一种针对不同衬底的石墨烯湿法转移装置及工艺方法

    公开(公告)号:CN118239481A

    公开(公告)日:2024-06-25

    申请号:CN202410492665.2

    申请日:2024-04-23

    Abstract: 本发明公开了一种针对不同衬底的石墨烯湿法转移装置及工艺方法,属于石墨烯生产技术领域,本装置中包括液池槽和滑动设置在液池槽上端的圆筒,液池槽通过门装置划分为多个液池区,液池区的底部均设置有潜水泵和止水阀,圆筒包括筒身、筒柄和可拆卸连接在筒身下端的底盖。通过该装置进行一系列的刻蚀、清洗、烘干操作,得到最终产物。本发明一种针对不同衬底的石墨烯湿法转移装置及工艺方法,使用机器完成对大面积石墨烯的转移,解决当前依赖人工操作且需要大量人力物力的问题,为工业应用中的大面积石墨烯转移提供了一种新的思路与方案,同时,机械化生产可批量化,通过不断调整每一步影响石墨烯转移的参数,进一步提升成品转移率。

    一种基于层叠结构的石墨烯无损伤转移方法

    公开(公告)号:CN118221109A

    公开(公告)日:2024-06-21

    申请号:CN202410492671.8

    申请日:2024-04-23

    Abstract: 本发明公开了一种基于层叠结构的石墨烯无损伤转移方法,属于石墨烯生产技术领域,提供了一种石墨烯层叠结构,包括由上到下依次设置的板状轻型材料、PMMA涂层、石墨烯薄膜和衬底,所述板状轻型材料为轻型光滑材料;基于该结构提出了一种石墨烯无损伤转移方法。本发明一种基于层叠结构的石墨烯无损伤转移方法,通过在转移过程中运用一种具有轻型光滑材料的层叠结构,降低石墨烯薄膜在转移过程中受到的机械应力和非均匀应力分布,减少外界对石墨烯薄膜的机械冲击或损伤,避免石墨烯薄膜在转移过程中发生褶皱,提高石墨烯的转移率和性能。

    一种加工纳米孔芯片阵列的制备装置

    公开(公告)号:CN220926271U

    公开(公告)日:2024-05-10

    申请号:CN202322026939.2

    申请日:2023-07-31

    Abstract: 本实用新型公开了一种加工纳米孔芯片阵列的制备装置,包括两个可相互对接的液池,芯片阵列可拆卸地安装在两个液池的对接处,在两个液池中设置有多条溶液通道,两个液池对接合拢时,向两个液池内部通入电解液和接入电极,在溶液通道内形成介电对芯片阵列进行纳米孔加工;本实用新型仅需一次装夹,即可同时对多个芯片进行加工,保证纳米孔的孔径一致性,以及提高加工效率。

    一种针对不同衬底的石墨烯转移装置

    公开(公告)号:CN222159757U

    公开(公告)日:2024-12-13

    申请号:CN202420854334.4

    申请日:2024-04-23

    Abstract: 本实用新型公开了一种针对不同衬底的石墨烯转移装置,属于石墨烯生产技术领域,包括槽体和滑动设置在所述槽体上的筒体,所述槽体内部通过隔板组件分隔成多个处理单元,所述隔板组件设置为上部板体和下部板体,所述下部板体设置为密封板体,所述上部板体设置为开合板门;所述筒体的底部高于所述下部板体的顶部。本实用新型采用上述结构的一种针对不同衬底的石墨烯转移装置,将石墨烯湿法转移的一系列步骤机械化,将使用机器完成石墨烯转移,能够批量式自动清洗铜基石墨烯薄膜从而获得硅基石墨烯薄膜,为工业应用中的大面积石墨烯转移提供了一种新的思路与方案,解决目前依赖人工操作且需要大量人力物力的问题。

    辅助检测装置
    5.
    实用新型

    公开(公告)号:CN222051696U

    公开(公告)日:2024-11-22

    申请号:CN202323389109.2

    申请日:2023-12-12

    Abstract: 本申请是关于一种辅助检测装置,属于质谱检测技术领域。该辅助检测装置包括:分度组件,其周向分布有至少两个内置有待测物的进样元件,所述进样元件具有接电接触面;供电组件,所述供电组件能够通过所述接电接触面连通所述进样元件;支架组件,用于固定所述分度组件;其中,所述分度组件能够绕自身的轴线转动。本申请提供的方案,能够通过转动分度组件使进样元件的接电接触面与供电组件相接,从而将待测物电离雾化,完成进样检测。

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