通风型消音器
    1.
    发明公开
    通风型消音器 审中-实审

    公开(公告)号:CN118235002A

    公开(公告)日:2024-06-21

    申请号:CN202280071243.7

    申请日:2022-09-21

    Abstract: 本发明提供一种通风型消音器,其为通风型的消音器,能够从扩张部内排水,并且能够抑制风噪声的产生。一种通风型消音器,其具有:入口侧通气管、与入口侧通气管连通且截面积比入口侧通气管大的扩张部、与扩张部连通且截面积比扩张部小的出口侧通气管;开口部结构,在扩张部的与入口侧通气管的连接部及与出口侧通气管的连接部中的至少一个中,截面积从连接部朝向扩张部内逐渐扩大;及吸音材料,至少配置于扩张部的内周面与开口部结构的前端之间,开口部结构在周面的一部分从前端朝向根侧具有切入部,切入部的宽度从根侧朝向前端逐渐扩大。

    通风型消音器
    2.
    发明公开
    通风型消音器 审中-实审

    公开(公告)号:CN118160029A

    公开(公告)日:2024-06-07

    申请号:CN202280071468.2

    申请日:2022-09-21

    Abstract: 本发明提供一种通风型消音器,其为通风型的消音器,即使在通风型消音器内部中流动的气体的流速快的情况下,也能够减少压力损失。一种通风型消音器,其具有:入口侧通气管;扩张部,与入口侧通气管连通且截面积比入口侧通气管大;及出口侧通气管,与扩张部连通且截面积比扩张部小,在将扩张部的内部中的中心侧的表面的算术平均高度设为Sa(μm),将扩张部的与入口侧通气管的连接部及扩张部的与出口侧通气管的连接部中的至少一个中的通气管内壁与中心侧的表面的阶梯差的平均值设为d(μm)时,阶梯差d满足式(1):d≥100μm,并且在算术平均高度Sa为50μm以下的情况下,满足式(2):d≤25×Sa+193μm,在算术平均高度Sa超过50μm的情况下,满足式(3):d≤1450μm。

    防反射膜、光学元件、防反射膜的制造方法及微细凹凸结构的形成方法

    公开(公告)号:CN112740081B

    公开(公告)日:2022-08-26

    申请号:CN201980061244.1

    申请日:2019-08-27

    Abstract: 本发明提供一种能够容易制作且具有更良好的防反射性的防反射膜、具备防反射膜的光学元件、防反射膜的制造方法及微细凹凸结构的形成方法。重复进行多次如下工序:薄膜形成工序,在基材上的成膜面形成包含铝的薄膜;及温水处理工序,通过对薄膜实施温水处理来形成由以氧化铝的水合物为主成分的板状晶体构成的微细凹凸结构。由此,得到包括如下微细凹凸层的防反射膜,该微细凹凸层具有在从作为表面的凸部前端朝向基材侧的厚度方向上逐渐变化且在最靠基材侧的界面处成为最大值的折射率分布,表面的折射率为1.01以下,当将作为防反射对象的光的波长区域中的最长的波长设为λmax时,从表面至沿厚度方向100nm为止的第1折射率梯度为0.4/λmax以下。

    防反射膜及光学部件
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN111902739B

    公开(公告)日:2022-05-13

    申请号:CN201880091646.1

    申请日:2018-12-20

    Abstract: 本发明提供一种环境耐久性优异的防反射膜及光学部件。防反射膜具备配置于基材侧的电介质多层膜及层叠设置于电介质多层膜的以水合氧化铝为主要成分的微细凹凸层。电介质多层膜由具有相对高的折射率的高折射率层和具有相对低的折射率的低折射率层的交替层构成,电介质多层膜作为高折射率层及低折射率层中的1个层而包含由氮化硅构成的阻挡层,阻挡层的密度为2.7g/cm3以上且厚度为15nm以上且150nm以下。

