公开(公告)号：CN111556798A

公开(公告)日：2020-08-18

申请号：CN201880083148.2

申请日：2018-11-15

Applicant: 新东工业株式会社

Inventor： 花井崇 ,  杉野刚大 ,  小仓和宪 ,  市野善三 ,  高须修司

IPC: B22C9/00 ,  B22C19/04 ,  B22C21/10 ,  B22D47/02

Abstract: 本发明提供一种通过测量图案载体(托板)与砂箱的偏移、上下砂箱的偏移，来防止因型腔部的偏移而引起的不良的方法。在使用与上砂箱用托板(130)组合的上砂箱(110)以及与下砂箱用托板(140)组合的下砂箱(120)的带砂箱的铸模的造型中，防止因型腔部的偏移而引起的不良的方法具备：测量上砂箱用托板(130)与上砂箱(110)的偏移的工序；测量下砂箱用托板(140)与下砂箱(120)的偏移的工序；测量被合箱的上砂箱(110)与下砂箱(120)的偏移的工序；以及根据上砂箱用托板(130)与上砂箱(110)的偏移、下砂箱用托板(140)与下砂箱(120)的偏移、及被合箱的上砂箱(110)与下砂箱(120)的偏移，求出型腔部的偏移来判定是否在允许范围内的工序。

公开(公告)号：CN110678740A

公开(公告)日：2020-01-10

申请号：CN201880033614.6

申请日：2018-05-10

Applicant: 新东工业株式会社

Inventor： 太田和弘 ,  关勉 ,  市野善三 ,  岩崎顺一 ,  园原猛史 ,  川上隆一 ,  青木达也

IPC: G01N21/84 ,  G01N21/88 ,  B22C9/00 ,  B22D47/02

Abstract: 检查装置是检查对象物的外观的装置，其具备：拍摄装置，其从第1方向拍摄对象物；照明部，其以从第1位置照射光的第1照射模式以及从与第1位置不同的第2位置照射光的第2照射模式，向对象物照射光；以及控制器，其通过使拍摄装置拍摄以第1照射模式被照射光的对象物而取得第1检查图像，通过使拍摄装置拍摄以第2照射模式被照射光的对象物而取得第2检查图像，并基于第1检查图像、第2检查图像以及预先设置的基准图像来检查对象物的外观，第1位置与第2位置在从第1方向观察时相互重叠。

公开(公告)号：CN115570101A

公开(公告)日：2023-01-06

申请号：CN202210673012.5

申请日：2022-06-15

Applicant: 新东工业株式会社

Inventor： 小仓裕一 ,  加藤繁佳 ,  市野善三

IPC: B22C5/16 ,  B22C5/00

Abstract: 一个方式的型砂供给装置具备：采集工具，其采集型砂；以及搬运装置，其将由采集工具采集到的型砂沿着屈曲的搬运路径搬运至供给位置。

公开(公告)号：CN111556798B

公开(公告)日：2022-06-03

申请号：CN201880083148.2

申请日：2018-11-15

Applicant: 新东工业株式会社

Inventor： 花井崇 ,  杉野刚大 ,  小仓和宪 ,  市野善三 ,  高须修司

IPC: B22C9/00 ,  B22C19/04 ,  B22C21/10 ,  B22D47/02

Abstract: 本发明提供一种通过测量图案载体(托板)与砂箱的偏移、上下砂箱的偏移，来防止因型腔部的偏移而引起的不良的方法。在使用与上砂箱用托板(130)组合的上砂箱(110)以及与下砂箱用托板(140)组合的下砂箱(120)的带砂箱的铸模的造型中，防止因型腔部的偏移而引起的不良的方法具备：测量上砂箱用托板(130)与上砂箱(110)的偏移的工序；测量下砂箱用托板(140)与下砂箱(120)的偏移的工序；测量被合箱的上砂箱(110)与下砂箱(120)的偏移的工序；以及根据上砂箱用托板(130)与上砂箱(110)的偏移、下砂箱用托板(140)与下砂箱(120)的偏移、及被合箱的上砂箱(110)与下砂箱(120)的偏移，求出型腔部的偏移来判定是否在允许范围内的工序。