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公开(公告)号：CN103173768B
公开(公告)日：2015-08-12
申请号：CN201310100019.9
申请日：2013-03-26
Applicant: 广东工业大学
Abstract: 本发明公开一种对工件进行化学蚀刻加工中所用的蚀刻液，所述蚀刻液包括以下重量百分比的组分：三氯化铁20～50%、硝酸10～15%、氯化钠5～10%，余量为水。本发明所公开的蚀刻液，能够将所蚀刻金属成分中呈离子状态易结合生成难溶物质的镍、硅等离子转化生成可溶性盐，增强蚀刻液对金属的蚀刻能力，提高了反应速率，同时，可在工件表面掩膜覆盖部分自下而上发生侧蚀，侧蚀速率平稳，易于控制，被蚀刻加工的工件表面凹坑处易形成平滑过渡、截面形状近似正弦曲线的波谷，无明显棱边，具有较好的侧蚀效果。另外，本发明还公开了所述蚀刻液的制备方法，简便易于操作。
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公开(公告)号：CN103352224A
公开(公告)日：2013-10-16
申请号：CN201310275951.5
申请日：2013-07-01
Applicant: 广东工业大学
Abstract: 本发明公开一种用于金属制品的双面蚀刻方法，所述方法包括以下过程：在金属制品的上表面和下表面进行掩膜处理，所述上表面和下表面的掩膜层图案对应一致；先将掩膜后的金属制品上表面或下表面置于蚀刻机进行喷淋蚀刻，然后将金属制品翻转，将金属制品的下表面或上表面置于蚀刻机进行喷淋蚀刻，完成对金属制品的双面蚀刻；对双面蚀刻后的金属制品进行脱膜处理，除去掩膜层，并进行清洗、抛光后处理。本发明所述方法可在金属制品上加工出尺寸精度较好的微小通孔结果，侧蚀量小，加工效率高，适合大规模生产加工的需求。
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公开(公告)号：CN103266323A
公开(公告)日：2013-08-28
申请号：CN201310178586.6
申请日：2013-05-14
Applicant: 广东工业大学
IPC: C23F1/02
Abstract: 本发明公开一种用于曲面结构的金属制品表面蚀刻加工方法，所述方法在将金属制品放入蚀刻机进行蚀刻前，先进行掩膜和遮挡处理，掩膜处理时，金属制品平面部分的掩膜间隙均匀一致，而金属制品的曲面部分掩膜间隙从平面与曲面的结合处到曲面的边缘处逐渐增大。掩膜后的金属制品在蚀刻加工前要进行遮挡，即采用耐腐蚀遮挡物沿与金属制品平面平行的方向将金属制品的曲面部分遮挡，然后进行蚀刻加工。本发明所述方法能够用于具有曲面结构的金属制品的蚀刻加工，满足具有曲面结构的金属制品从曲面部分的边缘处到曲面与平面的结合处蚀刻所得微结构深度逐渐增加、直到平面部分蚀刻所得微结构深度均匀一致的需求。
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公开(公告)号：CN103255416A
公开(公告)日：2013-08-21
申请号：CN201310178584.7
申请日：2013-05-14
Applicant: 广东工业大学
Abstract: 本发明公开一种用于金属制品平面以及与所述平面连接的曲面进行蚀刻加工的方法，所述方法通过控制在金属制品平面和曲面上掩膜块和掩膜间隙的尺寸，以及在蚀刻过程中对蚀刻时间、蚀刻压力等相关工艺参数的控制，在金属制品表面形成凸凹起伏的连续微结构，凹坑的深度从平面的中心到曲面的边缘逐渐减小，凹坑截面呈正弦波的波谷状圆弧，凸起无明显棱边，凸起转接处平滑过渡，凸起的截面近似四棱柱状，整体结构过渡平缓，微结构呈现从有到无逐渐过渡性的衔接，具备较好的视觉和触觉效果，能够满足更好的防滑性能和美观要求。
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公开(公告)号：CN103352224B
公开(公告)日：2015-09-23
申请号：CN201310275951.5
申请日：2013-07-01
Applicant: 广东工业大学
Abstract: 本发明公开一种用于金属制品的双面蚀刻方法，所述方法包括以下过程：在金属制品的上表面和下表面进行掩膜处理，所述上表面和下表面的掩膜层图案对应一致；先将掩膜后的金属制品上表面或下表面置于蚀刻机进行喷淋蚀刻，然后将金属制品翻转，将金属制品的下表面或上表面置于蚀刻机进行喷淋蚀刻，完成对金属制品的双面蚀刻；对双面蚀刻后的金属制品进行脱膜处理，除去掩膜层，并进行清洗、抛光后处理。本发明所述方法可在金属制品上加工出尺寸精度较好的微小通孔结果，侧蚀量小，加工效率高，适合大规模生产加工的需求。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103173767B