    防反射膜、光学元件、防反射膜的制造方法及微细凹凸结构的形成方法

    公开(公告)号:CN112740081A

    公开(公告)日:2021-04-30

    申请号:CN201980061244.1

    申请日:2019-08-27

    Abstract: 本发明提供一种能够容易制作且具有更良好的防反射性的防反射膜、具备防反射膜的光学元件、防反射膜的制造方法及微细凹凸结构的形成方法。重复进行多次如下工序:薄膜形成工序,在基材上的成膜面形成包含铝的薄膜;及温水处理工序,通过对薄膜实施温水处理来形成由以氧化铝的水合物为主成分的板状晶体构成的微细凹凸结构。由此,得到包括如下微细凹凸层的防反射膜,该微细凹凸层具有在从作为表面的凸部前端朝向基材侧的厚度方向上逐渐变化且在最靠基材侧的界面处成为最大值的折射率分布,表面的折射率为1.01以下,当将作为防反射对象的光的波长区域中的最长的波长设为λmax时,从表面至沿厚度方向100nm为止的第1折射率梯度为0.4/λmax以下。

    光学薄膜、光学元件、光学系统及光学薄膜的制造方法

    公开(公告)号:CN110476088B

    公开(公告)日:2021-02-19

    申请号:CN201880021859.7

    申请日:2018-02-01

    Abstract: 本发明提供一种具备平坦的超薄膜的含银金属层的光学薄膜及其制造方法、及具备光学薄膜的光学元件、以及具备该光学元件的光学系统。设为如下光学薄膜:从基材侧依次层叠中间层、含有银的含银金属层及电介质层而成,在中间层与含银金属层之间具备Hamaker常数为7.3×10‑20J以上的锚金属扩散控制层,在锚金属扩散控制层与含银金属层之间具备包含锚金属的氧化物的锚区域,该锚金属具有小于含银金属层的表面能且比锚金属扩散控制层的表面能大的表面能,在含银金属层与电介质层之间具备包含锚金属的氧化物的罩体区域,含银金属层、锚区域及罩体区域的总计膜厚为6nm以下。

    光学薄膜、光学元件、光学系统及光学薄膜的制造方法

    公开(公告)号:CN110476088A

    公开(公告)日:2019-11-19

    申请号:CN201880021859.7

    申请日:2018-02-01

    Abstract: 本发明提供一种具备平坦的超薄膜的含银金属层的光学薄膜及其制造方法、及具备光学薄膜的光学元件、以及具备该光学元件的光学系统。设为如下光学薄膜:从基材侧依次层叠中间层、含有银的含银金属层及电介质层而成,在中间层与含银金属层之间具备Hamaker常数为7.3×10-20J以上的锚金属扩散控制层,在锚金属扩散控制层与含银金属层之间具备包含锚金属的氧化物的锚区域,该锚金属具有小于含银金属层的表面能且比锚金属扩散控制层的表面能大的表面能,在含银金属层与电介质层之间具备包含锚金属的氧化物的罩体区域,含银金属层、锚区域及罩体区域的总计膜厚为6nm以下。

    消音结构体及消音系统
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116806352A

    公开(公告)日:2023-09-26

    申请号:CN202280012766.4

    申请日:2022-01-11

    Abstract: 课题在于提供一种低频区域的吸音率高的消音结构体及消音系统。一种消音结构体,其设置于管状部件,消音结构体具有空腔部、连通空腔部与管状部件的开口部、以及在与开口部相对的位置堵塞空腔部的堵塞部,空腔部的开口部侧的截面积比空腔部的堵塞部侧的截面积大。

    光学薄膜、光学元件及光学系统

    公开(公告)号:CN111656226B

    公开(公告)日:2021-12-24

    申请号:CN201880087849.3

    申请日:2018-11-29

    Abstract: 本发明提供一种具备平坦的超薄膜的含银金属层的光学薄膜及其制造方法、以及具备光学薄膜的光学元件、及具备其光学元件的光学系统。一种光学薄膜,其设置在基材上,所述光学薄膜中,从基材侧起依次具备中间层、含有银的含银金属层及电介质层,含银金属层的中间层侧的界面区域具备包含锚金属的氧化物的锚区域,含银金属层的电介质层侧的界面区域具备包含锚金属的氧化物的罩体区域,包含锚区域及罩体区域的含银金属层的膜厚为6nm以下,含银金属层含有标准电极电位高于银的金属即高标准电极电位金属,并且,在含银金属层的膜厚方向上,高标准电极电位金属的浓度分布的峰值位置比银的浓度分布的峰值位置更靠中间层侧。

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