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公开(公告)号:CN103620319B
公开(公告)日:2016-01-13
申请号:CN201180071927.9
申请日:2011-06-28
Applicant: 富士通株式会社
IPC: F25B17/08
CPC classification number: F25B41/04 , F25B17/083 , Y02A30/278 , Y02B30/64
Abstract: 本发明提供一种吸附式热泵,具有:吸附器,具有吸附剂而且能够在使冷媒吸附至吸附剂的吸附工序和从吸附剂解吸冷媒的解吸工序之间进行切换;冷凝器,使从吸附器解吸的冷媒冷凝;蒸发器,使从冷凝器供给的冷媒蒸发,并将经蒸发的冷媒供给至吸附器;第一流通孔,供冷媒从吸附器向冷凝器流动;第二流通孔,供冷媒从蒸发器向吸附器流动;以及提动阀芯,所述提动阀芯配置在第一流通孔和第二流通孔中的至少一者上,具有阀座件和与阀座件的端部接合且由根据温度变化而发生变形的温度依赖性材料形成的开闭辅助板,所述提动阀芯对第一流通孔和第二流通孔中的至少一者进行开闭。
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公开(公告)号:CN105228740A
公开(公告)日:2016-01-06
申请号:CN201380076751.5
申请日:2013-05-22
Applicant: 富士通株式会社
CPC classification number: B01J20/22 , B01J20/20 , B01J20/28066 , B01J20/3078 , B01J20/3204 , B01J20/3251 , B01J20/3287 , C01B32/30 , F25B17/083 , F25B30/04 , Y02P20/129
Abstract: 一种吸附式热泵用吸附剂,具有活性炭和有机分子,该有机分子在上述活性炭的细孔内且具有至少1个亲水性官能团。
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公开(公告)号:CN103649652A
公开(公告)日:2014-03-19
申请号:CN201180072105.2
申请日:2011-07-04
Applicant: 富士通株式会社
IPC: F25B17/08
CPC classification number: H05K7/20936 , F25B17/083 , F25B49/04 , F25B49/046 , H05K7/20363 , H05K7/20836 , Y02A30/278 , Y02B30/64
Abstract: 提供一种吸附式热泵的控制方法、信息处理系统及控制装置,即使用于供给再生吸附剂时使用的热量的热源的温度变化很大,也能够使吸附式热泵高效运行。设置有:流量调整部43a~43c,能够分别独立地调整向电子设备41a~41c供给的热介质的流量;温度传感器45a~45c,能够分别独立地检测从电子设备41a~41c排放出的热介质的温度;控制部30。控制部30基于温度传感器45a~45c的输出,以使从电子设备41a~41c排放出的热介质的温度变得相同的方式控制流量调整部43a~43c。
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公开(公告)号:CN103052853B
公开(公告)日:2016-03-30
申请号:CN201080068404.4
申请日:2010-08-05
Applicant: 富士通株式会社
CPC classification number: F25B30/04 , F25B17/08 , F25B35/04 , F28D1/05366 , F28D21/0015 , F28F2255/04 , Y02A30/278 , Y02B30/64
Abstract: 本发明的目的在于提供一种与以往相比进一步提高热效率的吸附式热泵。吸附式热泵具有使制冷剂蒸发的蒸发器、用于冷凝制冷剂的蒸气的冷凝器、以及两个配置有吸附剂的吸附剂换热器。吸附剂换热器具有由入口侧歧管(31)、出口侧歧管(32)、以及多根将入口侧歧管(31)和出口侧歧管(32)之间连接起来的支管(33)形成的导热管道。在支管(33)间配置有使多张吸附剂片(24a)重叠而成的吸附部件(24)、按压板(36)、以及双金属片(37)。在再生(干燥)吸附部件(24)时温度高的载热体在支管(33)内流动,因此双金属片(37)变形而经由按压板(36)按压吸附部件(24)。由此,吸附部件(24)被压缩,从而吸附剂片(24a)彼此密集地接触,加快吸附剂片(24a)间的导热速度。
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公开(公告)号:CN103620319A
公开(公告)日:2014-03-05
申请号:CN201180071927.9
申请日:2011-06-28
Applicant: 富士通株式会社
IPC: F25B17/08
CPC classification number: F25B41/04 , F25B17/083 , Y02A30/278 , Y02B30/64
