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公开(公告)号：CN101305302A
公开(公告)日：2008-11-12
申请号：CN200680041443.9
申请日：2006-10-17
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: G02B5/30 , C08F8/28 , C08F216/38 , C08J5/18
CPC classification number: C08F24/00 , C08F8/28 , C08F216/06 , C08F216/38 , C08F220/02 , G02B5/3083 , Y10T428/1036 , Y10T428/31942 , C08F16/06
Abstract: 本发明目的在于提供一种透明性、耐热性和加工性优异的光学薄膜。一种光学薄膜，其含有至少具有右述通式(I)所示的重复单元的聚合物。[在通式(I)中，R1和R3各自独立地表示氢原子、碳原子数为1～4的直链或支链烷基、或取代或非取代的苯基。R2、A和B各自独立地表示氢原子、卤素原子、碳原子数为1～4的直链或支链烷基、碳原子数为1～4的直链或支链卤代烷基、碳原子数为1～4的直链或支链烷氧基、烷氧基羰基、酰氧基、氨基、叠氮基、硝基、氰基或羟基(其中，R2不是氢原子)。R4表示氢原子、碳原子数为1～4的直链或支链烷基、碳原子数为5～10的取代或非取代的环烷基、取代或非取代的苯基、取代或非取代的萘基、或取代或非取代的杂环基。R5表示氢原子、碳原子数为1～4的直链或支链烷基、苄基、甲硅烷基、磷酸基、酰基、苯甲酰基、或磺酰基。l、m和n表示2以上的整数] 。
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公开(公告)号：CN101312994A
公开(公告)日：2008-11-26
申请号：CN200680043516.8
申请日：2006-10-17
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: C08F16/38 , C08F8/28 , C08F216/38
CPC classification number: C08F216/38 , C08F8/28 , C08F16/06
Abstract: 本发明的目的在于提供透明性和耐热性优异的聚合物。本发明为至少具有下述通式(I)所示的重复单元的聚合物。[通式(I)中，R1表示氢原子、碳原子数1～4的直链或支链烷基、或者取代或非取代的苯基，R2、A和B各自独立表示氢原子、卤原子、碳原子数1～4的直链或支链烷基、碳原子数1～4的直链或支链的卤代烷基、碳原子数1～4的直链或支链的烷氧基、烷氧基羰基、酰氧基、氨基、叠氮基、硝基、氰基或羟基(其中，R2并非为氢原子)，l表示2以上的整数。]。
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公开(公告)号：CN101512402B
公开(公告)日：2012-04-04
申请号：CN200780033517.9
申请日：2007-09-05
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: G02B5/30 , C08J5/18 , G02F1/13363
CPC classification number: G02F1/13363 , C08J5/18 , G02B5/3083 , G02F2001/133637 , G02F2202/40 , Y10T428/1036 , Y10T428/1041 , Y10T428/31942
Abstract: 本发明公开了一种相位差膜，其特征在于，其含有热塑性聚合物，该热塑性聚合物至少具有在相对于慢轴方向基本垂直的方向上取向的侧链成分(A)，该侧链成分(A)的吸收端波长(λcut-off)为330nm以上，波长450nm下的面内的相位差值(Re[450])比波长650nm下的面内的相位差值(Re[650])小。前述相位差膜的波长650nm下的面内的相位差值Re[650]与波长450nm下的面内的相位差值Re[450]的差(ΔRe650-450＝Re[650]-Re[450])优选为10nm以上。本发明的相位差膜显示了面内双折射率大并且短波长侧的相位差值与长波长侧的相位差值的差很大的光学特性。
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公开(公告)号：CN100339416C
公开(公告)日：2007-09-26
申请号：CN200410062946.7
申请日：2004-07-05
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: C08G73/10
CPC classification number: H01L23/145 , C08G73/1046 , C08G73/1053 , H01B3/306 , H01B3/427 , H01L2924/0002 , H05K1/0346 , H05K3/4676 , H01L2924/00
Abstract: 本发明提供一种用于电绝缘材料的聚酰亚胺树脂，其包含具有通式(I)所示的重复单元的聚酰亚胺树脂，其中R1表示二价有机基团。
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公开(公告)号：CN100370288C
公开(公告)日：2008-02-20
申请号：CN200610003293.4
申请日：2006-02-08
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: G02B5/30 , G02F1/1335 , C08J5/18
CPC classification number: G02B5/3083 , C08J5/18 , Y10T428/1036 , Y10T428/1041
Abstract: 本发明提供了一种含有聚合物膜的拉伸膜的相位差膜，该聚合物膜在23℃下利用波长为550nm的光测量的光弹性系数(m2/N)的绝对值为小于或等于50×10-12，该相位差膜满足下列表达式(1)和(2)：Re[450]＜Re[550]＜Re[650] …(1)Rth[550]＜Re[550] …(2)。在表达式(1)和(2)中：Re[450]、Re[550]和Re[650]分别代表在23℃下利用波长为450nm、550nm和650nm的光测量的面内相位差值；并且Rth[550]代表在23℃下利用波长为550nm的光测量的厚度方向的相位差值。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1818723A
