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公开(公告)号：CN119887758A
公开(公告)日：2025-04-25
申请号：CN202510361410.7
申请日：2025-03-26
Applicant: 常熟理工学院
IPC: G06T7/00 , G06T7/136 , G06V10/82 , G06N3/0464 , G06N3/08 , G06V10/762
Abstract: 本发明公开了一种基于灰度共生矩阵的弱特征表面缺陷检测方法、终端及存储介质，属于图像处理技术领域，步骤包括S1.基于图像非均匀阈值分割生成灰度共生矩阵并提取纹理特征和S2构建融合纹理特征的YOLOv3深度学习检测模型。本发明针对弱特征图像表面缺陷检测问题将灰度共生矩阵与卷积神经网络技术相结合，使用自适应图像灰度化算法对源图像进行处理，然后使用非均匀阈值分割算法完成图像的多阈值分割，在此基础上生成图像灰度共生矩阵并计算相应的特征量，然后将灰度共生矩阵的特征量与YOLOv3神经网络算法相结合，并改进YOLOv3算法的损失函数，从而有效提高了对弱特征图像表面缺陷检测的准确性和可靠性，具有广阔的应用市场空间和经济价值。
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公开(公告)号：CN119870335A
公开(公告)日：2025-04-25
申请号：CN202510361406.0
申请日：2025-03-26
Applicant: 常熟理工学院
IPC: B21F35/00 , B21C51/00 , G06V10/147 , G06V10/44 , G06V10/98
Abstract: 本发明提供一种基于绕簧质量视觉检测的伺服控制系统及方法，涉及弹簧制造技术领域，所述基于绕簧质量视觉检测的伺服控制系统，包括：图像采集装置、工控机和控制器；图像采集装置置于绕丝芯轴的对应上方，用于采集绕芯缠绕图像，并将绕芯缠绕图像发送给工控机；工控机用于将绕芯缠绕图像转换为灰度图；根据灰度图和预设绕丝样品，得到灰度图和预设绕丝样品之间的偏差，根据灰度图和预设绕丝样品之间的偏差，得到绕丝的定位信息；将定位信息对应的绕丝参数与预设参数进行比较，得到比较结果。本发明提供的检测系统及方法，能及时发现并纠正绕簧质量问题，实现高精度的参数控制，确保产品质量一致性。
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公开(公告)号：CN118042805A
公开(公告)日：2024-05-14
申请号：CN202311820132.4
申请日：2023-12-27
Applicant: 常熟理工学院
IPC: H05K9/00
Abstract: 本发明公开了一种氮掺杂有序介孔碳/Fe复合电磁吸波材料的制备方法，包括以下步骤：聚氧乙烯聚氧丙烯醚溶解于乙醇和盐酸水溶液进行水浴搅拌后加入酚醛树脂乙醇溶液、双氰胺和六水合氯化铁搅拌混合，室温下静置除去乙醇后进行热聚合反应，将所述热聚合反应产物研磨成粉后在氮气保护下，先在320～360℃下保温2～3h，然后升温至800～1000℃并保温1～3h得到氮掺杂有序介孔碳/Fe复合电磁吸波材料。本发明具有在较薄的吸波涂层厚度下同时实现强吸收和宽有效吸收频带的效果。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117757431A
公开(公告)日：2024-03-26
申请号：CN202311485295.1
申请日：2023-11-09
Applicant: 苏州汉华光电科技有限公司 , 常熟理工学院
IPC: C09K3/14 , C09G1/02 , H01L21/306
Abstract: 本发明公开了一种用于硅片加工的研磨液，包括以下重量百分比组分：研磨料10～30%，增稠剂5～20%，分散剂5～15%，有机铵pH调节剂2～10%，金属螯合剂1～5%，其余为去离子水。本发明研磨液可解决研磨后金属离子污染问题以及减缓研磨料的沉降，减少研磨划痕，提高加工良率。
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公开(公告)号：CN220823659U
公开(公告)日：2024-04-19
申请号：CN202322537233.2
申请日：2023-09-19
Applicant: 常熟理工学院
Abstract: 本实用新型公开了一种叠层电池组件的封装玻璃，包括玻璃衬底，所述玻璃衬底上层叠有至少两对层叠薄膜对，所述层叠薄膜对由SiO2薄膜层和ITO薄膜层叠置组成，所述层叠薄膜对的厚度为110～145nm。本实用新型能够同时对紫外和近红外波段光线形成高反射，有利于保护叠层电池的顶部电池和底部电池，提高电池寿命。
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公开(公告)号：CN221017872U
公开(公告)日：2024-05-28
申请号：CN202322881266.9
申请日：2023-10-26
Applicant: 苏州汉华光电科技有限公司 , 常熟理工学院
Abstract: 本实用新型公开了一种可调式光学镜片清洗放置架，包括放置架本体，所述放置架本体设有至少一个槽位，所述槽位的两侧和底部分别设置有至少一条卡槽板，所述卡槽板的长度方向的侧边设有若干三角槽口，所述三角槽口的相对斜侧壁用于支撑镜片的侧边，所述卡槽板以长度方向水平横置并使所述卡槽板的板平面与水平面呈倾斜设置。本实用新型通过倾斜设置的带三角槽口的卡槽板支撑定位镜片，尽可能减少了放置架与镜片的接触面积及死角，利于清洁液排出，减少水痕提高清洗良率。
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公开(公告)号：CN221869662U
公开(公告)日：2024-10-22
申请号：CN202323584656.6
申请日：2023-12-27
Applicant: 苏州汉华光电科技有限公司 , 常熟理工学院
Abstract: 本实用新型公开了一种自清洁半导体加工用研磨盘支架，包括支架本体，所述支架本体包括放置层和过滤层，所述放置层包括敞口容器，所述敞口容器内设有若干分隔栏，所述分隔栏将所述敞口容器分隔为多个并列排布的放置腔，每个所述放置腔内设有用于喷淋清洗的喷淋头以及用于限制研磨盘位置的限位凸块，所述敞口容器的底面向第一侧倾斜设置并在所述第一侧设置汇流槽，所述汇流槽设有向下的出水口，所述过滤层设置在所述出水口的下方，所述过滤层包括过滤腔体，所述过滤腔体内设有过滤填料，所述过滤腔体上设有排水口，所述出水口排出的水经过所述过滤填料过滤后从所述排水口流出。本实用新型可对研磨盘进行清洁存储，并对清洗水进行粗过滤以重复利用，方便使用。
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公开(公告)号：CN220306238U
公开(公告)日：2024-01-05
申请号：CN202322905866.4
申请日：2023-10-30
Applicant: 苏州汉华光电科技有限公司 , 常熟理工学院
IPC: H01L21/683
Abstract: 本实用新型公开了一种硅片外形加工用固定治具，包括底板，所述底板上设有若干间隔设置的凸台，所述凸台设有从所述凸台的顶面纵向贯穿所述凸台和所述底板的吸附孔，所述凸台的顶面设有粘结胶槽，所述粘结胶槽与所述吸附孔相互分隔，所述粘结胶槽的侧边设有延伸至所述凸台的顶沿的溢流槽。本实用新型可保证小尺寸硅片的稳定固定，便于加工硅片表面及边缘，使用方便，提高效率。
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