一种曲面光栅的加工装置及制备方法

    公开(公告)号:CN113759451B

    公开(公告)日:2023-11-03

    申请号:CN202110919278.9

    申请日:2021-08-11

    Abstract: 本发明涉及微纳加工技术领域,具体涉及曲面光栅加工装置及其制备方法。曲面光栅加工装置包括平移台、PDMS夹具、透镜、透镜控制装置、圆柱筒、圆柱筒控制装置;PDMS夹具固定于平移台上方,用于夹持PDMS光栅模板;平移台用于移动PDMS光栅模板;透镜位于PDMS夹具下方;透镜控制装置用于移动透镜,透镜与PDMS光栅模板接触使其变形;圆柱筒位于PDMS夹具上方,用于装置PUA溶液以制备PUA曲面光栅;圆柱筒控制装置用于移动圆柱筒。本发明曲面光栅加工装置易于组装,成本低。本发明的曲面光栅的制备方法简单易操作,PUA可多次重复利用,可大量制作曲面光栅结构。

    一种微透镜阵列光栅及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN113740942B

    公开(公告)日:2022-08-16

    申请号:CN202110919289.7

    申请日:2021-08-11

    Abstract: 本发明涉及光学技术领域,具体涉及一种微透镜阵列光栅及其制备方法和应用。所述微透镜阵列光栅的制备方法为采用具有气孔阵列的微流控芯片,利用水压将PDMS光栅变形为微透镜阵列光栅。本发明采用微流控技术制作微透镜阵列光栅上,解决了传统工艺制作微透镜阵列光栅时存在的集成度不高以及工艺不可控等问题。本制备的微透镜阵列光栅元件,组合了聚焦和色散两种功能,相比传统元件,降低了元件的尺寸和成本;微透镜阵列光栅可以在同一个基片上集成不同尺寸的微透镜,使其同时具有不同的分光功能,提高了元件的集成度。

    一种超亲-超疏水三维表面微图案模版的制备方法

    公开(公告)号:CN114425623B

    公开(公告)日:2023-06-13

    申请号:CN202111530790.0

    申请日:2021-12-14

    Inventor: 孙学通 邸思 金建

    Abstract: 本发明涉及金属材料表面处理技术领域,具体涉及一种超亲‑超疏水三维表面微图案模版的制备方法。制备方法为在多层结构钛或钛合金的三维表面制备TiO2纳米管;设计微流控芯片的微通道为多层结构,微通道包括进液通道和出液通道,进液通道和出液通道与多层结构钛或钛合金内的微孔通道相连通;微通道的多层结构层数等于或小于多层结构钛或钛合金的分层数量;以多层结构钛或钛合金为反应室,以其内部互相连通的微孔通道为低表面能溶液流通通道,利用微流控芯片技术,使低表面能溶液在多层结构钛或钛合金的限定区域内流动,在多层结构钛或钛合金的限定区域形成高度有序的单分子超疏水膜,形成基于显著浸润性差异的超亲‑超疏水三维表面微图案模版。

    一种曲面光栅的加工装置及制备方法

    公开(公告)号:CN113759451A

    公开(公告)日:2021-12-07

    申请号:CN202110919278.9

    申请日:2021-08-11

    Abstract: 本发明涉及微纳加工技术领域,具体涉及曲面光栅加工装置及其制备方法。曲面光栅加工装置包括平移台、PDMS夹具、透镜、透镜控制装置、圆柱筒、圆柱筒控制装置;PDMS夹具固定于平移台上方,用于夹持PDMS光栅模板;平移台用于移动PDMS光栅模板;透镜位于PDMS夹具下方;透镜控制装置用于移动透镜,透镜与PDMS光栅模板接触使其变形;圆柱筒位于PDMS夹具上方,用于装置PUA溶液以制备PUA曲面光栅;圆柱筒控制装置用于移动圆柱筒。本发明曲面光栅加工装置易于组装,成本低。本发明的曲面光栅的制备方法简单易操作,PUA可多次重复利用,可大量制作曲面光栅结构。

    一种微透镜阵列光栅及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN113740942A

    公开(公告)日:2021-12-03

    申请号:CN202110919289.7

    申请日:2021-08-11

    Abstract: 本发明涉及光学技术领域,具体涉及一种微透镜阵列光栅及其制备方法和应用。所述微透镜阵列光栅的制备方法为采用具有气孔阵列的微流控芯片,利用水压将PDMS光栅变形为微透镜阵列光栅。本发明采用微流控技术制作微透镜阵列光栅上,解决了传统工艺制作微透镜阵列光栅时存在的集成度不高以及工艺不可控等问题。本制备的微透镜阵列光栅元件,组合了聚焦和色散两种功能,相比传统元件,降低了元件的尺寸和成本;微透镜阵列光栅可以在同一个基片上集成不同尺寸的微透镜,使其同时具有不同的分光功能,提高了元件的集成度。

    一种超亲-超疏水三维表面微图案模版的制备方法

    公开(公告)号:CN114425623A

    公开(公告)日:2022-05-03

    申请号:CN202111530790.0

    申请日:2021-12-14

    Inventor: 孙学通 邸思 金建

    Abstract: 本发明涉及金属材料表面处理技术领域,具体涉及一种超亲‑超疏水三维表面微图案模版的制备方法。制备方法为在多层结构钛或钛合金的三维表面制备TiO2纳米管;设计微流控芯片的微通道为多层结构,微通道包括进液通道和出液通道,进液通道和出液通道与多层结构钛或钛合金内的微孔通道相连通;微通道的多层结构层数等于或小于多层结构钛或钛合金的分层数量;以多层结构钛或钛合金为反应室,以其内部互相连通的微孔通道为低表面能溶液流通通道,利用微流控芯片技术,使低表面能溶液在多层结构钛或钛合金的限定区域内流动,在多层结构钛或钛合金的限定区域形成高度有序的单分子超疏水膜,形成基于显著浸润性差异的超亲‑超疏水三维表面微图案模版。

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