一种成像检测方法及系统

    公开(公告)号:CN112415010B

    公开(公告)日:2024-06-04

    申请号:CN202011069959.2

    申请日:2020-09-30

    Inventor: 秦军 秦捷

    Abstract: 本发明公开了一种成像检测系统及其方法,其目的在于解决成像区域缺乏匹配特征且需2次以上成像才能有效覆盖、且图像中的瑕疵、缺陷等病害几何参数需要精确测量的问题。背景构象装置生成激光背景图案,向成像检测区域投射背景图案。成像装置由相机与校正图案投射装置组成。成像装置获取具有校正图案、背景图案的目标图像。在一个背景构象装置不能覆盖成像检测区域时,使用多个背景构象装置投射背景图案,多个背景构象装置投出的背景图案在成像区域有重叠,成像过程中不改变多个背景构象装置构成的的背景图案空间组合关系。根据成像装置投射的校正图案完成图像几何校正处理、基于背景图案完成多图像镶嵌匹配。

    一种成像方法及其装置
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN112272272B

    公开(公告)日:2022-03-22

    申请号:CN202011069775.6

    申请日:2020-11-30

    Inventor: 秦军 秦捷

    Abstract: 本发明公开了一种成像方法及其装置,涉及成像技术领域,本发明包括基座和相机,所述基座上设置有旋转台,旋转台上通过支撑组件安装有电动平移台,相机安装在电动平移台上并可沿相机的主光轴方向前后移动,还包括控制相机移动和控制旋转台转动的控制系统;本发明具有结构简单,相机根据变相机焦距变化与镜头光心位移变化的规律进行反向等距位移补偿,相机镜头光心在成像装置内的位置保持不变。

    一种成像检测方法及系统
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112415010A

    公开(公告)日:2021-02-26

    申请号:CN202011069959.2

    申请日:2020-09-30

    Inventor: 秦军 秦捷

    Abstract: 本发明公开了一种成像检测系统及其方法,其目的在于解决成像区域缺乏匹配特征且需2次以上成像才能有效覆盖、且图像中的瑕疵、缺陷等病害几何参数需要精确测量的问题。背景构象装置生成激光背景图案,向成像检测区域投射背景图案。成像装置由相机与校正图案投射装置组成。成像装置获取具有校正图案、背景图案的目标图像。在一个背景构象装置不能覆盖成像检测区域时,使用多个背景构象装置投射背景图案,多个背景构象装置投出的背景图案在成像区域有重叠,成像过程中不改变多个背景构象装置构成的的背景图案空间组合关系。根据成像装置投射的校正图案完成图像几何校正处理、基于背景图案完成多图像镶嵌匹配。

    一种成像方法及其装置
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112272272A

    公开(公告)日:2021-01-26

    申请号:CN202011069775.6

    申请日:2020-11-30

    Inventor: 秦军 秦捷

    Abstract: 本发明公开了一种成像方法及其装置,涉及成像技术领域,本发明包括基座和相机,所述基座上设置有旋转台,旋转台上通过支撑组件安装有电动平移台,相机安装在电动平移台上并可沿相机的主光轴方向前后移动,还包括控制相机移动和控制旋转台转动的控制系统;本发明具有结构简单,相机根据变相机焦距变化与镜头光心位移变化的规律进行反向等距位移补偿,相机镜头光心在成像装置内的位置保持不变。

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