基板处理装置、喷嘴以及基板处理方法

    公开(公告)号:CN104952765A

    公开(公告)日:2015-09-30

    申请号:CN201510055024.1

    申请日:2015-02-03

    Abstract: 本发明提供一种基板处理装置、喷嘴以及基板处理方法,提供利用处理液来均匀地对附着有前处理液的基板进行处理的技术。基板处理装置通过多个搬送辊从搬送方向(第三方向)的上游侧朝向下游侧搬送附着有显影液的基板;空气喷嘴向朝向下游侧搬送的基板的表面供给帘状的空气,从而去除堆积在基板上的显影液;冲洗覆液喷嘴配置在空气喷嘴的下游侧,从形成在下表面的喷出口向基板喷出冲洗液;从冲洗覆液喷嘴朝向基板喷出的冲洗液接触至基板及下表面,并且在基板及下表面的间隙内蔓延;液刀喷嘴配置在冲洗覆液喷嘴的下游侧,向基板喷出薄膜状的冲洗液。

    减压干燥装置、基板处理装置以及减压干燥方法

    公开(公告)号:CN105390412B

    公开(公告)日:2018-06-08

    申请号:CN201510436082.9

    申请日:2015-07-23

    Abstract: 本发明提供一种减压干燥装置、基板处理装置以及减压干燥方法,减压干燥装置包括:腔室,收容基板;减压排气单元,对腔室内进行减压排气;阀,介置于腔室与减压排气单元之间,利用阀的开度来调节减压排气的流量;学习单元,针对阀的规定的每种开度,获取表示减压排气所引起的腔室内的压力变化的减压曲线数据;输入单元,被输入目标压力值及目标达到时间;以及控制部,对阀的开度进行控制;且控制部基于所述减压曲线数据、所输入的目标压力值及目标达到时间而调节阀的开度。由此,能够以与所需的减压速度更接近的减压速度进行减压处理。

    图案转印系统以及图案转印方法

    公开(公告)号:CN104070865B

    公开(公告)日:2016-08-31

    申请号:CN201410056632.X

    申请日:2014-02-19

    Abstract: 本发明提供一种图案转印系统以及图案转印方法。本发明的图案转印系统包括:第一清洗部,清洗橡皮布及印刷版;涂布部,对橡皮布涂布转印剂;转印部,通过将涂布着转印剂的橡皮布及印刷版贴合,而对橡皮布转印图案;以及转印部,通过将转印有图案的橡皮布贴合在基板上,而对基板转印图案。此外,图案转印系统包括交接搬送部,所述交接搬送部将已由转印部对橡皮布转印图案的印刷版、及已由转印部对基板转印图案的橡皮布朝向第一清洗部搬送。

    减压干燥装置、基板处理装置以及减压干燥方法

    公开(公告)号:CN105390412A

    公开(公告)日:2016-03-09

    申请号:CN201510436082.9

    申请日:2015-07-23

    CPC classification number: H01L21/67063 G03F7/168 G03F7/30 H01L21/67023

    Abstract: 本发明提供一种减压干燥装置、基板处理装置以及减压干燥方法,减压干燥装置包括:腔室,收容基板;减压排气单元,对腔室内进行减压排气;阀,介置于腔室与减压排气单元之间,利用阀的开度来调节减压排气的流量;学习单元,针对阀的规定的每种开度,获取表示减压排气所引起的腔室内的压力变化的减压曲线数据;输入单元,被输入目标压力值及目标达到时间;以及控制部,对阀的开度进行控制;且控制部基于所述减压曲线数据、所输入的目标压力值及目标达到时间而调节阀的开度。由此,能够以与所需的减压速度更接近的减压速度进行减压处理。

    涂布装置
    5.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103177986B

    公开(公告)日:2015-10-21

    申请号:CN201210553594.X

    申请日:2012-12-18

    Inventor: 富藤幸雄

    Abstract: 本发明提供一种涂布装置,即便在使基板倾斜地加以搬送的情况下,也可以只在基板的背面适当地涂布处理液,并且可以将处理液与防附着液确实地分离而加以个别地回收。处理液喷出管(30)在基板(100)的下方侧且自搬送辊(10)的基板(100)的搬送方向的上游侧,向涂布辊(20)的表面喷出处理液。在处理液回收部(45)上附设有处理液引导构件(70),用于将自处理液喷出管(30)喷出的处理液引导至处理液回收部(45)。

    基板处理装置、喷嘴以及基板处理方法

    公开(公告)号:CN104952765B

    公开(公告)日:2017-10-03

    申请号:CN201510055024.1

    申请日:2015-02-03

    Abstract: 本发明提供一种基板处理装置、喷嘴以及基板处理方法,提供利用处理液来均匀地对附着有前处理液的基板进行处理的技术。基板处理装置通过多个搬送辊从搬送方向(第三方向)的上游侧朝向下游侧搬送附着有显影液的基板;空气喷嘴向朝向下游侧搬送的基板的表面供给帘状的空气,从而去除堆积在基板上的显影液;冲洗覆液喷嘴配置在空气喷嘴的下游侧,从形成在下表面的喷出口向基板喷出冲洗液;从冲洗覆液喷嘴朝向基板喷出的冲洗液接触至基板及下表面,并且在基板及下表面的间隙内蔓延;液刀喷嘴配置在冲洗覆液喷嘴的下游侧,向基板喷出薄膜状的冲洗液。

    基板处理装置
    7.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103369840B

    公开(公告)日:2016-05-11

    申请号:CN201310103865.6

    申请日:2013-03-28

    Abstract: 本发明提供一种基板处理装置,针对具有挠性的基板,能够不接触基板的中央部的不可接触区域地均匀地对基板的表面及背面进行处理。基板处理装置具有搬入部(1)、处理槽(2)、水洗槽(4)、烘干槽(5)、搬出部(6)、用于将基板依次搬运至搬入部(1)、处理槽(2)、水洗槽(4)、烘干槽(5)、搬出部(6)的环状带(7)。另外,基板处理装置具有固定机构,该固定机构用于将基板的与搬运方向平行的一对端缘固定在一对环状带(7)上。在搬入部(1)中,以恒定的间距固定有多张基板,基板的与搬运方向平行的一对端缘固定在一对环状带(7)上。另外,在搬出部(6)中,从一对环状带(7)卸下完成了处理的基板。

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