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公开(公告)号:CN101536188A
公开(公告)日:2009-09-16
申请号:CN200680056260.4
申请日:2006-11-30
Applicant: 富士通株式会社
IPC: H01L27/10
CPC classification number: H01L27/101 , H01L27/2436 , H01L45/04 , H01L45/1233 , H01L45/146 , H01L45/1633
Abstract: 一种电阻存储元件,其记忆高电阻状态和低电阻状态,通过施加电压来切换高电阻状态和低电阻状态,该电阻存储元件具有:电极层(14),其由氮化钛膜构成;电阻存储层(16),其形成在电极层(14)上,而且由具有金红石相的结晶结构的氧化钛膜构成;电极层(18),其形成在电阻存储层(16)上。由此,能够实现切换速度快且切换电流小的电阻存储元件。另外,通过利用这样的电阻存储元件,能够构成写入速度快且消耗功率少的非易失性半导体存储装置。
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公开(公告)号:CN101536188B
公开(公告)日:2010-09-29
申请号:CN200680056260.4
申请日:2006-11-30
Applicant: 富士通株式会社
IPC: H01L27/10
CPC classification number: H01L27/101 , H01L27/2436 , H01L45/04 , H01L45/1233 , H01L45/146 , H01L45/1633
Abstract: 一种电阻存储元件,其记忆高电阻状态和低电阻状态,通过施加电压来切换高电阻状态和低电阻状态,该电阻存储元件具有:电极层(14),其由氮化钛膜构成;电阻存储层(16),其形成在电极层(14)上,而且由具有金红石相的结晶结构的氧化钛膜构成;电极层(18),其形成在电阻存储层(16)上。由此,能够实现切换速度快且切换电流小的电阻存储元件。另外,通过利用这样的电阻存储元件,能够构成写入速度快且消耗功率少的非易失性半导体存储装置。
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