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公开(公告)号：CN101244486A
公开(公告)日：2008-08-20
申请号：CN200710301173.7
申请日：2007-12-26
Applicant: 富士通株式会社
CPC classification number: G01C19/5607 , B23K26/351 , Y10T428/24802
Abstract: 本发明公开了一种装置制造方法、激光处理方法以及激光处理设备。该装置制造方法包括以下步骤：在将激光束照射在装置上的同时以恒定速度移动所述装置；以及利用所述激光束来处理所述装置的一部分。
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