公开(公告)日：2006-08-16
申请号：CN200610003293.4
申请日：2006-02-08
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: G02B5/30 , G02F1/1335 , C08J5/18
CPC classification number: G02B5/3083 , C08J5/18 , Y10T428/1036 , Y10T428/1041
Abstract: 本发明提供了一种含有聚合物膜的拉伸膜的相位差膜，该聚合物膜在23℃下利用波长为550nm的光测量的光弹性系数(m2/N)的绝对值为小于或等于50×10－12，该相位差膜满足下列表达式(1)和(2)：Re[450]＜Re[550]＜Re[650]…(1)，Rth[550]＜Re[550]…(2)。在表达式(1)和(2)中：Re[450]、Re[550]和Re[650]分别代表在23℃下利用波长为450mm、550nm和650nm的光测量的面内相位差值；并且Rth[550]代表在23℃下利用波长为550nm的光测量的厚度方向的相位差值。
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公开(公告)号：CN101312994B
公开(公告)日：2011-07-20
申请号：CN200680043516.8
申请日：2006-10-17
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: C08F16/38 , C08F8/28 , C08F216/38
CPC classification number: C08F216/38 , C08F8/28 , C08F16/06
Abstract: 本发明的目的在于提供透明性和耐热性优异的聚合物。本发明为至少具有下述通式(I)所示的重复单元的聚合物。[通式(I)中，R1表示氢原子、碳原子数1～4的直链或支链烷基、或者取代或非取代的苯基，R2、A和B各自独立表示氢原子、卤原子、碳原子数1～4的直链或支链烷基、碳原子数1～4的直链或支链的卤代烷基、碳原子数1～4的直链或支链的烷氧基、烷氧基羰基、酰氧基、氨基、叠氮基、硝基、氰基或羟基(其中，R2并非为氢原子)，1表示2以上的整数。]
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公开(公告)号：CN100587526C
公开(公告)日：2010-02-03
申请号：CN200680041443.9
申请日：2006-10-17
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: G02B5/30 , C08F8/28 , C08F216/38 , C08J5/18
CPC classification number: C08F24/00 , C08F8/28 , C08F216/06 , C08F216/38 , C08F220/02 , G02B5/3083 , Y10T428/1036 , Y10T428/31942 , C08F16/06
Abstract: 本发明目的在于提供一种透明性、耐热性和加工性优异的光学薄膜。一种光学薄膜，其含有至少具有下述通式(I)所示的重复单元的聚合物。(见右式)[在通式(I)中，R1和R3各自独立地表示氢原子、碳原子数为1～4的直链或支链烷基、或取代或非取代的苯基。R2、A和B各自独立地表示氢原子、卤素原子、碳原子数为1～4的直链或支链烷基、碳原子数为1～4的直链或支链卤代烷基、碳原子数为1～4的直链或支链烷氧基、烷氧基羰基、酰氧基、氨基、叠氮基、硝基、氰基或羟基(其中，R2不是氢原子)。R4表示氢原子、碳原子数为1～4的直链或支链烷基、碳原子数为5～10的取代或非取代的环烷基、取代或非取代的苯基、取代或非取代的萘基、或取代或非取代的杂环基。R5表示氢原子、碳原子数为1～4的直链或支链烷基、苄基、甲硅烷基、磷酸基、酰基、苯甲酰基、或磺酰基。l、m和n表示2以上的整数]。
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公开(公告)号：CN101512402A
公开(公告)日：2009-08-19
申请号：CN200780033517.9
申请日：2007-09-05
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: G02B5/30 , C08J5/18 , G02F1/13363
CPC classification number: G02F1/13363 , C08J5/18 , G02B5/3083 , G02F2001/133637 , G02F2202/40 , Y10T428/1036 , Y10T428/1041 , Y10T428/31942
Abstract: 本发明公开了一种相位差膜，其特征在于，其含有热塑性聚合物，该热塑性聚合物至少具有在相对于慢轴方向基本垂直的方向上取向的侧链成分(A)，该侧链成分(A)的吸收端波长(λcut－off)为330nm以上，波长450nm下的面内的相位差值(Re[450])比波长650nm下的面内的相位差值(Re[650])小。前述相位差膜的波长650nm下的面内的相位差值Re[650]与波长450nm下的面内的相位差值Re[450]的差(ΔRe650－450＝Re[650]－Re[450])优选为10nm以上。本发明的相位差膜显示了面内双折射率大并且短波长侧的相位差值与长波长侧的相位差值的差很大的光学特性。
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公开(公告)号：CN1576294A
公开(公告)日：2005-02-09
申请号：CN200410062946.7
申请日：2004-07-05
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: C08G73/10
CPC classification number: H01L23/145 , C08G73/1046 , C08G73/1053 , H01B3/306 , H01B3/427 , H01L2924/0002 , H05K1/0346 , H05K3/4676 , H01L2924/00
Abstract: 本发明提供一种用于电绝缘材料的聚酰亚胺树脂，其包含具有通式(I)所示的重复单元的聚酰亚胺树脂，其中R1表示二价有机基团。
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