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公开(公告)号：CN1287911C
公开(公告)日：2006-12-06
申请号：CN02143701.7
申请日：2002-09-28
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: B05C1/0839 , B05C1/0813 , B05C1/0826 , B05C11/025 , G03C1/74
Abstract: 本发明公开了一种涂覆装置和一种涂覆方法。涂覆装置包括一个涂覆站，其用于向连续运行的带状基片上涂覆涂覆液，以及一个涂层调节站，其布置在涂覆站下游，用于调节基片上的涂覆液，以使涂覆液层以预定厚度涂覆在基片上。涂覆站和涂层调节站分别包括用于涂覆和计量调节涂覆液的第一和第二杆。涂覆液可以以均匀和稳定的方式涂覆，即使涂覆操作是在基片高速运行的条件下实施的。
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公开(公告)号：CN1408483A
公开(公告)日：2003-04-09
申请号：CN02143701.7
申请日：2002-09-28
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: B05C1/0839 , B05C1/0813 , B05C1/0826 , B05C11/025 , G03C1/74
Abstract: 本发明公开了一种涂覆装置和一种涂覆方法。涂覆装置包括一个涂覆站，其用于向连续运行的带状基片上涂覆涂覆液，以及一个涂层调节站，其布置在涂覆站下游，用于调节基片上的涂覆液，以使涂覆液层以预定厚度涂覆在基片上。涂覆站和涂层调节站分别包括用于涂覆和计量调节涂覆液的第一和第二杆。涂覆液可以以均匀和稳定的方式涂覆，即使涂覆操作是在基片高速运行的条件下实施的。
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公开(公告)号：CN100471582C
公开(公告)日：2009-03-25
申请号：CN02131658.9
申请日：2002-09-12
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: B05C1/0839 , B05C1/0826 , B05C1/0847 , B05C1/0856 , G03C1/74
Abstract: 一种杆式涂覆装置包括：涂杆，其用于接触沿恒定方向输送着的涂覆对象，从而向涂覆对象上施加涂覆液，并将多余的涂覆液从涂覆对象上去除；拦截件，其用于在涂覆对象和涂杆之间形成涂覆液的液珠，所述拦截件沿涂覆对象的输送方向布置在涂杆上游；按压件，其用于从与涂杆相反的一侧按压涂覆对象，所述按压件邻近于涂杆布置；以及移动装置，其用于沿涂覆对象的厚度方向移动按压件。
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公开(公告)号：CN1408482A
公开(公告)日：2003-04-09
申请号：CN02131658.9
申请日：2002-09-12
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: B05C1/0839 , B05C1/0826 , B05C1/0847 , B05C1/0856 , G03C1/74
Abstract: 一种杆式涂覆装置包括：涂杆，其用于接触沿恒定方向输送着的涂覆对象，从而向涂覆对象上施加涂覆液，并将多余的涂覆液从涂覆对象上去除；拦截件，其用于在涂覆对象和涂杆之间形成涂覆液的液珠，所述拦截件沿涂覆对象的输送方向布置在涂杆上游；按压件，其用于从与涂杆相反的一侧按压涂覆对象，所述按压件邻近于涂杆布置；以及移动装置，其用于沿涂覆对象的厚度方向移动按压件。
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