公开(公告)号：CN117321162A

公开(公告)日：2023-12-29

申请号：CN202280035818.X

申请日：2022-06-06

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 伊神俊辉 ,  西胁匡崇 ,  小谷知央

IPC: C09J7/38

Abstract: 本发明提供掩蔽被粘物并且能够进行红外线阻隔的粘合片。本发明提供具有粘合剂层的粘合片。该粘合片的380nm～550nm波长范围的光线的透过率为20％以下，该粘合片的800nm～1500nm波长范围的光线的透过率为5％以下。

公开(公告)号：CN120019138A

公开(公告)日：2025-05-16

申请号：CN202380072365.2

申请日：2023-09-25

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 小谷知央 ,  山本晃好 ,  山田洋佑

IPC: C11D7/50 ,  C09J5/00 ,  B29B17/02 ,  C09J133/00 ,  C11D7/04

Abstract: 提供：能容易地去除粘合剂的环境负荷小的粘合剂处理液。提供：使用这种粘合剂处理液、容易地从包含基材和粘合剂的粘合带回收污染/腐蚀被抑制的再利用基材的、使用了粘合剂处理液的再利用基材的制造方法。提供：使用这种粘合剂处理液制造能成为再利用粘合剂的原料的再利用聚合物组合物的方法。本发明的实施方式的粘合剂处理液为对粘合剂进行处理的粘合剂处理液，所述粘合剂处理液包含水、有机溶剂和碱性化合物，该有机溶剂和该水形成相分离状态。

公开(公告)号：CN117321164A

公开(公告)日：2023-12-29

申请号：CN202280036010.3

申请日：2022-06-06

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 伊神俊辉 ,  西胁匡崇 ,  小谷知央

IPC: C09J7/38

Abstract: 本发明提供一种掩蔽被粘物且能够进行优异的红外线阻隔的粘合片。本发明提供具有粘合剂层的粘合片。所述粘合剂层包含红外线吸收剂和与该红外线吸收剂不同的着色剂。