Abstract: 本发明提供一种吸附式热泵,具有:吸附器,具有吸附剂而且能够在使冷媒吸附至吸附剂的吸附工序和从吸附剂解吸冷媒的解吸工序之间进行切换;冷凝器,使从吸附器解吸的冷媒冷凝;蒸发器,使从冷凝器供给的冷媒蒸发,并将经蒸发的冷媒供给至吸附器;第一流通孔,供冷媒从吸附器向冷凝器流动;第二流通孔,供冷媒从蒸发器向吸附器流动;以及提动阀芯,所述提动阀芯配置在第一流通孔和第二流通孔中的至少一者上,具有阀座件和与阀座件的端部接合且由根据温度变化而发生变形的温度依赖性材料形成的开闭辅助板,所述提动阀芯对第一流通孔和第二流通孔中的至少一者进行开闭。
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公开(公告)号:CN1823137A
公开(公告)日:2006-08-23
申请号:CN200480019924.0
申请日:2004-07-09
Applicant: 富士通株式会社
IPC: C08L101/00 , C08K3/22 , B01J35/02 , B01J27/18
CPC classification number: C08K3/32 , B01J27/16 , B01J35/004 , C08K9/02
Abstract: 使用氧化钛解决抗菌的方法是制造树脂中混合有氧化钛的涂层用树脂,将该涂层树脂被覆在键的表面。上述方法因为要在树脂成型品上形成涂层,所以制造工序数增多,成本增加。此外使用上述方法,含有抗菌剂的涂膜每次敲键一点一点地削去膜,不久便失去膜,没有抗菌作用。作为解决方法,想出了在树脂中直接混合抗菌剂的方法。但作为抗菌剂的氧化钛使作为基料的树脂劣化。近年,认为代替氧化钛的光催化剂磷灰石也引起粉化,于是在树脂成型品的表面形成抗菌用涂层。然而本发明人发现光催化剂磷灰石不引起粉化,使含有这种光催化剂磷灰石的树脂得以实现。
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公开(公告)号:CN1236879C
公开(公告)日:2006-01-18
申请号:CN02149889.X
申请日:2002-08-05
Applicant: 富士通株式会社
CPC classification number: B22D19/00 , B22D17/00 , B22D17/2007 , B22D19/04 , B22D19/16
Abstract: 利用熔融金属的凝固点降低的金属物体成型方法包括预备步骤和金属注入步骤。在预备步骤中,将流动性改善材料放入压模中。然后在金属注入步骤中将熔融金属倒入模具中制备铸件。由于熔融金属的高温,流动性改善材料熔化进入熔融金属中,使得熔融金属的凝固点降低。
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公开(公告)号:CN101475752A
公开(公告)日:2009-07-08
申请号:CN200910002008.0
申请日:2004-07-09
Applicant: 富士通株式会社
IPC: C08L101/00 , C08K9/02 , C08K3/32
CPC classification number: C08K3/32 , B01J27/16 , B01J35/004 , C08K9/02
Abstract: 使用氧化钛解决抗菌的方法是制造树脂中混合有氧化钛的涂层用树脂,将该涂层树脂被覆在键的表面。上述方法因为要在树脂成型品上形成涂层,所以制造工序数增多,成本增加。此外使用上述方法,含有抗菌剂的涂膜每次敲键一点一点地削去膜,不久便失去膜,没有抗菌作用。作为解决方法,想出了在树脂中直接混合抗菌剂的方法。但作为抗菌剂的氧化钛使作为基料的树脂劣化。近年,认为代替氧化钛的光催化剂磷灰石也引起粉化,于是在树脂成型品的表面形成抗菌用涂层。然而本发明人发现光催化剂磷灰石不引起粉化,使含有这种光催化剂磷灰石的树脂得以实现。
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公开(公告)号:CN1306999C
公开(公告)日:2007-03-28
申请号:CN02829619.2
申请日:2002-12-27
Applicant: 富士通株式会社
CPC classification number: B01J35/004 , B01J21/16 , B01J27/18 , B01J37/347
Abstract: 光催化剂磷灰石膜的形成方法,其包括用于制作含有光催化剂磷灰石的溅射用靶的靶制作工序(S12)、采用使用了该靶的溅射法用于在基材上使光催化剂磷灰石成膜的溅射工序(S13)。在溅射工序(S13)前,为了使光催化剂磷灰石的结晶性提高而进行用于将该光催化剂磷灰石烧成的烧成工序(S11)。
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公开(公告)号:CN1668377A
公开(公告)日:2005-09-14
申请号:CN02829619.2
申请日:2002-12-27
Applicant: 富士通株式会社
CPC classification number: B01J35/004 , B01J21/16 , B01J27/18 , B01J37/347
Abstract: 光催化剂磷灰石膜的形成方法,其包括用于制作含有光催化剂磷灰石的溅射用靶的靶制作工序(S12)、采用使用了该靶的溅射法用于在基材上使光催化剂磷灰石成膜的溅射工序(S13)。在溅射工序(S13)前,为了使光催化剂磷灰石的结晶性提高而进行用于将该光催化剂磷灰石烧成的烧成工序(S11)。
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