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公开(公告)号：CN110494806B
公开(公告)日：2024-03-15
申请号：CN201880024097.6
申请日：2018-05-11
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种作为掩模而能够适用于蚀刻时，能够形成耐龟裂性及耐蚀刻性优异的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。感光化射线性或感放射线性树脂组合物为含有树脂且固体成分浓度为10质量％以上的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，上述树脂包含：以制成均聚物时的玻璃化转变温度为50℃以下的单体为来源的重复单元A；及具有酸分解性基的重复单元B，上述重复单元B的含量相对于树脂中的所有重复单元为20摩尔％以下，且上述树脂所具有的重复单元中的任一至少1种为具有芳香族环的重复单元。
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公开(公告)号：CN111095105A
公开(公告)日：2020-05-01
申请号：CN201880059342.7
申请日：2018-09-07
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明供一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物、使用了感光化射线性或感放射线性的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法，该感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有树脂(A)且用于形成膜厚为2μm以上的膜，上述树脂(A)包含具有酸性基团的重复单元及具有酸分解性基团的重复单元，上述具有酸性基团的重复单元的含量相对于上述树脂(A)中的所有重复单元为15摩尔％以上，上述具有酸分解性基团的重复单元的含量相对于上述树脂(A)中的所有重复单元大于20摩尔％，上述树脂(A)的玻璃化转变温度为145℃以下。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111095106B
公开(公告)日：2023-07-28
申请号：CN201880056528.7
申请日：2018-08-15
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 通过本发明，可以提供一种图案形成方法及使用该图案形成方法的离子注入方法以及用于上述图案形成方法的层叠体、试剂盒、抗蚀剂下层膜形成用组合物、抗蚀剂组合物及电子器件的制造方法，该图案形成方法包括：(1)在被处理基板上形成抗蚀剂下层膜的工序；(2)利用含有(A)具有选自包括Si原子及Ti原子的组中的原子的树脂的抗蚀剂组合物，在抗蚀剂下层膜上形成抗蚀剂膜的工序；(3)曝光抗蚀剂膜的工序；(4)对经曝光的抗蚀剂膜进行显影而形成抗蚀剂图案的工序；及(5)将抗蚀剂图案作为掩模，对抗蚀剂下层膜进行加工来形成图案的工序，该图案形成方法中，抗蚀剂下层膜的膜厚为2.5μm以上，抗蚀剂膜的膜厚为1μm以下。
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公开(公告)号：CN111095106A
公开(公告)日：2020-05-01
申请号：CN201880056528.7
申请日：2018-08-15
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 通过本发明，可以提供一种图案形成方法及使用该图案形成方法的离子注入方法以及用于上述图案形成方法的层叠体、试剂盒、抗蚀剂下层膜形成用组合物、抗蚀剂组合物及电子器件的制造方法，该图案形成方法包括：(1)在被处理基板上形成抗蚀剂下层膜的工序；(2)利用含有(A)具有选自包括Si原子及Ti原子的组中的原子的树脂的抗蚀剂组合物，在抗蚀剂下层膜上形成抗蚀剂膜的工序；(3)曝光抗蚀剂膜的工序；(4)对经曝光的抗蚀剂膜进行显影而形成抗蚀剂图案的工序；及(5)将抗蚀剂图案作为掩模，对抗蚀剂下层膜进行加工来形成图案的工序，该图案形成方法中，抗蚀剂下层膜的膜厚为2.5μm以上，抗蚀剂膜的膜厚为1μm以下。
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公开(公告)号：CN117492325A
公开(公告)日：2024-02-02
申请号：CN202310954164.7
申请日：2023-07-31
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种曝光宽容度性能优异的感光化射线性或感放射线性树脂组成物。感光化射线性或感放射线性树脂组成物包含(A)通过酸的作用而碱可溶性增大的树脂、(C)通过光化射线或放射线的照射而产生酸的化合物、及(S)含有沸点为130～150℃的溶剂SA和沸点为155～250℃的溶剂SB的溶剂，上述溶剂SA的含量高于溶剂SB的含量，且溶剂SB相对于总溶剂的含量为1～30质量％，固体成分浓度为10质量％以上。
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公开(公告)号：CN111095105B
公开(公告)日：2023-08-01
申请号：CN201880059342.7
申请日：2018-09-07
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明供一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物、使用了感光化射线性或感放射线性的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法，该感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有树脂(A)且用于形成膜厚为2μm以上的膜，上述树脂(A)包含具有酸性基团的重复单元及具有酸分解性基团的重复单元，上述具有酸性基团的重复单元的含量相对于上述树脂(A)中的所有重复单元为15摩尔％以上，上述具有酸分解性基团的重复单元的含量相对于上述树脂(A)中的所有重复单元大于20摩尔％，上述树脂(A)的玻璃化转变温度为145℃以下。
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公开(公告)号：CN110494806A
公开(公告)日：2019-11-22
申请号：CN201880024097.6
申请日：2018-05-11
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种作为掩模而能够适用于蚀刻时，能够形成耐龟裂性及耐蚀刻性优异的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。感光化射线性或感放射线性树脂组合物为含有树脂且固体成分浓度为10质量％以上的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，上述树脂包含：以制成均聚物时的玻璃化转变温度为50℃以下的单体为来源的重复单元A；及具有酸分解性基的重复单元B，上述重复单元B的含量相对于树脂中的所有重复单元为20摩尔％以下，且上述树脂所具有的重复单元中的任一至少1种为具有芳香族环的重复单元。
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