公开(公告)号：CN100481580C

公开(公告)日：2009-04-22

申请号：CN200510109616.3

申请日：2005-09-14

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 水谷薰 ,  金田充宏 ,  山本孝幸

IPC: H01M2/14 ,  C08J9/00

Abstract: 本发明提供一种即使洗净溶剂的纯度低，由于能够缩短洗净溶剂的干燥时间，抑制多孔膜的收缩从而能够稳定获得孔隙率高的多孔膜的制造方法以及电池用隔板的制造方法。该方法是含有在制膜后使用洗净溶剂从含有低分子量物质的多孔膜中除去低分子量物质的工序的多孔膜的制造方法，其特征在于，含有使用液体洗净溶剂从上述多孔膜中除去低分子量物质的工序、使多孔膜接触相同或不同的洗净溶剂的蒸气而使上述洗净溶剂冷凝的工序、从多孔膜上干燥冷凝的洗净溶剂的工序。

公开(公告)号：CN1750292A

公开(公告)日：2006-03-22

申请号：CN200510109616.3

申请日：2005-09-14

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 水谷薰 ,  金田充宏 ,  山本孝幸

IPC: H01M2/14 ,  C08J9/00

Abstract: 本发明提供一种即使洗净溶剂的纯度低，由于能够缩短洗净溶剂的干燥时间，抑制多孔膜的收缩从而能够稳定获得孔隙率高的多孔膜的多孔膜的制造方法以及电池用隔板的制造方法。该方法是含有在制膜后使用洗净溶剂从含有低分子量物质的多孔膜中除去低分子量物质的工序的多孔膜的制造方法，其特征在于，含有使用液体洗净溶剂从上述多孔膜中除去低分子量物质的工序、使多孔膜接触相同或不同的洗净溶剂的蒸气而使上述洗净溶剂冷凝的工序、从多孔膜上干燥冷凝的洗净溶剂的工序。