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公开(公告)号：CN101620376B
公开(公告)日：2013-09-18
申请号：CN200910151353.0
申请日：2009-07-02
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/00 , G02F1/1339 , G02F1/1362
Abstract: 本发明提供具有良好的压印性和光固化性、且机械特性及各种耐久性其中光固化性、耐热性及弹性恢复率优异的压印用固化性组合物、使用其的固化物及其制造方法、以及液晶显示装置用部件。其中，压印用固化性组合物为含有光聚合性单体、光聚合引发剂、抗氧化剂的光压印用组合物，其特征在于，所述光聚合性单体的含量为80～99质量％，所述抗氧化剂的含量为0.3～7质量％，所述抗氧化剂为单独的受阻酚系抗氧化剂、单独的半受阻酚系抗氧化剂、受阻酚系抗氧化剂和半受阻酚系抗氧化的混合物、或单独的受阻胺系抗氧化剂中的任一种。
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公开(公告)号：CN101263423A
公开(公告)日：2008-09-10
申请号：CN200680033451.9
申请日：2006-09-01
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供相对于400～410nm波长的曝光光的感光度分布大致一定且不会被激光曝光时的曝光波长的偏差所影响、图案再现性出色、图案形状的偏差被极度抑制并可以在明室环境下进行处理的感光性组合物等。为此，该感光性组合物等的特征在于，至少含有粘合剂、聚合性化合物、光聚合引发剂、以及增感剂，该增感剂含有至少两种最大吸收波长为340～500nm的增感剂。
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公开(公告)号：CN101620376A
公开(公告)日：2010-01-06
申请号：CN200910151353.0
申请日：2009-07-02
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/00 , G02F1/1339 , G02F1/1362
Abstract: 本发明提供具有良好的压印性和光固化性、且机械特性及各种耐久性其中光固化性、耐热性及弹性恢复率优异的压印用固化性组合物、使用其的固化物及其制造方法、以及液晶显示装置用部件。其中，压印用固化性组合物为含有光聚合性单体、光聚合引发剂、抗氧化剂的光压印用组合物，其特征在于，所述光聚合性单体的含量为80～99质量％，所述抗氧化剂的含量为0.3～7质量％，所述抗氧化剂为单独的受阻酚系抗氧化剂、单独的半受阻酚系抗氧化剂、受阻酚系抗氧化剂和半受阻酚系抗氧化的混合物、或单独的受阻胺系抗氧化剂中的任一种。
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公开(公告)号：CN101959841A
公开(公告)日：2011-01-26
申请号：CN200980108060.2
申请日：2009-03-04
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: C08F2/48 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C07C69/90 , C07C69/94 , C07C2601/16 , C08F222/1006 , G03F7/0002 , G03F7/027
Abstract: 本发明公开了一种具有优异光固化性的(甲基)丙烯酸酯化合物。还公开了使用所述(甲基)丙烯酸酯化合物的可固化组合物，其固化膜具有优异的图案精确度，剥离性，表面硬度，弹性恢复率和耐溶剂性。还公开了用于光学纳米压印的组合物、所述可固化组合物的固化产品和制备所述固化产品的方法。所述组合物特别适宜于平板显示器等的永久膜。特别公开了一种由通式(I)表示的(甲基)丙烯酸酯化合物。在式中，R1表示氢原子或甲基，R2表示具有2至6个碳原子并且具有碳-碳双键的取代基，X表示具有1至10个碳原子的有机基，m和n各自是1至3的整数。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101137937A
公开(公告)日：2008-03-05
申请号：CN200680007540.6
申请日：2006-01-11
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供即使是高感度的感光层也能够同时具有优异的显像性和粘性、而且通过抑制感光层上成像的像的变形可以高精细地且高效地形成适于制造含有封装基板的印刷配线基板等的图形、半导体领域中的高精细的永久图形的图形形成材料以及图形形成方法和图形。因此，提供一种图形形成材料，所述图形形成材料至少具有使用感光性组合物得到的感光层，所述感光性组合物至少含有：环氧丙烯酸酯化合物的至少1种和侧链具有丙烯酰基和酸性基团的乙烯基共聚物的至少1种的粘合剂、聚合性化合物、光聚合引发剂和热交联剂，在对该感光层进行曝光、显像时，在该曝光和显像后不使所述感光层曝光的部分的厚度发生变化的所述曝光中所使用的光的最小能量为0.1～80mJ/cm2。
