公开(公告)号：CN117778972A

公开(公告)日：2024-03-29

申请号：CN202311505039.4

申请日：2023-11-13

Applicant: 常州大学

Inventor： 苏江滨 ,  陈龙龙 ,  朱秀梅 ,  杨磊 ,  刘钰 ,  何祖明 ,  唐斌

IPC: C23C14/35 ,  C23C14/08

Abstract: 本发明公开了一种具有快速电致变色响应效果的非晶WO3薄膜及其制备方法和应用，通过Ni、Ag共掺杂非晶WO3薄膜，在没有降低WO3薄膜的光学调制的前提下大幅度缩短了WO3薄膜的电致变色响应时间，制得的电致变色薄膜具有广阔的应用前景，采用磁控溅射法制备Ni、Ag共掺杂的非晶WO3薄膜，该方法具有均匀镀膜、良好的膜基附着性、易于大面积制备和高重复性等优势，溅射过程中将Ni和Ag丝以井字状固定在W靶上，在溅射WO3薄膜的同时就实现了Ni、Ag共掺杂，方法简单，操作性强。

公开(公告)号：CN114574805A

公开(公告)日：2022-06-03

申请号：CN202210094992.3

申请日：2022-01-26

Applicant: 常州大学

Inventor： 苏江滨 ,  祁昊 ,  朱秀梅 ,  何祖明 ,  蒋美萍

IPC: C23C14/08 ,  C23C14/35 ,  C23C14/58 ,  G02F1/1524

Abstract: 本发明公开了一种提高非晶WO3薄膜电致变色效率的方法。用射频磁控溅射法在ITO玻璃衬底上制备了非晶WO3薄膜，然后在含量为99.7％的无水乙醇中充分浸泡后取出烘干，其在676.2nm波长处的光学调制最高可以提高35％～44％，电致变色效率大幅度提高。本发明利用射频磁控溅射法进行非晶WO3薄膜的沉积，它具有膜层均匀、膜基附着性好、易于大面积制备、重复性高和无需反应气体氧气等特点，而且乙醇浸泡处理方法简单、高效，制备成本低廉。

公开(公告)号：CN114574805B

公开(公告)日：2023-08-22

申请号：CN202210094992.3

申请日：2022-01-26

Applicant: 常州大学

Inventor： 苏江滨 ,  祁昊 ,  朱秀梅 ,  何祖明 ,  蒋美萍

IPC: C23C14/08 ,  C23C14/35 ,  C23C14/58 ,  G02F1/1524

Abstract: 本发明公开了一种提高非晶WO3薄膜电致变色效率的方法。用射频磁控溅射法在ITO玻璃衬底上制备了非晶WO3薄膜，然后在含量为99.7％的无水乙醇中充分浸泡后取出烘干，其在676.2nm波长处的光学调制最高可以提高35％～44％，电致变色效率大幅度提高。本发明利用射频磁控溅射法进行非晶WO3薄膜的沉积，它具有膜层均匀、膜基附着性好、易于大面积制备、重复性高和无需反应气体氧气等特点，而且乙醇浸泡处理方法简单、高效，制备成本低廉。