况下具有防静电性、防剥离带电性。本发明的偏振器用保护膜具有基材和在上述基材的单面上的由含有导电性聚合物的防静电剂组合物形成的防静电层，其特征在于，上述基材与防静电层在未进行混合的情况下被熔融固定、且具有取向性，上述防静电层的厚度为100nm以下。

公开(公告)号：CN108363124A

公开(公告)日：2018-08-03

申请号：CN201810054157.0

申请日：2018-01-19

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 品川雅 ,  秦纪明 ,  高山侃也 ,  中田美惠

IPC: G02B1/16 ,  G02B1/14 ,  C08J7/04 ,  C09D5/24 ,  C09D161/00 ,  C09D125/18 ,  C08L33/04

CPC classification number: G02B1/16 ,  C08J7/047 ,  C08J2333/04 ,  C08J2425/18 ,  C08J2461/00 ,  C08L2201/04 ,  C09D5/24 ,  C09D125/18 ,  C09D161/00 ,  G02B1/14

Abstract: 本发明提供一种偏振器用保护膜、上述偏振器用保护膜的制造方法及上述偏振器用保护膜的制造装置，所述偏振器用保护膜通过使用基材和防静电层在未进行混合的情况下被熔融固定、且基材层和防静电层一起具有取向性、形成了具有特定的厚度的防静电层的偏振器用保护膜，由此，基材与防静电层的层间的凝聚力、粘附力优异、还在不降低光学特性的情况下具有防静电性、防剥离带电性。本发明的偏振器用保护膜具有基材和在上述基材的单面上的由含有导电性聚合物的防静电剂组合物形成的防静电层，其特征在于，上述基材与防静电层在未进行混合的情况下被熔融固定、且具有取向性，上述防静电层的厚度为100nm以下。

公开(公告)号：CN109790438B

公开(公告)日：2021-08-31

申请号：CN201780059082.9

申请日：2017-09-14

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 片冈贤一 ,  高山侃也 ,  天野立巳

IPC: C09J201/00 ,  B32B27/00 ,  C09J7/25 ,  C09J7/40 ,  C09J7/30 ,  C09J11/06 ,  G02B5/30 ,  C09J133/00 ,  C09J175/04 ,  C09J183/04

Abstract: 本发明提供即使在高温环境下对偏光板等光学构件贴附保存的情况下，也能够实现抗静电性、剥离静电压的经时稳定性的粘合剂组合物、由前述粘合剂组合物形成的粘合片、及贴附有前述粘合片的光学构件。本发明的粘合剂组合物的特征在于，含有粘合性聚合物及下述式(1)所示的含离子性基团的有机硅。(R1～R4任选相同或不同，包含碳数1～10的烷基、烷氧基、芳基、脂环基、氟取代烷基、离子性基团中的任意者，R1～R4中的1者以上包含离子性基团。n为0～100的整数。)

公开(公告)号：CN110109201A

公开(公告)日：2019-08-09

申请号：CN201910103194.0

申请日：2019-02-01

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 中田美惠 ,  新美健二郎 ,  森永总司 ,  高山侃也

IPC: G02B1/14

Abstract: 本发明提供一种能够不使用隔膜而形成卷的表面保护膜。本发明的实施方式的表面保护膜具有基材和粘合剂层。粘合剂层的厚度为5μm以下、且表面粗糙度Sa为3nm～10nm。在一个实施方式中，表面保护膜不包含隔膜、且能够卷绕成卷状。在一个实施方式中，表面保护膜的宽度为1m以上。

公开(公告)号：CN109790438A

公开(公告)日：2019-05-21

申请号：CN201780059082.9

申请日：2017-09-14

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 片冈贤一 ,  高山侃也 ,  天野立巳

IPC: C09J201/00 ,  B32B27/00 ,  C09J7/25 ,  C09J7/40 ,  C09J7/30 ,  C09J11/06 ,  G02B5/30 ,  C09J133/00 ,  C09J175/04 ,  C09J183/04

CPC classification number: B32B27/00 ,  C09J11/06 ,  C09J133/00 ,  C09J175/04 ,  C09J183/04 ,  C09J201/00 ,  G02B5/30

Abstract: 本发明提供即使在高温环境下对偏光板等光学构件贴附保存的情况下，也能够实现抗静电性、剥离静电压的经时稳定性的粘合剂组合物、由前述粘合剂组合物形成的粘合片、及贴附有前述粘合片的光学构件。本发明的粘合剂组合物的特征在于，含有粘合性聚合物及下述式(1)所示的含离子性基团的有机硅。(R1～R4任选相同或不同，包含碳数1～10的烷基、烷氧基、芳基、脂环基、氟取代烷基、离子性基团中的任意者，R1～R4中的1者以上包含离子性基团。n为0～100的整数。)