公开(公告)号：CN116940717A

公开(公告)日：2023-10-24

申请号：CN202280018028.0

申请日：2022-01-24

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 泽田宏和 ,  野田浩之 ,  川谷泰弘

IPC: C25D11/24

Abstract: 本发明提供一种与电极材料的密合性高且与电极材料的接触电阻小的集电体用铝基材、电容器、二次电池及集电体用铝基材的制造方法。将通过X射线光电子能谱法测定时的、存在于表层10nm以内的金属Al、Al2O3、Al(OH)3、AlO(OH)的峰面积比依次设为A、B、C、D时，具有(C+D)/(A+B+C+D)为0.5以上且1以下并且C/D为0.1以上且2以下的面。

公开(公告)号：CN115482747A

公开(公告)日：2022-12-16

申请号：CN202210601855.4

申请日：2022-05-30

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 鬼塚悠 ,  川谷泰弘 ,  下谷启

IPC: G09F9/33 ,  G03F7/09

Abstract: 本发明提供(1)形成不易产生崩塌及变形的图案且用于制造显示面板用基材的转印膜；(2)形成具有高纵横比的图案且用于制造显示面板用基材的转印膜；及(3)它们的应用。还提供(1)具有临时支承体及包含感光性层的转印层，曝光后的上述感光性层的软化温度为300℃以上的用于制造显示面板用基材的转印膜；(2)具有临时支承体及包含感光性层的转印层，上述感光性层在感光波长的透射率为30％以上的用于制造显示面板用基材的转印膜；及(3)它们的应用。