公开(公告)日：2014-12-31
申请号：CN201310099980.0
申请日：2013-03-26
Applicant: 广东工业大学
IPC: C23F1/02
Abstract: 本发明公开一种蚀刻方法，所述方法先对掩膜处理后的工件进行初次蚀刻，基本形成断面呈梯形的凸凹图形，然后对初次蚀刻后的工件脱膜，并进行再次蚀刻，去掉棱边和棱角，最后进行将工件在蚀刻液中静液浸泡，进行进一步修形，最终在工件表面加工出具有平滑过度效果、断面呈凸凹状圆锥形的阵列微结构。本发明所公开的方法可用于所有可以用模具注塑加工出的产品中，例如电脑、手机、电子产品、汽车内饰、眼镜架等，可在产品表面加工出具有平滑过度效果、断面呈凸凹状圆锥形的阵列微结构，不仅增加美观，为人们的视觉带来丰富性和多样性，而且具有防滑效果。
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公开(公告)号：CN103266323B
公开(公告)日：2015-08-12
申请号：CN201310178586.6
申请日：2013-05-14
Applicant: 广东工业大学
IPC: C23F1/02
Abstract: 本发明公开一种用于曲面结构的金属制品表面蚀刻加工方法，所述方法在将金属制品放入蚀刻机进行蚀刻前，先进行掩膜和遮挡处理，掩膜处理时，金属制品平面部分的掩膜间隙均匀一致，而金属制品的曲面部分掩膜间隙从平面与曲面的结合处到曲面的边缘处逐渐增大。掩膜后的金属制品在蚀刻加工前要进行遮挡，即采用耐腐蚀遮挡物沿与金属制品平面平行的方向将金属制品的曲面部分遮挡，然后进行蚀刻加工。本发明所述方法能够用于具有曲面结构的金属制品的蚀刻加工，满足具有曲面结构的金属制品从曲面部分的边缘处到曲面与平面的结合处蚀刻所得微结构深度逐渐增加、直到平面部分蚀刻所得微结构深度均匀一致的需求。
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公开(公告)号：CN103255416B
公开(公告)日：2015-08-12
申请号：CN201310178584.7
申请日：2013-05-14
Applicant: 广东工业大学
Abstract: 本发明公开一种用于金属制品平面以及与所述平面连接的曲面进行蚀刻加工的方法，所述方法通过控制在金属制品平面和曲面上掩膜块和掩膜间隙的尺寸，以及在蚀刻过程中对蚀刻时间、蚀刻压力等相关工艺参数的控制，在金属制品表面形成凸凹起伏的连续微结构，凹坑的深度从平面的中心到曲面的边缘逐渐减小，凹坑截面呈正弦波的波谷状圆弧，凸起无明显棱边，凸起转接处平滑过渡，凸起的截面近似四棱柱状，整体结构过渡平缓，微结构呈现从有到无逐渐过渡性的衔接，具备较好的视觉和触觉效果，能够满足更好的防滑性能和美观要求。
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公开(公告)号：CN103173768A
公开(公告)日：2013-06-26
申请号：CN201310100019.9
申请日：2013-03-26
Applicant: 广东工业大学
Abstract: 本发明公开一种对工件进行化学蚀刻加工中所用的蚀刻液，所述蚀刻液包括以下重量百分比的组分：三氯化铁20～50%、硝酸10～15%、氯化钠5～10%，余量为水。本发明所公开的蚀刻液，能够将所蚀刻金属成分中呈离子状态易结合生成难溶物质的镍、硅等离子转化生成可溶性盐，增强蚀刻液对金属的蚀刻能力，提高了反应速率，同时，可在工件表面掩膜覆盖部分自下而上发生侧蚀，侧蚀速率平稳，易于控制，被蚀刻加工的工件表面凹坑处易形成平滑过渡、截面形状近似正弦曲线的波谷，无明显棱边，具有较好的侧蚀效果。另外，本发明还公开了所述蚀刻液的制备方法，简便易于操作。
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公开(公告)号：CN103173767A
公开(公告)日：2013-06-26
申请号：CN201310099980.0
申请日：2013-03-26
Applicant: 广东工业大学
IPC: C23F1/02
Abstract: 本发明公开一种蚀刻方法，所述方法先对掩膜处理后的工件进行初次蚀刻，基本形成断面呈梯形的凸凹图形，然后对初次蚀刻后的工件脱膜，并进行再次蚀刻，去掉棱边和棱角，最后进行将工件在蚀刻液中静液浸泡，进行进一步修形，最终在工件表面加工出具有平滑过度效果、断面呈凸凹状圆锥形的阵列微结构。本发明所公开的方法可用于所有可以用模具注塑加工出的产品中，例如电脑、手机、电子产品、汽车内饰、眼镜架等，可在产品表面加工出具有平滑过度效果、断面呈凸凹状圆锥形的阵列微结构，不仅增加美观，为人们的视觉带来丰富性和多样性，而且具有防滑效果。
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