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公开(公告)号:CN110592548B
公开(公告)日:2021-09-17
申请号:CN201911010620.2
申请日:2019-10-23
Applicant: 常州大学
Abstract: 本发明公开了一种绒面化CuO复合结构薄膜及其制备方法,选取表面具有绒面结构的Si片作为衬底放入磁控溅射镀膜设备,并将Si片衬底为绒面结构的一侧对准铜靶放置,同时施加直流衬底偏压,在真空腔室中进行溅射,在Si片表面沉积一层具有复合结构的CuO薄膜。本发明通过利用Si片表面的金字塔状绒面结构,由于受到了尖端集电效应的作用,从而使得材料原子在Si片金字塔状绒面上不同位置具有不同的沉积速率,得到各个位置膜厚、均匀度各不相同的复合结构的CuO薄膜,从而增加CuO薄膜性能的多样性,便于其应用在有多方面要求的环境中。
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公开(公告)号:CN110844879B
公开(公告)日:2020-09-22
申请号:CN201911111539.3
申请日:2019-11-14
Applicant: 常州大学
Abstract: 本发明公开了一种非晶纳米线与多孔薄膜的原位可操控键合方法,将纳米线分散到具有多孔薄膜结构的透射电镜(TEM)样品上,之后放入TEM中,选取自由端突出到多孔薄膜孔洞中的纳米线片段,在TEM的观察下按“纳米线削尖—纳米线弯钩—纳米线键合”工艺进行键合处理。本发明利用透射电镜中高能电子束有针对性辐照,实现了非晶纳米线的削尖、弯钩,并最终与多孔薄膜高质量键合在一起,具有原位、灵活可操控、高精度、低温键合等优点。
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公开(公告)号:CN110844879A
公开(公告)日:2020-02-28
申请号:CN201911111539.3
申请日:2019-11-14
Applicant: 常州大学
Abstract: 本发明公开了一种非晶纳米线与多孔薄膜的原位可操控键合方法,将纳米线分散到具有多孔薄膜结构的透射电镜(TEM)样品上,之后放入TEM中,选取自由端突出到多孔薄膜孔洞中的纳米线片段,在TEM的观察下按“纳米线削尖—纳米线弯钩—纳米线键合”工艺进行键合处理。本发明利用透射电镜中高能电子束有针对性辐照,实现了非晶纳米线的削尖、弯钩,并最终与多孔薄膜高质量键合在一起,具有原位、灵活可操控、高精度、低温键合等优点。
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公开(公告)号:CN110592548A
公开(公告)日:2019-12-20
申请号:CN201911010620.2
申请日:2019-10-23
Applicant: 常州大学
Abstract: 本发明公开了一种绒面化CuO复合结构薄膜及其制备方法,选取表面具有绒面结构的Si片作为衬底放入磁控溅射镀膜设备,并将Si片衬底为绒面结构的一侧对准铜靶放置,同时施加直流衬底偏压,在真空腔室中进行溅射,在Si片表面沉积一层具有复合结构的CuO薄膜。本发明通过利用Si片表面的金字塔状绒面结构,由于受到了尖端集电效应的作用,从而使得材料原子在Si片金字塔状绒面上不同位置具有不同的沉积速率,得到各个位置膜厚、均匀度各不相同的复合结构的CuO薄膜,从而增加CuO薄膜性能的多样性,便于其应用在有多方面要求的环境中。
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