公开(公告)号：CN102396060A

公开(公告)日：2012-03-28

申请号：CN201080017094.3

申请日：2010-04-23

Applicant: 应用材料公司

Inventor： M·维尔莱卡尔 ,  M·孚德 ,  J·A·马林 ,  S·D·麦克莱兰

IPC: H01L21/687 ,  H01L21/68 ,  B23Q3/15 ,  H02N13/00

CPC classification number: H01L21/6831

Abstract: 一种用于处理腔室的基板支撑件，包括静电吸盘以及位于该静电吸盘下方的气体分配器基板，其中静电吸盘具有接收表面以接收该基板。该气体分配器基板包括具有复数个出气口的周围侧壁，这些出气口彼此间隔开，以便从围绕该基板的周边且以径向朝外的方向将处理气体导入该处理腔室。

公开(公告)号：CN104170059A

公开(公告)日：2014-11-26

申请号：CN201380013503.6

申请日：2013-03-20

Applicant: 应用材料公司

Inventor： M·维尔莱卡尔 ,  M·S·考克斯 ,  H·P·穆格卡 ,  C·C·王 ,  L·张 ,  H·K·波内坎蒂 ,  M·P·斯图尔特 ,  E·P·哈蒙德四世 ,  A·S·波利亚克

IPC: H01L21/205 ,  H05H1/46 ,  C23C16/50

CPC classification number: C23C16/45565 ,  C23C16/45589 ,  C23C16/50 ,  C23C16/54

Abstract: 本文中描述使用线性等离子体源来控制膜沉积的方法和设备。该设备包括其中具有用以供气体流过的开口的喷洒头、设置于该喷洒头附近用以支撑一或多个基板在其上的输送器以及用以离子化该气体的电源。该离子化气体可以是用以在基板上沉积材料的来源气体。可以调整该材料在基板上的沉积轮廓，例如使用该设备中包括的气体成型装置。另外地或替代地，可以通过使用可致动的喷洒头来调整沉积轮廓。该方法包括使基板曝露于离子化气体，以在该基板上沉积膜，其中以气体成型装置影响该离子化气体，以在基板被输送到靠近该喷洒头时均匀地将膜沉积在该基板上。