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发明公开
用于形成具有减小的图形尺寸的膜图形的方法无效

公开(公告)号：CN101241847A

公开(公告)日：2008-08-13

申请号：CN200710199338.4

申请日：2007-12-17

Applicant: 尔必达存储器株式会社

Inventor： 斋藤洋介 , 田中勋

IPC: H01L21/027 , H01L21/31 , G03F7/00

CPC classification number: G03F7/40

Abstract: 本申请涉及用于形成具有减小的图形尺寸的膜图形的方法。一种用于形成抗蚀剂图形的方法，包括：通过利用光刻在目标膜上形成抗蚀剂掩模，通过涂布以在该抗蚀剂掩模上形成混合－产生抗蚀剂膜，烘焙该混合－产生抗蚀剂膜以在抗蚀剂掩模和混合－产生抗蚀剂膜之间的界面处形成混合层，显影该混合－产生抗蚀剂膜，并且清洗得到的混合－产生抗蚀剂膜，以暴露收缩抗蚀剂掩模图形尺寸的混合层。

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