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公开(公告)号：CN1721985A
公开(公告)日：2006-01-18
申请号：CN200510088572.0
申请日：2000-10-08
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 去除卷曲装置10包括：在超过支持体的玻璃转变温度的一定温度下对图像记录载体卷材12施行一定时间的加热处理的加热手段40、及保持在规定的形状的状态下将加热处理后的上述图像记录载体卷材12冷却到上述玻璃转变温度以下的冷却手段42。加热手段40包括利用感应加热的加热辊60、及能够配置在相对于该加热辊60的外周的任意角度位置上的保持辊70a、70b。由此，能够不受传送速度等影响、并以简单的构成可靠地去除图像记录载体卷材12的卷曲。
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公开(公告)号：CN102191477A
公开(公告)日：2011-09-21
申请号：CN201110054226.6
申请日：2011-03-04
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: C23C16/34 , C23C16/455
CPC classification number: C23C16/545 , C23C16/345 , C23C16/45502 , C23C16/45565 , Y10T428/2495
Abstract: 本发明提供阻气膜，膜沉积方法和膜沉积设备。所述阻气膜包含：基底膜；和沉积在所述基底膜的表面上的氮化硅层，其中在所述氮化硅层的厚度方向上，所述氮化硅层的更靠近基底膜侧的并且具有所述氮化硅层的20％厚度的区域的第一平均密度高于与所述基底膜相反侧的并且具有所述氮化硅层的20％厚度的区域的第二平均密度，并且具有所述氮化硅层的20％厚度的中间区域的第三平均密度介于所述第一平均密度和所述第二平均密度之间。
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公开(公告)号：CN100440037C
公开(公告)日：2008-12-03
申请号：CN200510088572.0
申请日：2000-10-08
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 去除卷曲装置10包括：在超过支持体的玻璃转变温度的一定温度下对图像记录载体卷材12施行一定时间的加热处理的加热手段40、及保持在规定的形状的状态下将加热处理后的上述图像记录载体卷材12冷却到上述玻璃转变温度以下的冷却手段42。加热手段40包括利用感应加热的加热辊60、及能够配置在相对于该加热辊60的外周的任意角度位置上的保持辊70a、70b。由此，能够不受传送速度等影响、并以简单的构成可靠地去除图像记录载体卷材12的卷曲。
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公开(公告)号：CN100365502C
公开(公告)日：2008-01-30
申请号：CN03110185.2
申请日：2003-04-15
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: G03C5/60 , B41M5/288 , G03C11/02 , Y10S430/146
Abstract: 通过在X光胶片上照射激光束，其中X光胶片中包含设有感光乳剂层的载体层，可以熔化感光乳剂层，在感光乳剂层中产生大量微小气泡，并且使感光乳剂层变成凸面，从而形成可见点图案。选择照射时间和激光束的波长，使得在载体层与感光乳剂层之间不产生分离。通过散焦和照射激光束，X光胶片可以基本上均匀地接收激光束的能量。另外，还可形成底面层，并且可在底面层上照射激光束而在底面层上形成点图案。本发明公开了一种装置和一种方法，用于在卷式感光材料上形成代表识别信息的标记图案，并将感光材料切割成片材。
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公开(公告)号：CN102191478B
公开(公告)日：2015-09-02
申请号：CN201110054321.6
申请日：2011-03-04
Applicant: 富士胶片株式会社
Inventor： 西田弘幸
IPC: C23C16/34 , C23C16/455
CPC classification number: C23C16/545 , C23C16/345 , C23C16/455 , C23C16/45565 , C23C16/45587 , C23C16/45591 , C23C16/509 , C23C16/52 , C23C16/54 , C23C30/00 , Y10T428/24992
Abstract: 本发明提供阻气膜，膜沉积方法和膜沉积设备。所述阻气膜包含：基底膜；和沉积在所述基底膜的表面上的氮化硅层，其中在所述氮化硅层的厚度方向上，所述氮化硅层的更靠近基底膜侧并且具有所述氮化硅层的20％厚度的区域的第一平均密度低于与所述基底膜相反侧并且具有所述氮化硅层的20％厚度的区域的第二平均密度，并且具有所述氮化硅层的20％厚度的中间区域的第三平均密度介于所述第一平均密度和所述第二平均密度之间。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102191478A
