公开(公告)号：CN104395825A

公开(公告)日：2015-03-04

申请号：CN201380033027.4

申请日：2013-06-27

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 加藤啓太 ,  白川三千纮 ,  涩谷明规 ,  后藤研由 ,  片冈祥平 ,  松田知树

IPC: G03F7/038 ,  C07C309/09 ,  C07C381/12 ,  C08F220/18 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03F7/32

CPC classification number: G03F7/004 ,  C08F220/26 ,  C08F220/38 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/325

Abstract: 所提供的是一种形成图案的方法，所述方法包括：形成包含光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物的膜，所述光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物包含含有下列通式(I)的重复单元中的任一个的树脂(A)，所述树脂在酸的作用下降低其在包含有机溶剂的显影液中的溶解性，以及通过下列通式(B-1)至(B-3)中的任一个表示的化合物(B)，所述化合物当暴露于光化射线或辐射时产生酸；将所述膜暴露于光化射线或辐射；以及用包含有机溶剂的显影液将经曝光的膜显影从而获得负型图案。

公开(公告)号：CN104395825B

公开(公告)日：2019-08-16

申请号：CN201380033027.4

申请日：2013-06-27

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 加藤啓太 ,  白川三千纮 ,  涩谷明规 ,  后藤研由 ,  片冈祥平 ,  松田知树

IPC: G03F7/038 ,  C07C309/09 ,  C07C381/12 ,  C08F220/18 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03F7/32

CPC classification number: G03F7/004 ,  C08F220/26 ,  C08F220/38 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/325

Abstract: 所提供的是一种形成图案的方法，所述方法包括：形成包含光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物的膜，所述光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物包含含有下列通式(I)的重复单元中的任一个的树脂(A)，所述树脂在酸的作用下降低其在包含有机溶剂的显影液中的溶解性，以及通过下列通式(B‑1)至(B‑3)中的任一个表示的化合物(B)，所述化合物当暴露于光化射线或辐射时产生酸；将所述膜暴露于光化射线或辐射；以及用包含有机溶剂的显影液将经曝光的膜显影从而获得负型图案。