公开(公告)号：CN105111370B

公开(公告)日：2017-12-19

申请号：CN201510628127.2

申请日：2015-09-29

Applicant: 徐州工程学院

Inventor： 唐仕荣 ,  宋慧 ,  刘全德 ,  陈尚龙 ,  高兆建 ,  李勇 ,  刘恩岐 ,  朱伶俐 ,  王宇 ,  金晶

IPC: C08F222/14 ,  C08F220/06 ,  C08J9/26 ,  B01J20/26 ,  B01J20/28 ,  B01J20/30

Abstract: 本发明公开了一种氯霉素分子印迹聚合物及其制备方法，以氯霉素为模板分子，以甲基丙烯酸为功能单体，形成主客体配合物，加入交联剂EDMA发生自由基共聚，最后用溶剂甲醇/乙酸混合液将聚合物从溶剂中沉淀出来，得到氯霉素分子印迹聚合物。其中CAP与甲基丙烯酸与EDMA的摩尔比为1:0.5:20。本发明方法生产出具有非常高的选择性和特异性的氯霉素分子印迹聚合物，有较高的稳定性、较长的使用寿命和较强的抗恶劣环境能力。本发明成本低廉、操作简单、反应条件容易控制。

公开(公告)号：CN105111370A

公开(公告)日：2015-12-02

申请号：CN201510628127.2

申请日：2015-09-29

Applicant: 徐州工程学院

Inventor： 唐仕荣 ,  宋慧 ,  刘全德 ,  陈尚龙 ,  高兆建 ,  李勇 ,  刘恩岐 ,  朱伶俐 ,  王宇 ,  金晶

IPC: C08F222/14 ,  C08F220/06 ,  C08J9/26 ,  B01J20/26 ,  B01J20/28 ,  B01J20/30

Abstract: 本发明公开了一种氯霉素分子印迹聚合物及其制备方法，以氯霉素为模板分子，以甲基丙烯酸为功能单体，形成主客体配合物，加入交联剂EDMA发生自由基共聚，最后用溶剂甲醇/乙酸混合液将聚合物从溶剂中沉淀出来，得到氯霉素分子印迹聚合物。其中CAP与甲基丙烯酸与EDMA的摩尔比为1:0.5:20。本发明方法生产出具有非常高的选择性和特异性的氯霉素分子印迹聚合物，有较高的稳定性、较长的使用寿命和较强的抗恶劣环境能力。本发明成本低廉、操作简单、反应条件容易控制。