公开(公告)日：2011-09-21
申请号：CN201110054321.6
申请日：2011-03-04
Applicant: 富士胶片株式会社
Inventor： 西田弘幸
IPC: C23C16/34 , C23C16/455
CPC classification number: C23C16/545 , C23C16/345 , C23C16/455 , C23C16/45565 , C23C16/45587 , C23C16/45591 , C23C16/509 , C23C16/52 , C23C16/54 , C23C30/00 , Y10T428/24992
Abstract: 本发明提供阻气膜，膜沉积方法和膜沉积设备。所述阻气膜包含：基底膜；和沉积在所述基底膜的表面上的氮化硅层，其中在所述氮化硅层的厚度方向上，所述氮化硅层的更靠近基底膜侧并且具有所述氮化硅层的20％厚度的区域的第一平均密度低于与所述基底膜相反侧并且具有所述氮化硅层的20％厚度的区域的第二平均密度，并且具有所述氮化硅层的20％厚度的中间区域的第三平均密度介于所述第一平均密度和所述第二平均密度之间。
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公开(公告)号：CN100379566C
公开(公告)日：2008-04-09
申请号：CN200410035120.1
申请日：2004-04-23
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: B41J2/44
CPC classification number: G03C1/4989 , B41M5/26 , G03C1/498 , G03C11/02 , G03C2200/39
Abstract: 当使用波长为9.3μm或9.6μm的激光束时，作为激光束照射时间的脉冲宽度t(μsec)和在X射线胶片上的激光束能量密度E(kw/cm2)如此设定，以便它们基于在线段(A1)和(A2)之间的区域(A)满足要求。而且当使用诸如10.6μm的10微米波段的波长的激光束时，脉冲宽度和能量密度如此设定，以便它们基于在线段(B1)和(B2)之间的区域(B)满足要求。结果，由于脉冲宽度t在等于或大于3μsec并且小于30μsec的范围内，因此在提高X射线胶片生产率的同时能够形成具有优良可见度的高质量打标图案。
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公开(公告)号：CN101750421B
公开(公告)日：2014-10-01
申请号：CN200910260476.8
申请日：2009-12-15
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G01N21/892
Abstract: 本发明提供用于制备层压体的方法。所述用于制备层压体的方法包括：膜形成步骤，用于在支持体(110)上形成具有一个或多个层的薄膜(120，160)，以获得薄膜；缺陷覆盖层(130，170)形成步骤，用于通过CVD在薄膜(120，160)上形成缺陷覆盖层(130，170)；和检查步骤，用于透过缺陷覆盖层(130，170)的顶部检测尺寸为0.1μm以上且20μm以下的缺陷(180)。该方法能够制备具有较少缺陷的层压体，其有效地允许检测细小缺陷。
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公开(公告)号：CN101750421A
公开(公告)日：2010-06-23
申请号：CN200910260476.8
申请日：2009-12-15
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G01N21/892
Abstract: 本发明提供用于制备层压体的方法。所述用于制备层压体的方法包括：膜形成步骤，用于在支持体(110)上形成具有一个或多个层的薄膜(120，160)，以获得薄膜；缺陷覆盖层(130，170)形成步骤，用于通过CVD在薄膜(120，160)上形成缺陷覆盖层(130，170)；和检查步骤，用于透过缺陷覆盖层(130，170)的顶部检测尺寸为0.1μm以上且20μm以下的缺陷(180)。该方法能够制备具有较少缺陷的层压体，其有效地允许检测细小缺陷。
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公开(公告)号：CN100398329C
公开(公告)日：2008-07-02
申请号：CN200310104410.2
申请日：2003-10-28
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: B41J2/455
CPC classification number: G03C1/4989 , B23K26/0734 , B41J2/442 , G03C5/16 , G03C2005/168
Abstract: 一种激光打印方法，该法通过本公开的打印装置对感光性热显影感光材料X光片照射激光束，使表面层的内部熔融而产生空洞，形成使表面成为凸状的点。此时，对应于控制表面层熔融的激光束的照射时间进行控制。在打印装置中，在停止了X光片输送时，使激光发射管的发射继续到规定的时间为止，在该停止为短时间时，控制其可迅速地开始打印。
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