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公开(公告)号：CN102666107B
公开(公告)日：2015-03-11
申请号：CN200980162261.0
申请日：2009-10-30
Inventor： T.S.克鲁斯-乌里贝 , P.马迪洛维奇
CPC classification number: B41J2/14233 , B41J2202/11 , H01L41/047 , H01L41/0973 , H01L41/29
Abstract: 一种压电致动器，包括：薄膜片材、第一电极、以及第二电极。所述薄膜片材响应于所述薄膜片材内感应的电场而发生物理变形。所述第一电极被嵌入所述薄膜片材中。所述第二电极被嵌入所述薄膜片材中，并与所述第一电极相互交错。通过向所述第一电极与第二电极施加电压，在所述薄膜片材内感应出电场。
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公开(公告)号：CN103492185A
公开(公告)日：2014-01-01
申请号：CN201180070459.3
申请日：2011-04-28
CPC classification number: B41J2/04581 , B41J2/04508 , B41J2/04573 , B41J2/04588
Abstract: 在一个实施例中，一种补偿流体喷射装置的压电元件中的电容变化的方法，包括：感测驱动压电元件的电流；根据电流确定压电元件的电容已经变化；以及改变驱动压电元件的电流的上升时间以补偿变化的电容。
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公开(公告)号：CN103328222A
公开(公告)日：2013-09-25
申请号：CN201280007142.X
申请日：2012-01-30
CPC classification number: B41J2/1412 , B41J2/14129
Abstract: 本发明涉及一种流体喷射装置，其包括喷射室，该喷射室具有室底板，带有与室底板相对的孔口，以及加热元件，其部分地覆盖室底板，室底板的一个区域的外形被形成为限定延伸进入室底板的腔。
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公开(公告)号：CN103153842A
公开(公告)日：2013-06-12
申请号：CN201080069728.X
申请日：2010-10-21
CPC classification number: C25D1/006 , B01D63/088 , B01D67/0065 , B01D69/02 , B01D2325/028 , B01L3/502746 , B01L3/502753 , B81B2203/0361 , B81C1/00031 , C25D11/02
Abstract: 本文提供形成具有带帽纳米柱的物品，所述物品包括在其上形成有纳米结构阵列的基底，所述纳米结构阵列包括多个纳米柱，所述多个纳米柱具有第一厚度的茎部分和第二厚度的帽部分，所述第二厚度不同于所述第一厚度。
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公开(公告)号：CN102666107A
公开(公告)日：2012-09-12
申请号：CN200980162261.0
申请日：2009-10-30
Inventor： T.S.克鲁斯-乌里贝 , P.马迪洛维奇
CPC classification number: B41J2/14233 , B41J2202/11 , H01L41/047 , H01L41/0973 , H01L41/29
Abstract: 一种压电致动器，包括：薄膜片材、第一电极、以及第二电极。所述薄膜片材响应于所述薄膜片材内感应的电场而发生物理变形。所述第一电极被嵌入所述薄膜片材中。所述第二电极被嵌入所述薄膜片材中，并与所述第一电极相互交错。通过向所述第一电极与第二电极施加电压，在所述薄膜片材内感应出电场。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103492185B
公开(公告)日：2015-04-22
申请号：CN201180070459.3
申请日：2011-04-28
CPC classification number: B41J2/04581 , B41J2/04508 , B41J2/04573 , B41J2/04588
Abstract: 在一个实施例中，一种补偿流体喷射装置的压电元件中的电容变化的方法，包括：感测驱动压电元件的电流；根据电流确定压电元件的电容已经变化；以及改变驱动压电元件的电流的上升时间以补偿变化的电容。
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公开(公告)号：CN103648786A
公开(公告)日：2014-03-19
申请号：CN201180072374.9
申请日：2011-07-19
IPC: B41J2/335
CPC classification number: B41J2/14427 , B41J2/1412
Abstract: 一种流体喷射装置的加热元件，所述加热元件包括环型主体、所述主体的内边缘和所述主体的外边缘，其中，所述内边缘和所述外边缘中的至少一个限定起伏表面轮廓。
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公开(公告)号：CN103347703A
公开(公告)日：2013-10-09
申请号：CN201280007172.0
申请日：2012-01-31
CPC classification number: B41J2/1412 , B41J2/14129
Abstract: 本发明涉及一种流体喷射装置，其包括喷射室，该喷射室具有与室底板相对的喷射孔口、加热元件和从室底板凸出的凸台，凸台与加热元件隔开，在凸台和加热元件之间限定无源区域。
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公开(公告)号：CN103328221A
公开(公告)日：2013-09-25
申请号：CN201180066473.6
申请日：2011-01-31
CPC classification number: B41J2/05 , B41J2/1412 , B41J2/14129 , B41J2/1603 , B41J2/1626 , B41J2002/14387
Abstract: 一种热流体喷射机构，包括具有顶表面的基底。形成在基底中的空腔具有底面和一个或多个侧壁。侧壁跟底面成的角度大于或等于标称90度。热流体喷射机构包括在基底的顶表面和空腔侧壁中的一个或多个上的带图案的导电层。热流体喷射机构包括在空腔侧壁上的带图案的电阻层。在带图案的导电层形成在空腔侧壁上时，带图案的电阻层位于带图案的导电层之上。带图案的电阻层作为热流体喷射机构的加热电阻器而被形成。导电层作为热流体喷射机构的导体而形成，以允许加热电阻器的电激发来引起流体从热流体喷射机构被喷射。
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公开(公告)号：CN103119743A
公开(公告)日：2013-05-22
申请号：CN201080069390.8
申请日：2010-09-30
IPC: H01L41/187
CPC classification number: H01L41/1878 , C04B35/475 , C04B35/62615 , C04B35/6263 , C04B2235/3201 , C04B2235/3206 , C04B2235/3279 , C04B2235/768
Abstract: 无铅压电陶瓷材料，其具有以下化学通式xBi(A0.5Ti0.5)O3–y(Bi0.5K0.5)TiO3–z(Bi0.5Na0.5)TiO3，其中x+y+z=1，x≠ 0，且A =Ni或Mg。
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