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公开(公告)号：CN101105625A
公开(公告)日：2008-01-16
申请号：CN200710128423.1
申请日：2007-07-10
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种光固化性、密合性、脱模性、残膜性、图案形状、涂敷性(I)、涂敷性(II)、蚀刻适性都优良的组合物。根据本发明的光固化性组合物，包含(a)聚合性化合物、(b)0.1～15质量％的光聚合引发剂及/或光酸产生剂、(c)至少一种0.001～5质量％的含氟表面活性剂、硅氧烷类表面活性剂及含氟·硅氧烷类表面活性剂，并且(d)该组合物在25℃下黏度为3～18mPa·s，其中，前述(a)聚合性化合物含有(e)皮肤原发刺激指数(PII值)为4.0以下的聚合性不饱和单体、及(f)在25℃下黏度为30mPa·s以下的聚合性不饱和单体，这些聚合性不饱和单体的含量为50质量％以上(其中，前述(e)的聚合性不饱和单体和前述(f)的聚合性不饱和单体，可以是部分相同或全部相同的聚合性不饱和单体)。
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公开(公告)号：CN101154042B
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN200710152545.4
申请日：2007-09-27
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种光固化性、密合性、脱模性、残膜性、图案形状、涂敷性(I)、涂敷性(II)及蚀刻适性综合起来都优良的组合物。本发明采用一种纳米压印光刻用固化性组合物，其特征是，含有88～99质量％的聚合性不饱和单体、0.1～11质量％的光聚合引发剂和至少一种0.001～5质量％的含氟表面活性剂、硅氧烷类表面活性剂及含氟·硅氧烷类表面活性剂，在所述聚合性不饱和单体中含有大于等于10质量％的一种1官能团聚合性不饱和单体，其中所述1官能团聚合性不饱和单体的分子内具有含有烯属不饱和键的部位和含有至少一种杂原子的部位。
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公开(公告)号：CN101105625B
公开(公告)日：2011-11-09
申请号：CN200710128423.1
申请日：2007-07-10
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种光固化性、密合性、脱模性、残膜性、图案形状、涂敷性(I)、涂敷性(II)、蚀刻适性都优良的组合物。根据本发明的光固化性组合物，包含(a)聚合性化合物、(b)0.1～15质量％的光聚合引发剂及/或光酸产生剂、(c)至少一种0.001～5质量％的含氟表面活性剂、硅氧烷类表面活性剂及含氟·硅氧烷类表面活性剂，并且(d)该组合物在25℃下黏度为3～18mPa·s，其中，前述(a)聚合性化合物含有(e)皮肤原发刺激指数(PII值)为4.0以下的聚合性不饱和单体、及(f)在25℃下黏度为30mPa·s以下的聚合性不饱和单体，这些聚合性不饱和单体的含量为50质量％以上(其中，前述(e)的聚合性不饱和单体和前述(f)的聚合性不饱和单体，可以是部分相同或全部相同的聚合性不饱和单体)。
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公开(公告)号：CN101959932A
公开(公告)日：2011-01-26
申请号：CN200980107402.9
申请日：2009-03-05
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: C08G65/18 , G02F1/1333 , G02F1/1339
CPC classification number: C08G65/18 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C09D133/14 , G03F7/0002
Abstract: 本发明提供一种纳米压印用固化性组合物，其特征在于，含有：具有氧杂环丁烷环的化合物、官能性酸酐、光自由基聚合性单体和光自由基聚合引发剂，组合物中的具有自由基聚合性官能基团的化合物的总含量为50～99.5质量％。该组合物在加热固化后的图案精度、表面硬度、透光性及耐热性方面优异。
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